| 研究課題/領域番号 |
15H03808
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
合成化学
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| 研究機関 | 公益財団法人名古屋産業科学研究所 (2016-2017)
名古屋大学 (2015) |
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研究代表者 |
西山 久雄 公益財団法人名古屋産業科学研究所, 研究部, 研究員 (40135421)
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| 研究分担者 |
伊藤 淳一 名古屋大学, 工学研究科, 講師 (20402480)
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| 研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2018-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2017年度)
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| 配分額 *注記 |
17,160千円 (直接経費: 13,200千円、間接経費: 3,960千円)
2017年度: 4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円)
2016年度: 4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円)
2015年度: 7,280千円 (直接経費: 5,600千円、間接経費: 1,680千円)
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| キーワード | 有機合成 / 不斉合成 / 触媒 / 有機金属化学 / 光学活性化合物 / 合成化学 / 触媒化学 / 計算化学 |
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| 研究成果の概要 |
新規な窒素系複合多座配位子の創製により、有機合成的に有用な不斉合成法の開発を目標にした。本研究では、光学活性ビスオキサゾリン類およびびビナフトール結合フェナントロリン誘導体を設計合成し、種々の不斉反応に利用したところ高収率・高エナンチオ選択性で目的有機化合物の合成に成功した。具体的には、共役還元シリル化による４級炭素を含むシクロヘキセン誘導体合成、オレフィン類のジボリル化を経由する1,2-ジオール合成、2-ヒドロキシオキシインドール誘導体の合成、光学活性ケイ素化合物の合成などが挙げられる。合わせて理論計算によって触媒サイクルおける遷移状態について明らかにした。
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