| 研究課題/領域番号 |
15H03927
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
熱工学
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
鈴木 雄二 東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 教授 (80222066)
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| 研究分担者 |
范 勇 東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 助教 (40748662)
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| 連携研究者 |
森本 賢一 東京大学, 大学院工学系研究科, 講師 (90435777)
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| 研究協力者 |
丸田 薫
齋木 悠
ジュ イグアン
ドイチマン オラフ
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| 研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2018-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2017年度)
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| 配分額 *注記 |
17,030千円 (直接経費: 13,100千円、間接経費: 3,930千円)
2017年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
2016年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
2015年度: 12,350千円 (直接経費: 9,500千円、間接経費: 2,850千円)
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| キーワード | 燃焼 / 壁面効果 / 表面反応 / LIF / 冷炎 / 化学吸着 / weak flame / ラジカル / 化学的消炎 / MEMS |
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| 研究成果の概要 |
壁面は，流体力学的・熱的な境界条件を規定することによって火炎に影響を及ぼしているが，同時に壁面の化学的境界条件も大きな影響因子である．化学的境界条件は表面反応に依存し，ラジカルの吸着による化学的消炎，ラジカルの脱離による気相反応・自着火促進などを通じて，燃焼場において重要な役割を果たすことが近年明らかになりつつある．本研究では，壁面の化学種を変化させた場合の壁近傍の燃焼機構を，火炎温度・ラジカル分布の顕微PLIF計測，ラジカルの放電生成による非燃焼場での表面反応計測，気相詳細反応と表面反応を組み込んだ数値解析を用いて詳細に検討し，火炎と壁面の熱的・化学的な干渉効果の物理現象を明らかにした．
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