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巨大複合クラスターによる高速・無損傷表面処理加工技術の開発

研究課題

研究課題/領域番号 15H04157
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 材料加工・組織制御工学
研究機関京都大学

研究代表者

瀬木 利夫  京都大学, 工学研究科, 講師 (00402975)

研究期間 (年度) 2015-04-01 – 2018-03-31
研究課題ステータス 完了 (2017年度)
配分額 *注記
14,040千円 (直接経費: 10,800千円、間接経費: 3,240千円)
2017年度: 3,380千円 (直接経費: 2,600千円、間接経費: 780千円)
2016年度: 5,720千円 (直接経費: 4,400千円、間接経費: 1,320千円)
2015年度: 4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円)
キーワードクラスター / イオンビーム / 中性ビーム / 反応性エッチング / ナノプロセス / 表面処理 / 複合ビーム
研究成果の概要

京都大学発の独創技術であるガスクラスター生成技術を活用し、材料ガスへのHe混合による巨大クラスター初期速度制御等による巨大複合クラスターイオンの形成と加速制御技術の開発を行った。これにより0.1~0.4eV/atom程度の範囲でエネルギー制御された巨大複合クラスタービーム形成技術の開発に成功した。

報告書

(2件)
  • 2017 研究成果報告書 ( PDF )
  • 2015 実績報告書
  • 研究成果

    (2件)

すべて 2015

すべて 学会発表 (2件) (うち国際学会 1件)

  • [学会発表] Reactive etching with ClF3-Ar neutral cluster beam2015

    • 著者名/発表者名
      T.Seki, M. Kusakari, M. Fujii, T. Aoki and J. Matsuo
    • 学会等名
      The 37th International Symposium on Dry Process
    • 発表場所
      Awaji Yumebutai International Conference Center, Hyogo, Japan
    • 年月日
      2015-11-05
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] ClF3 中性クラスタービームによる斜めエッチング2015

    • 著者名/発表者名
      214.瀬木 利夫,山本 洋揮,古澤 孝弘,吉野 裕,妹尾 武彦,小池 国彦,青木 学聡,松尾 二郎
    • 学会等名
      第76回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場、愛知県
    • 年月日
      2015-09-14
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書

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公開日: 2015-04-16   更新日: 2025-01-30  

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