研究課題/領域番号 |
15H06501
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研究種目 |
研究活動スタート支援
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配分区分 | 補助金 |
研究分野 |
熱工学
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研究機関 | 長崎大学 |
研究代表者 |
近藤 智恵子 長崎大学, 工学研究科, 准教授 (50752870)
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研究期間 (年度) |
2015-08-28 – 2017-03-31
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研究課題ステータス |
完了 (2016年度)
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配分額 *注記 |
2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
2016年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2015年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
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キーワード | 低GWP冷媒 / 電子機器冷却 / 超親水 / レーザ加工 / 沸騰冷却 / CPU冷却器 / 超親水面 / CPU冷却 / 熱マネージメント / 高集積サーバ冷却 / 半導体冷却 / パワーモジュール冷却 / 相変化型オンチップ冷却器 |
研究成果の概要 |
電子機器の急速な高性能化に伴い半導体素子からの発熱密度が増加し続けており,除熱性能を飛躍的に向上するため,相変化型冷却器が導入されつつある.冷媒は熱輸量が大きい,沸騰熱伝達率が高いなど,作動流体としての利点が多い.本論では自然循環式冷却器を用い,作動流体にR1234ze(E),R1234ze(Z)を用いた場合の性能を実験的に評価した.R1234ze(E),R1234ze(Z)の安全作動領域をそれぞれ,1250,1110 kWm-2まで拡大出来る事を示した.以上に対し,レーザ加工を施した沸騰伝熱面を使用することによって,安全作動領域をさらに1400,1350 kWm-2へ拡大出来る事を実証した.
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