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トポタクティックフッ素化反応を基軸とした透明導電体材料の探索

研究課題

研究課題/領域番号 15H06901
研究種目

研究活動スタート支援

配分区分補助金
研究分野 構造・機能材料
研究機関東京工業大学 (2016)
公益財団法人神奈川科学技術アカデミー (2015)

研究代表者

重松 圭  東京工業大学, 科学技術創成研究院, 特任助教 (40754578)

研究期間 (年度) 2015-08-28 – 2017-03-31
研究課題ステータス 完了 (2016年度)
配分額 *注記
2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
2016年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2015年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
キーワード酸化物薄膜 / パルスレーザー堆積法 / トポタクティック反応 / 酸化物 / アモルファス半導体 / 固体化学 / 薄膜 / エレクトロニクス / 複アニオン酸化物 / 透明導電膜 / アニオン複合酸化物
研究成果の概要

本研究では、透明導電膜の新奇合成プロセスの探索という観点からアモルファス亜鉛系薄膜のトポタクティックフッ素化を行った。その結果、前駆体の酸素欠損量にかかわらず、フッ素化がごく表面で停止する結果が見出され、酸素欠損量以外にフッ素化反応に影響するファクターの存在が示唆された。また、Ga置換したアモルファスZn酸窒化物薄膜の研究を行った。条件探索の結果、Ga1%を置換したアモルファス薄膜が得られ、バンドギャップの増大とキャリア濃度の低下が確認された。また、ノンドープZnONでみられる薄膜からの窒素抜けがGa導入により抑制され、電気伝導率がより長い期間維持され薄膜の安定性の向上が確認された。

報告書

(3件)
  • 2016 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2015 実績報告書
  • 研究成果

    (4件)

すべて 2016 2015

すべて 雑誌論文 (2件) (うち国際共著 2件、 査読あり 2件、 謝辞記載あり 2件) 学会発表 (2件)

  • [雑誌論文] Amorphous ZnOxNy thin films with high electron Hall mobility exceeding 200 cm2 V-1 s-12016

    • 著者名/発表者名
      Takanori Yamazaki, Kei Shigematsu, Yasushi Hirose, Shoichiro Nakao, Isao Harayama, Daiichiro Sekiba, Tetsuya Hasegawa
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 109 号: 26 ページ: 262101-262101

    • DOI

      10.1063/1.4973203

    • NAID

      120007135036

    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著 / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Suppressed grain-boundary scattering in atomic layer deposited Nb: TiO2 thin films2015

    • 著者名/発表者名
      JP Niemela, Y Hirose, K Shigematsu, M Sano, T Hasegawa, M Karppinen
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 107 号: 19 ページ: 192102-192102

    • DOI

      10.1063/1.4935425

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著 / 謝辞記載あり
  • [学会発表] アモルファス半導体ZnON薄膜へのカチオン添加効果2016

    • 著者名/発表者名
      重松 圭、山﨑 崇範、中尾 祥一郎、廣瀬 靖、長谷川 哲也
    • 学会等名
      第77回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      朱鷺メッセ
    • 年月日
      2016-09-13
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] Sr2MgMoO6-δ / KTaO3 (100)における金属的電気伝導2015

    • 著者名/発表者名
      重松 圭、中尾 祥一郎、近松 彰、廣瀬 靖、長谷川 哲也
    • 学会等名
      第76回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場
    • 年月日
      2015-09-13
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書

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公開日: 2015-08-26   更新日: 2018-03-22  

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