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ゲルマニウム基板上へのバリウムシリサイド薄膜太陽電池作製とガラス基板上への展開

研究課題

研究課題/領域番号 15J02139
研究種目

特別研究員奨励費

配分区分補助金
応募区分国内
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関筑波大学

研究代表者

髙部 涼太  筑波大学, 数理物質科学研究科, 特別研究員(DC1)

研究期間 (年度) 2015-04-24 – 2018-03-31
研究課題ステータス 完了 (2017年度)
配分額 *注記
2,800千円 (直接経費: 2,800千円)
2017年度: 900千円 (直接経費: 900千円)
2016年度: 900千円 (直接経費: 900千円)
2015年度: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円)
キーワード太陽電池 / シリサイド半導体 / 分子線エピタキシー / 点欠陥 / 表面パッシベーション / 硬X線光電子分光
研究実績の概要

本年度は、BaSi2太陽電池の更なる高効率化に向け、光吸収層の高品質化を行った。一般に、多元素を同時供給する化合物半導体の成長では、それぞれの堆積レート比が結晶の諸特性に大きな影響を与えることが知られている。よって、高品質な化合物薄膜太陽電池を作製するうえで、それぞれの原子比を制御することが重要である。そこで、BaとSiの堆積レート比RBa/RSiを変えたBaSi2/Si(111)を作製し、結晶性や電気・光学特性を評価することで、BaSi2 pnホモ接合作製に向けた光吸収層の高品質化を目指した。
まず、X線回折と反射高速電子回折により、RBa/RSiが1.0から5.1までの範囲でBaSi2がエピタキシャル成長することを確認した。次に、分光感度測定を行った結果、RBa/RSiの変化に対して分光感度スペクトルが敏感に変化し、RBa/RSi=2.2の試料で分光感度が最大になった。また、キャリア密度を測定したところ、RBa/RSi=2.2に近付くごとに電子密度が減少し、RBa/RSi=2.0~2.6の試料ではn型伝導からp型伝導に変化した。また、最少のホール密度は1×10^15 cm-3であり、従来のキャリア密度よりも一桁程度小さい値であった。更に、第一原理計算により、BaSi2中のSi空孔がバンドギャップ中に局在準位を形成し、ドナーとして働きうることが予測された。よって、MBE成長中のRBa/RSiが最適値から外れたときにSi空孔が生成され、それらがドナー不純物として働いていると考えられる。また、RBa/RSiが2.0~2.6の範囲でBaSi2の伝導型がn型からp型に変わった理由は、Si空孔等の密度がSi基板に残留していた汚染B密度を下回ったために起こったと考えている。以上より、BaSi2太陽電池の特性改善のためには、RBa/RSiを精密に制御することが重要であることが分かった。

現在までの達成度 (段落)

29年度が最終年度であるため、記入しない。

今後の研究の推進方策

29年度が最終年度であるため、記入しない。

報告書

(3件)
  • 2017 実績報告書
  • 2016 実績報告書
  • 2015 実績報告書
  • 研究成果

    (22件)

すべて 2018 2017 2016 2015

すべて 雑誌論文 (5件) (うち国際共著 1件、 査読あり 5件、 謝辞記載あり 4件) 学会発表 (17件) (うち国際学会 7件、 招待講演 1件)

  • [雑誌論文] Impact of Ba to Si deposition rate ratios during molecular beam epitaxy on carrier concentration and spectral response of BaSi2 epitaxial films2018

    • 著者名/発表者名
      Ryota Takabe, Tianguo Deng, Komomo Kodama, Yudai Yamashita, Takuma Sato, Kaoru Toko, and Takashi Suemasu
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics

      巻: 123 号: 4

    • DOI

      10.1063/1.4994850

    • NAID

      120007134087

    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Growth of BaSi2 continuous films on Ge(111) by molecular beam epitaxy and fabrication of p-BaSi2/n-Ge heterojunction solar cells2017

    • 著者名/発表者名
      Ryota Takabe, Suguru Yachi, Daichi Tsukahara, Kaoru Toko, and Takashi Suemasu
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 56 号: 5S1 ページ: 05DB02-05DB02

    • DOI

      10.7567/jjap.56.05db02

    • NAID

      120007134350

    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Evaluation of band offset at amorphous-Si/BaSi2 interfaces by hard x-ray photoelectron spectroscopy2016

    • 著者名/発表者名
      Ryota Takabe, Hiroki Takeuchi, Weijie Du, Keita Ito, Kaoru Toko, Shigenori Ueda,5 Akio Kimura, and Takashi Suemasu
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics

      巻: 119 号: 16 ページ: 165304-165304

    • DOI

      10.1063/1.4947501

    • NAID

      120007129572

    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Influence of air exposure duration and a-Si capping layer thickness on the performance of p-BaSi2/n-Si heterojunction solar cells2016

    • 著者名/発表者名
      Ryota Takabe, Suguru Yachi, Weijie Du, Daichi Tsukahara, Hiroki Takeuchi, Kaoru Toko, and Takashi Suemasu
    • 雑誌名

      AIP ADVANCES

      巻: 6 号: 8 ページ: 085107-085107

    • DOI

      10.1063/1.4961063

    • NAID

      120007129374

    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著 / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Measurement of valence-band offset at native oxide/BaSi2 interfaces by hard x-ray photoelectron spectroscopy2016

    • 著者名/発表者名
      R. Takabe, W. Du, K. Ito, H. Takeuchi, K. Toko, S. Ueda, A. Kimura, and T. Suemasu
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics

      巻: 119 号: 2 ページ: 0253061-5

    • DOI

      10.1063/1.4939614

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [学会発表] Ba/Si フラックス比を変えて作製したSi(111)基板上undoped n-BaSi2 エピタキシャル膜の評価2017

    • 著者名/発表者名
      髙部 涼太, 谷内 卓, 都甲 薫, 末益 崇
    • 学会等名
      第64回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(神奈川県横浜市)
    • 年月日
      2017-03-14
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Impact of Ba/Si flux ratio during molecular beam epitaxy growth on the characteristics of BaSi2 epitaxial films on Si(111)2017

    • 著者名/発表者名
      R. Takabe, T. Deng, K. Kodama, Y. Yamashita, K. Toko, and T. Suemasu
    • 学会等名
      27th International Photovoltaic Science and Engineering Conference
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Ba/Siフラックス比がundoped BaSi2膜の電気特性に与える効果2017

    • 著者名/発表者名
      髙部 涼太, T. Deng, 小玉 小桃, 山下 雄大, 都甲 薫, 末益 崇
    • 学会等名
      第78回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
  • [学会発表] MBE成長中のBa/Siフラックス比がBaSi2エピタキシャル膜に与える影響2017

    • 著者名/発表者名
      髙部 涼太, T. Deng, 小玉 小桃, 山下 雄大, 都甲 薫, 末益 崇
    • 学会等名
      第14回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
  • [学会発表] Ba/Siフラックス比の異なるundoped BaSi2/Si(111)のMBE成長2017

    • 著者名/発表者名
      髙部 涼太,T. Deng,小玉 小桃,山下 雄大,都甲 薫,末益 崇
    • 学会等名
      第17回シリサイド系半導体夏の学校
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
  • [学会発表] 大気暴露時間およびa-Si キャップ層の膜厚がp-BaSi2/n-Si ヘテロ太陽電池 性能に与える効果2016

    • 著者名/発表者名
      髙部 涼太, 谷内 卓, 都甲 薫, 末益 崇
    • 学会等名
      第77回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      朱鷺メッセ(新潟県新潟市)
    • 年月日
      2016-09-13
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] Recent progress of B-doped p-BaSi2/n-Si heterojunction solar cells2016

    • 著者名/発表者名
      R. Takabe, S. Yachi, K. Toko, and T. Suemasu
    • 学会等名
      AEARU 6th Energy and Environmental Workshop
    • 発表場所
      Multi-Purpose Digital Hall, Tokyo Institute of Technology (Yokohama, Japan)
    • 年月日
      2016-08-25
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 非晶質Siキャップ層によるBaSi2太陽電池特性の改善2016

    • 著者名/発表者名
      髙部 涼太, 谷内 卓, 都甲 薫, 末益 崇
    • 学会等名
      第39回光通信研究会
    • 発表場所
      富士Calm人材開発センター富士研究所(山梨県富士吉田市)
    • 年月日
      2016-08-08
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] Fabrication of B-doped BaSi2 on Ge(111) substrates for p-BaSi2/n-Ge heterojunction solar cells2016

    • 著者名/発表者名
      R. Takabe, S. Yachi, D. Tsukahara, K. Toko, and T. Suemasu
    • 学会等名
      Asia-Pacific Conference on Semiconducting Silicides and Related Materials
    • 発表場所
      Nishijin Plaza, Kyushu University (Fukuoka, Japan)
    • 年月日
      2016-07-16
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Photoresponse measurement of highly oriented BaSi2 films on Ge(111) using solid phase epitaxy templates2016

    • 著者名/発表者名
      R. Takabe, K. Toko, and T. Suemasu
    • 学会等名
      The 43rd International Symposium on Compound Semiconductors
    • 発表場所
      Toyama International Conference Center (Toyama, Japan)
    • 年月日
      2016-06-26
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Band alignments at native oxide/BaSi2 and amorphous-Si/BaSi2 interfaces measured by hard x-ray photoelectron spectroscopy2016

    • 著者名/発表者名
      R. Takabe, H. Takeuchi, W. Du, K. Ito, K. Toko, S. Ueda, A. Kimura, and T. Suemasu
    • 学会等名
      43nd IEEE Photovoltaic Specialists Conference
    • 発表場所
      Oregon Convention Center (Portland, USA)
    • 年月日
      2016-06-05
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 硬X線光電子分光法によるa-Si/BaSi2のバンドアライメント測定2016

    • 著者名/発表者名
      髙部涼太、武内大樹、Weijie Du、伊藤啓太、都甲薫、上田茂典、木村昭夫、末益崇
    • 学会等名
      第63回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東京工業大学 大岡山キャンパス(東京都目黒区)
    • 年月日
      2016-03-19
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] p-BaSi2/n -Si ヘテロ太陽電池作製と今後の展望2016

    • 著者名/発表者名
      髙部 涼太, 谷内 卓, M. Emha Bayu, Y. Li, 都甲 薫, 末益 崇
    • 学会等名
      第28回シリサイド系半導体と関連物質研究会
    • 発表場所
      新潟駅前カルチャーセンター(新潟県新潟市)
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] 硬X線光電子分光法による自然酸化膜/BaSi2のバンドオフセット測定2015

    • 著者名/発表者名
      髙部涼太、伊藤啓太、Weijie Du、都甲薫、上田茂典、木村昭夫、末益崇
    • 学会等名
      第76回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場(愛知県名古屋市)
    • 年月日
      2015-09-13
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] Ge(111)基板上BaSi2エピタキシャル膜の分光感度特性2015

    • 著者名/発表者名
      髙部涼太、馬場正和、Weijie Du、原康祐、都甲薫、宇佐美徳隆、末益崇
    • 学会等名
      第76回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場(愛知県名古屋市)
    • 年月日
      2015-09-13
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] Fabrication and characterization of BaSi2 films on Ge(111) substrates by molecular beam epitaxy2015

    • 著者名/発表者名
      Ryota Takabe, Kaoru Toko, Kosuke O. Hara, Noritaka Usami, and Takashi Suemasu
    • 学会等名
      42nd IEEE Photovoltaic Specialist Conference
    • 発表場所
      New Orleans, USA
    • 年月日
      2015-06-14
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Crystal growth of BaSi2 continuous films on Ge(111) substrate2015

    • 著者名/発表者名
      Ryota Takabe, Kaoru Toko, Kosuke O. Hara, Noritaka Usami, and Takashi Suemasu
    • 学会等名
      The 5th Asia-Africa Sustainable Energy Forum
    • 発表場所
      Tsukuba (Ibaraki, Japan)
    • 年月日
      2015-05-10
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会

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公開日: 2015-11-26   更新日: 2024-03-26  

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