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太陽電池応用に向けた炭素系4族多元混晶薄膜の作製および物性評価

研究課題

研究課題/領域番号 15J11163
研究種目

特別研究員奨励費

配分区分補助金
応募区分国内
研究分野 結晶工学
研究機関名古屋大学

研究代表者

山羽 隆  名古屋大学, 工学研究科, 特別研究員(DC2)

研究期間 (年度) 2015-04-24 – 2017-03-31
研究課題ステータス 採択後辞退 (2016年度)
配分額 *注記
1,700千円 (直接経費: 1,700千円)
2016年度: 800千円 (直接経費: 800千円)
2015年度: 900千円 (直接経費: 900千円)
キーワード太陽電池 / シリコン / スズ / カーボン
研究実績の概要

IV族三元混晶SiSnCは、Sn組成10%以上およびC組成6%以上において、バンドギャップが1.4 eVとなることが予測され、新規太陽電池材料として期待できる。また、混晶組成制御によってバンドギャップおよび格子定数を独立に制御できることから、多接合型太陽電池への応用も期待される。一方、Si中へのSnおよびCの平衡固溶限は0.1%以下と非常に低く、特にSiCにおいては、最大でもC組成3%の報告に留まっている。近年、理論計算により、Si中におけるSn-C結合の安定性が報告されている。また、実験的には、SiSn中へのCイオン中によるSn析出の抑制やSn-C結合の安定性が報告されている。しかし、SiSnCのエピタキシャル成長に関する報告は非常に少ない。本研究では、SiSnC層のエピタキシャル成長を検証し、SnおよびCが混晶薄膜の結晶性に与える影響を評価した。
SiSnC三元混晶のSi基板上へのエピタキシャル成長を行い、そのSnおよびC導入が薄膜の結晶性に与える影響を調べた。Sn導入によりSiCの結晶化温度を低減できることを実証した。また、Sn導入により反射高速電子線回折の結果から積層欠陥由来の回折パターンが消失し、結晶性が向上することを明らかにした。また、平面構造の観察から、C導入量増加に伴い、SiSnC層の表面での析出物が低減し、Sn析出の抑制効果が得られることを明らかにした。5.1%のSn導入によって、平衡固溶限を超える2.5%の格子置換位置C組成を実現した。
また、分光エリプソメトリーの評価から、C組成増大に伴うE1の遷移エネルギーの増加を確認し、エネルギーバンドギャップの拡張を示唆する結果を得た。IV族半導体・接合型太陽電池に向けて、格子整合系・高C組成SiSnC薄膜によるエネルギーバンド構造制御の可能性を見出した。

現在までの達成度 (段落)

翌年度、交付申請を辞退するため、記入しない。

今後の研究の推進方策

翌年度、交付申請を辞退するため、記入しない。

報告書

(1件)
  • 2015 実績報告書
  • 研究成果

    (15件)

すべて 2016 2015

すべて 雑誌論文 (5件) (うち国際共著 1件、 査読あり 5件、 謝辞記載あり 2件) 学会発表 (10件) (うち国際学会 4件)

  • [雑誌論文] Experimental observation of type-I energy band alignment in lattice-matched Ge1-x-ySixSny/Ge heterostructures2016

    • 著者名/発表者名
      T. Yamaha, S. Shibayama, T. Asano, K. Kato, M. Sakashita, W. Takeuchi, O. Nakatsuka and S. Zaima
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett.

      巻: 108 号: 6 ページ: 061909-061909

    • DOI

      10.1063/1.4941991

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Growth of Si1-x-ySnxCy ternary alloy layer on Si(001) substrate and characterization of its crystalline property2015

    • 著者名/発表者名
      T. Yamaha, M. Kurosawa, W. Takeuchi, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 54

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Atom probe tomography study on Ge1-x-ySnxCy hetero-epitaxial film on Ge substrates2015

    • 著者名/発表者名
      E. Kamiyama, K. Sueoka, K. Terasawa, T. Yamaha, O. Nakatsuka, S. Zaima, K. Izunome, K. Kashima, and H. Uchida
    • 雑誌名

      Thin Solid Films

      巻: 592 ページ: 54-58

    • DOI

      10.1016/j.tsf.2015.09.002

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Mobility Behavior of Polycrystalline Si<sub>1-<i>x</i>-<i>y</i></sub>Ge<sub><i>x</i></sub>Sn<sub><i>y</i></sub> Grown on Insulators2015

    • 著者名/発表者名
      T. Ohmura, T. Yamaha, M. Kurosawa, W. Takeuchi, M. Sakashita, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 雑誌名

      Transactions of the Materials Research Society of Japan

      巻: 40 号: 4 ページ: 351-354

    • DOI

      10.14723/tmrsj.40.351

    • NAID

      130005113361

    • ISSN
      1382-3469, 2188-1650
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Challenges of Energy Band Engineering with New Sn-Related Group IV Semiconductor Materials for Future Integrated Circuits2015

    • 著者名/発表者名
      S. Zaima, O. Nakatsuka, T. Yamaha, T. Asano, S. Ike, A. Suzuki, M. Kurosawa, W. Takeuchi, and M. Sakashita
    • 雑誌名

      ECS Trans. 2015

      巻: 69 号: 10 ページ: 89-98

    • DOI

      10.1149/06910.0089ecst

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著 / 謝辞記載あり
  • [学会発表] GeSiSn/GeSn/GeSiSn二重ヘテロ構造の結晶性に対するGeSiSn層の歪の影響2016

    • 著者名/発表者名
      福田雅大, 山羽隆, 浅野孝典, 藤浪俊介, 志村洋介, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第63回応用物理学会 春季学術講演会
    • 発表場所
      東工大
    • 年月日
      2016-03-20
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] 歪制御によるGeSn系混晶薄膜中Sn原子の熱的安定化2016

    • 著者名/発表者名
      志村洋介, 浅野孝典, 山羽隆, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第63回応用物理学会 春季学術講演会
    • 発表場所
      東工大
    • 年月日
      2016-03-20
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] Solid phase crystallization of Si1-x-ySnxCy ternary alloy layers and characteriziation of its crystalline and optical properties2016

    • 著者名/発表者名
      S. Yano, T. Yamaha, Y. Shimura, W. Takeuchi, M. Sakashita, M. Kurosawa, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      8th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 9th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science
    • 発表場所
      Nagoya (Japan)
    • 年月日
      2016-03-07
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Formation of GeSn layer sandwiched with strain-controlled GeSiSn layers2016

    • 著者名/発表者名
      M. Fukuda, T. Yamaha, T. Asano, S. Fujinami, Y. Shimura, M. Kurosawa, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      9th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
    • 発表場所
      Sendai (Japan)
    • 年月日
      2016-01-12
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Formation of poly-Si1-x-ySnxCy ternary alloy layer and characteriziation of its crystalline and optical properties2016

    • 著者名/発表者名
      S. Yano, T. Yamaha, Y. Shimura, W. Takeuchi, M. Sakashita, M. Kurosawa, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      9th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
    • 発表場所
      Sendai (Japan)
    • 年月日
      2016-01-12
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 固相成長法によるSi1-x-ySnxCy薄膜の形成および結晶・光学物性評価2015

    • 著者名/発表者名
      矢野翔大, 山羽隆, 黒澤昌志, 竹内和歌奈, 志村洋介, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      公益社団法人 応用物理学会SC東海地区学術講演会2015
    • 発表場所
      名古屋大学
    • 年月日
      2015-11-14
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] Si1-x-ySnxCy三元混晶薄膜のエピタキシャル成長および結晶性評価2015

    • 著者名/発表者名
      山羽 隆, 矢野翔大, 髙橋恒太, 黒澤昌志, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第76回 応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場
    • 年月日
      2015-09-13
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] 固相成長法によるSi1-x-ySnxCy多結晶薄膜の形成および結晶構造評2015

    • 著者名/発表者名
      矢野翔大, 山羽隆, 黒澤昌志, 竹内和歌奈, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第76回 応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場
    • 年月日
      2015-09-13
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] Ge1-x-ySixSny/Ge1-xSnx/Ge1-x-ySixSny二重ヘテロ接合の形成および結晶性評価2015

    • 著者名/発表者名
      福田雅大, 山羽隆, 浅野孝典, 藤浪俊介, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第76回 応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場
    • 年月日
      2015-09-13
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] Formation of type-I energy band alignment of Ge1-x-ySixSny/Ge hetero structure2015

    • 著者名/発表者名
      T. Yamaha, K. Kato, S. Shibayama, T. Asano, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      The 9th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures
    • 発表場所
      Montreal (Canada)
    • 年月日
      2015-05-21
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会

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公開日: 2015-11-26   更新日: 2024-03-26  

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