| 研究課題/領域番号 |
15K03704
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
経営学
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| 研究機関 | 関西大学 |
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研究代表者 |
西村 成弘 関西大学, 商学部, 教授 (70511723)
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| 研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2018-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2017年度)
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| 配分額 *注記 |
3,770千円 (直接経費: 2,900千円、間接経費: 870千円)
2017年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2016年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2015年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
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| キーワード | 特許管理 / 知的財産マネジメント / 研究開発 / RCA |
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| 研究成果の概要 |
アメリカの代表的な電機企業であるGEとウェスチングハウス・エレクトリックの比較研究から、ライバル企業同士でも研究開発と特許管理に違いがあり、結果として特許件数も大きく異なっていることが明らかとなった。具体的には、研究（基礎科学研究）と開発（製品やプロセスの開発）にそれぞれ対応した特許管理があり、その在り方が特許出願件数に大きく影響していることが明らかとなった。研究開発の段階の違いに基づく特許管理の多様性は、現代の日本企業においても普遍的にみられるものであった。また、RCAの事例分析を通して、特許管理が主導して研究開発を促進するしくみが構築され、特許件数が拡大したことが明らかとなった。
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