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角度分解光電子分光法によるダイヤモンド表面の終端構造と電子帯構造の解明

研究課題

研究課題/領域番号 15K04681
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
研究分野 薄膜・表面界面物性
研究機関東京都市大学

研究代表者

野平 博司  東京都市大学, 工学部, 教授 (30241110)

連携研究者 山崎 聡  独立行政法人産業技術総合研究所, 先進パワーエレクトロニクス研究センターダイヤモンドデバイスチーム, 招聘研究員 (80358241)
竹内 大輔  独立行政法人産業技術総合研究所, 先進パワーエレクトロニクス研究センターダイヤモンド材料チーム, チーム長 (10357402)
研究期間 (年度) 2015-04-01 – 2018-03-31
研究課題ステータス 完了 (2017年度)
配分額 *注記
4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2017年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2016年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2015年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
キーワードダイヤモンド / 光電子分光法 / C1s光電子スペクトル / エッチングによる表面ダメージ / soft-ICP / 価電子帯
研究成果の概要

ダイヤモンドデバイス製作に不可欠なエッチングプロセス(ダイヤモンド表面損傷軽減が期待できるsoft-ICPエッチング法)による表面への影響、および高濃度にドーピングされたホウ素やリンによる表面近傍の価電子帯の変化を光電子分光装置(AXIS NovaあるいはESCA-300)、一部試料においては検出深さの大きな硬X線光電子分光法(高輝度放射光施設SPring-8、BL47XU)を用いて調べた。その結果、soft-ICPエッチング法は試料表面の化学結合状態を変化させないことが分かった。また、実験結果は、高濃度ドーピングにより、ダイヤモンド表面近傍のバンドが曲がることを示唆していた。

報告書

(4件)
  • 2017 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2016 実施状況報告書
  • 2015 実施状況報告書
  • 研究成果

    (15件)

すべて 2017 2016 2015

すべて 雑誌論文 (3件) (うち査読あり 3件、 謝辞記載あり 1件) 学会発表 (12件) (うち国際学会 3件)

  • [雑誌論文] Angle-Resolved Photoelectron Spectroscopy Studies of Initial Stage of Thermal Oxidation on 4H-SiC (0001) on-Axis and 4° Off-Axis Substrates2017

    • 著者名/発表者名
      Arai Hitoshi、Toyoda Ryoma、Ishohashi Ai、Sano Yasuhisa、Nohira Hiroshi
    • 雑誌名

      ECS Transactions

      巻: 77 号: 6 ページ: 51-57

    • DOI

      10.1149/07706.0051ecst

    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Angle-resolved photoelectron spectroscopy study of initial stage of thermal oxidation on 4HSiC( 0001)2016

    • 著者名/発表者名
      Hitoshi Arai1 and Hiroshi Nohira
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 55 号: 4S ページ: 04EB04-04EB04

    • DOI

      10.7567/jjap.55.04eb04

    • NAID

      210000146272

    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Effect of atomic-arrangement matching on La2O3/Ge heterostructures for epitaxial high-k-gate-stacks2015

    • 著者名/発表者名
      T. Kanashima, H. Nohira, M. Zenitaka, Y. Kajihara, S. Yamada, and K. Hamaya
    • 雑誌名

      JOURNAL OF APPLIED PHYSICS

      巻: 118 号: 22

    • DOI

      10.1063/1.4937147

    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] 高空間分解能HXPESによるGe 2p内殻準位の結合エネルギーに歪みが与える影響の検出2017

    • 著者名/発表者名
      佐野 良介、此島 志織、滝沢 耕平、澤野 憲太郎、野平 博司
    • 学会等名
      第64回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(神奈川県横浜市)
    • 年月日
      2017-03-14
    • 関連する報告書
      2016 実施状況報告書
  • [学会発表] エピタキシャルGe上直接ALDによるAl2O3/Ge界面特性向上2017

    • 著者名/発表者名
      池上 和彦, 佐藤 慶次郎, 澤田 浩介, Maksym Myronov, 野平 博司, 澤野 憲太郎
    • 学会等名
      電子デバイス界面テクノロジー研究会
    • 発表場所
      東レ研修センター(静岡県三島市)
    • 年月日
      2017-01-20
    • 関連する報告書
      2016 実施状況報告書
  • [学会発表] ARXPSによる soft-ICPエッチングプロセスがダイヤモンド半導体表面に与える影響2017

    • 著者名/発表者名
      滝沢 耕平, 加藤 有香子, 牧野 俊晴, 山崎 聡,野平 博司
    • 学会等名
      第78回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
  • [学会発表] AR-XPSによる4H-SiC (0001) on-Axis, 4° Off-Axis基板の初期酸化過程の解明2016

    • 著者名/発表者名
      荒井 仁、豊田 涼馬、礒橋 藍、佐野 泰久、野平 博司
    • 学会等名
      2016年 第63回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東京工業大学 大岡山キャンパス(東京都目黒区)
    • 年月日
      2016-03-19
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
  • [学会発表] La2xA2(1-x)O3(A=Lu, Y)/La2O3/Ge(111) MIS構造におけるC-V特性の改善2016

    • 著者名/発表者名
      金島 岳、銭高 真人、山本 圭介、山城 陸、只野 純平、野平 博司、中島 寛、山田 晋也、浜屋 宏平
    • 学会等名
      2016年 第63回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東京工業大学 大岡山キャンパス(東京都目黒区)
    • 年月日
      2016-03-19
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
  • [学会発表] AR-XPSによる4H-SiC (0001)の初期熱酸化過程の研究2016

    • 著者名/発表者名
      荒井 仁, 野平 博司
    • 学会等名
      電子デバイス界面テクノロジー研究会(第21回)
    • 発表場所
      東レ研修センター(静岡県三島市)
    • 年月日
      2016-01-22
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
  • [学会発表] Initial Stage of SiO2/SiC Interface Formation on C-face 4H-SiC2015

    • 著者名/発表者名
      Tomoya Sasago, Hitoshi Arai, Shunta Yamahori, Hiroshi Nohira
    • 学会等名
      2015 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES – SCIENCE AND TECHNOLOGY
    • 発表場所
      Miraikan, National Museum of Emerging Science and Innovation(東京都江東区)
    • 年月日
      2015-11-02
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Study of Epitaxial La2O3 High-k/Ge(111) Interface by X-ray Photoelectron Spectroscopy2015

    • 著者名/発表者名
      Takeshi Kanashima, Hiroshi Nohira, Masato Zenitaka, Taro Kobayashi, Riku Yamashiro, Shinya Yamada, Kohei Hamaya
    • 学会等名
      2015 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES – SCIENCE AND TECHNOLOGY
    • 発表場所
      Miraikan, National Museum of Emerging Science and Innovation(東京都江東区)
    • 年月日
      2015-11-02
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Angle-resolved Photoelectron Spectroscopy studies of initial stage of thermal oxidation on 4H-SiC (0001)2015

    • 著者名/発表者名
      H. Arai, H. Nohira
    • 学会等名
      2015 International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      Sapporo Convention Center(北海道札幌市)
    • 年月日
      2015-09-27
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] AR-XPSによる4H-SiC (0001)の初期酸化過程の解明2015

    • 著者名/発表者名
      荒井 仁、野平 博司
    • 学会等名
      2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場(愛知県名古屋市)
    • 年月日
      2015-09-13
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
  • [学会発表] ドライ酸化プロセスの制御によるC関連欠陥の減少2015

    • 著者名/発表者名
      笹子 知弥、荒井 仁、喜多 浩之、室 隆桂之、野平 博司
    • 学会等名
      2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場(愛知県名古屋市)
    • 年月日
      2015-09-13
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
  • [学会発表] 結晶性La2O3/Ge(111)高品質界面のXPS分析2015

    • 著者名/発表者名
      金島 岳、野平 博司、銭高 真人、小林 太朗、山城 陸、山田 晋也、浜屋 宏平
    • 学会等名
      2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場(愛知県名古屋市)
    • 年月日
      2015-09-13
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書

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公開日: 2015-04-16   更新日: 2019-03-29  

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