| 研究課題/領域番号 |
15K05148
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
物性Ⅱ
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| 研究機関 | 上智大学 |
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研究代表者 |
後藤 貴行 上智大学, 理工学部, 教授 (90215492)
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| 研究分担者 |
田邉 洋一 東北大学, 理学研究科, 助教 (80574649)
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| 研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2018-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2017年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2017年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2016年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2015年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
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| キーワード | トポロジカル絶縁体 / 薄膜合成 / ＮＭＲ / μＳＲ / 薄膜 / NMR / 表面スピンテキスチャ |
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| 研究成果の概要 |
スピンロック現象を，NMRでミクロスコピックに検証することが我々のグループの当初の目的であった。これを遂行するために、3次元トポロジカル絶縁体薄膜の合成並びに輸送現象の観測に関する研究を行った。
研究では、物理気相成長を用いることで、理想的な3次元トポロジカル絶縁体として知られているBi2-xSbxTe3-ySeyの薄膜合成法を確立し、これらを用いることで、スイッチング可能なPN接合の作製に成功した。
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