| 研究課題/領域番号 |
15K06015
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
電子デバイス・電子機器
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| 研究機関 | 京都大学 |
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研究代表者 |
龍頭 啓充 京都大学, 工学研究科, 講師 (20392178)
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| 研究分担者 |
竹内 光明 京都大学, 工学研究科, 助教 (10552656)
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| 研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2018-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2017年度)
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| 配分額 *注記 |
5,070千円 (直接経費: 3,900千円、間接経費: 1,170千円)
2017年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2016年度: 520千円 (直接経費: 400千円、間接経費: 120千円)
2015年度: 3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
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| キーワード | クラスター / イオンビーム / スピントロニクス / マグネトロン / スパッタリング / 遷移金属 / アルコール / ビーム応用 / 表面加工 / 薄膜 / プロセッシング |
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| 研究成果の概要 |
本研究はエレクトロニクス分野においてシリコン等半導体材料に対して高い加工能力を示す液体クラスターイオンビームを、スピントロニクス分野で用いられる材料加工に応用することを目的とする。液体クラスターイオンビーム照射装置にマグネトロンスパッタ蒸着装置を増設し、真空を保ったままで成膜と加工を行うことが出来る装置を開発した。この装置を用いて金属薄膜を作製し、液体クラスターイオンビームの一種であるエタノールクラスターイオンビームを照射し加工能力を調べたところ極めて高いスパッタ率を示し、応用可能性を確認することが出来た。
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