| 研究課題/領域番号 |
15K06421
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
金属物性・材料
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| 研究機関 | 横浜国立大学 |
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研究代表者 |
関谷 隆夫 横浜国立大学, 大学院工学研究院, 教授 (60211322)
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| 研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2018-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2017年度)
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| 配分額 *注記 |
4,940千円 (直接経費: 3,800千円、間接経費: 1,140千円)
2017年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2016年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
2015年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
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| キーワード | 光物性 / 酸窒化ジルコニウム / 二酸化チタン / 窒素ドーピング / 薄膜 / アニオンドーピング |
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| 研究成果の概要 |
ゾルゲル法により作成した高濃度窒素ドープTiO2粉末では、単結晶と同様、可視紫外分光から2.9eV付近に吸収帯を持つこと、ESR測定から窒素のHFSに起因するシグナルが観測されることを見出した。粉末の熱処理により、高窒素ドープ粉末においても、窒素の化学的環境が保たれていることを明らかにした。この粉末のN1sのXPS測定から、酸化、還元熱処理により窒素の原子価が変動することを見出した。
スパッタリングで作成したZrON薄膜は、酸素流量の増加に伴い、ZrNからZr2ON2、Zr8O7N4、ZrO2のように結晶相が変化し、XPS測定でZr周囲の酸素/窒素比を反映したZr3dピークのシフトを観測した。
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