| 研究課題/領域番号 |
15K06427
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
金属物性・材料
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| 研究機関 | 同志社大学 |
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研究代表者 |
佐藤 祐喜 同志社大学, 理工学部, 准教授 (20512693)
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| 研究協力者 |
吉門 進三 同志社大学, 理工学部, 教授
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| 研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2018-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2017年度)
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| 配分額 *注記 |
4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円)
2017年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2016年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2015年度: 2,990千円 (直接経費: 2,300千円、間接経費: 690千円)
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| キーワード | エアロゾルデポジション / 二珪化モリブデン / 透明導電性薄膜 / 正方晶二珪化モリブデン / 透明性導電薄膜 |
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| 研究成果の概要 |
MoSi2は常温で高い導電性を有し、化学的安定性が高い物質である。しかし、その結晶構造により耐酸化特性や伝導率が大きく異なり、正方晶が実用的に最も好ましい特性を示す。しかし、一般的な手法でMoSi2を堆積すると結晶構造が六方晶などに変化する。AD法により結晶構造を保持したまま意図した場所・形状でMoSi2を堆積できることは その実用的に大変有益であり研究を遂行した。 同様に、透明導電性薄膜をガラス基板、PETなどのプラスチック、有機物上にも堆積ができ、十分低い抵抗率、光透過性を示す薄膜を形成した。これらの成果は国内、国際学会(ICC6)などで研究成果を報告し、2編の査読付学術論文を掲載された。
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