| 研究課題/領域番号 |
15K06662
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(C)
|
| 配分区分 | 基金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 研究分野 |
原子力学
|
|---|
| 研究機関 | 北海道大学 |
|---|
研究代表者 |
岡本 一将 北海道大学, 工学研究院, 助教 (10437353)
|
|---|
| 連携研究者 |
古澤 孝弘 大阪大学, 産業科学研究所, 教授 (20251374)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2018-03-31
|
| 研究課題ステータス |
完了 (2017年度)
|
| 配分額 *注記 |
4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円)
2017年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2016年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
2015年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
|
|---|
| キーワード | 放射線化学 / レジスト / パルスラジオリシス / 電子線 / 極端紫外線（ＥＵＶ） / 半導体超微細化 / ラジカルイオン / 放射線、Ｘ線、粒子線 / 芳香族分子 / ＥＵＶリソグラフィ / ΠーΠ相互作用 / 放射線、X線、粒子線 |
|---|
| 研究成果の概要 |
極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィは、電離放射線を用いる最新の半導体量産技術として注目されている。用いられるレジスト材料は、露光による電離によって放射線化学反応が誘起されて溶解性が変化する。一方で電離後のレジスト中の電荷のダイナミクスは、ナノリソグラフィにとって重要であるにも関わらず、いまだ詳細は明らかにされていない。本研究は、電子線パルスラジオリシス法等により、レジストの主成分である芳香族分子内の過剰電荷の挙動を明らかにすることを目的として研究を行った。また、レジスト性能を向上させる新たな手法の提案を行った。
|
