| 研究課題/領域番号 |
15K07274
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
作物生産科学
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| 研究機関 | 九州大学 |
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研究代表者 |
斉藤 和幸 九州大学, 農学研究院, 准教授 (00215534)
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| 研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2018-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2017年度)
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| 配分額 *注記 |
5,070千円 (直接経費: 3,900千円、間接経費: 1,170千円)
2017年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2016年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2015年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
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| キーワード | イネ / 光合成 / 窒 / Rubisco / ヒストン修飾 / アセチル化 / 窒素 / Rubisco小サブユニット遺伝子 / ヒストン脱アセチル化酵素 / Rubisco遺伝子 / 転写制御 / クロマチン構造 |
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| 研究成果の概要 |
イネのRubisco小サブユニット遺伝子OsRBCS3の発現量は窒素により約15倍に増加したが, OsRBCS5遺伝子の発現量の増加は約2倍であった. これは、OsRBCS3はOsRBCS5と比較して窒素による転写活性の増加の程度が大きいためであった。また、OsRBCS3では転写の活性化に関わるヒストンH3のN末端より9番目リジンのアセチル化レベル及び4番目リジンのトリメチル化レベルの窒素による上昇がOsRBCS5よりも大きかった. 以上の結果より, OsRBCS3遺伝子とOsRBCS5遺伝子の窒素による発現はヒストンH3の修飾レベルにより制御されていることが示唆された.
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