口腔ケアへの応用に向けたポリフェノール光照射殺菌法の確立

• 研究課題/領域番号: 15K11144
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 補綴・理工系歯学
• 研究機関: 東北大学
• 研究代表者: 中村 圭祐 東北大学, 歯学研究科, 講師 (30431589)
• 研究期間 (年度): 2015-04-01 – 2018-03-31
• 研究課題ステータス: 完了 (2017年度)
• 配分額: 4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円); 2017年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円); 2016年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円); 2015年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
• キーワード: ポリフェノール / 殺菌 / 光照射 / カフェイン酸 / 口腔粘膜刺激性 / 殺菌効果 / バイオフィルム

研究成果の概要

本研究では、ポリフェノール光照射殺菌法を新しい口腔ケアの手法として応用することを最終目標として基礎試験を行った。殺菌試験では、Streptococcus mutansのバイオフィルムを対象とした。ポリフェノールの代表として、カフェイン酸、クロロゲン酸、プロアントシアニジンを用いた。その結果、カフェイン酸が最も強い殺菌作用を示すことが分かった。ハムスターを用いたin vivo試験では、本殺菌法が口腔粘膜に対して軽度の刺激性を有することが分かった。従って、本殺菌法を臨床応用するためには、今後、殺菌作用と安全性の観点から殺菌処理条件を詳細に検討する必要がある。

研究成果

• [国際共同研究] イエテボリ大学(スウェーデン)
• [国際共同研究] イエテボリ大学/歯学部(スウェーデン)
• [雑誌論文] Photo-irradiated caffeic acid exhibits antimicrobial activity against Streptococcus mutans biofilms via hydroxyl radical formation (2017)
  • 著者名/発表者名: Nakamura K, Shirato M, Kanno T, Ortengren U, Lingstrom P, Niwano Y
  • 雑誌名: Sci Rep 巻: 7 号: 1 ページ: 6353-6353
  • DOI: 10.1038/s41598-017-07007-z
  • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著
• [雑誌論文] Antimicrobial activity of hydroxyl radicals generated by hydrogen peroxide photolysis against Streptococcus mutans biofilm (2016)
  • 著者名/発表者名: Nakamura K, Shirato M, Kanno T, Örtengren U, Lingström P, Niwano Y
  • 雑誌名: Int J Antimicrob Agents 巻: 48 号: 4 ページ: 373-380
  • DOI: 10.1016/j.ijantimicag.2016.06.007
  • 査読あり / 国際共著 / 謝辞記載あり
• [雑誌論文] 活性酸素・フリーラジカルを応用した殺菌技術 (2016)
  • 著者名/発表者名: 中村圭祐
  • 雑誌名: 日本防菌防黴学会誌 巻: 44 ページ: 191-197
  • NAID: 40020814293
  • 査読あり
• [雑誌論文] Bactericidal Action of Photodynamic Antimicrobial Chemotherapy (PACT) with Photosensitizers Used as Plaque-Disclosing Agents against Experimental Biofilm (2016)
  • 著者名/発表者名: Ishiyama K, Nakamura K, Kanno T, Niwano Y
  • 雑誌名: Ｂｉｏｃｏｎｔｒｏｌ Ｓｃｉｅｎｃｅ 巻: 21 号: 3 ページ: 187-191
  • DOI: 10.4265/bio.21.187
  • NAID: 130005265263
  • ISSN: 1342-4815, 1884-0205
  • 査読あり / オープンアクセス
• [雑誌論文] 活性酸素を応用した殺菌技術 (2015)
  • 著者名/発表者名: 中村 圭祐
  • 雑誌名: クリーンテクノロジー 巻: 8月号 ページ: 43-47
• [学会発表] Anti-biofilm effect of hydroxyl radicals generated in UVA-irradiated caffeic acid (2017)
  • 著者名/発表者名: Nakamura K, Shirato M, Kanno T, Ortengren U, Lingstrom P, Niwano Y
  • 学会等名: CED-IADR 2017
  • 国際学会
• [学会発表] 齲蝕原因菌（Streptococcus mutans）のバイオフィルムに対する長波長紫外線照射の殺菌作用 (2017)
  • 著者名/発表者名: 中村圭祐、白土翠、菅野太郎、庭野吉己
  • 学会等名: 第44回日本防菌防黴学会年次大会
• [学会発表] 抗生剤に対する抵抗性を獲得したStreptococcus mutansバイオフィルムに対する過酸化水素光分解殺菌法の殺菌作用 (2016)
  • 著者名/発表者名: 中村圭祐、白土翠、菅野太郎、Ulf Ortengren、Peter Lingstrom、庭野吉己
  • 学会等名: 第43回日本防菌防黴学会年次大会
  • 発表場所: 東京
  • 年月日: 2016-09-26
• [学会発表] 過酸化水素光分解殺菌法と各種殺菌処理法のStreptococcus mutansバイオフィルムに対する殺菌効果の比較検討 (2016)
  • 著者名/発表者名: 白土翠、中村圭祐、菅野太郎、Peter Lingstrom、庭野吉己、Ulf Ortengren
  • 学会等名: 第43回日本防菌防黴学会年次大会
  • 発表場所: 東京
  • 年月日: 2016-09-26
• [学会発表] Protective effects of grape seed extract on human gingival fibroblasts exposed to oxidative stressors (2015)
  • 著者名/発表者名: Katsuda Y, Niwano Y, Nakamrua K, Kanno T, Egusa H
  • 学会等名: The 63rd Annual Meeting of Japanese Association for Dental Research
  • 発表場所: Fukuoka, Japan
  • 年月日: 2015-10-30
  • 国際学会