| 研究課題/領域番号 |
15K11180
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
補綴・理工系歯学
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| 研究機関 | 朝日大学 |
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研究代表者 |
宇野 光乗 朝日大学, 歯学部, 講師 (10298424)
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| 研究分担者 |
川木 晴美 朝日大学, 歯学部, 准教授 (70513670)
土井 豊 朝日大学, 歯学部, 名誉教授 (40116067)
石神 元 朝日大学, 歯学部, 教授 (20168214)
岡 俊男 朝日大学, 歯学部, 准教授 (30185409)
横川 善之 大阪市立大学, 大学院工学研究科, 教授 (20358310)
玉置 幸道 朝日大学, 歯学部, 教授 (80197566)
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| 研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2018-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2017年度)
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| 配分額 *注記 |
4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円)
2017年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2016年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2015年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
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| キーワード | ジルコニア / RFマグネトロンスパッタリング / 圧縮せん断接着強さ / 親水性 / シリコン注入 / 接着 |
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| 研究成果の概要 |
スパッタリングを用いてジルコニア接着面へのSi導入を試みた。ジルコニア表面上のSi-Oコーティングは親水性になった。ジルコニア表面上の21日後の接触角は40°以下であった。Si導入後にシランカップリング処理した試料とコンポジットレジンコアとの圧縮せん断試験では、control(Si導入無)(9.26MPa)と比較して、スパッタリング後の試料(30.86 MPa)は有意に大きな値を示した。酸素体積濃度５％の条件でのジルコニアへのSiスパッタリングは、ジルコニア表面にSi-O被膜を形成し、さらにその被膜はジルコニア表面を親水性にし、シランカップリング剤との化学結合を可能にすることが示唆された。
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