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吸引プラズマによる層状化合物のデジタルエッチング技術の確立

研究課題

研究課題/領域番号 15K13310
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分基金
研究分野 ナノ材料工学
研究機関国立研究開発法人産業技術総合研究所

研究代表者

宮脇 淳  国立研究開発法人産業技術総合研究所, ナノ材料研究部門, 主任研究員 (20358138)

研究分担者 久保 利隆  国立研究開発法人産業技術総合研究所, ナノ材料研究部門, 研究グループ長 (70344124)
研究期間 (年度) 2015-04-01 – 2017-03-31
研究課題ステータス 完了 (2016年度)
配分額 *注記
4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2016年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2015年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
キーワード二次元層状物質 / プラズマ / エッチング
研究成果の概要

次世代超低消費電力デバイスの実現の材料として、近年二次元層状物質が注目されている。二次元層状物質の持つ物性を最大限に引き出し、実際に電子デバイスに適応するには、機能の源泉となる結晶性がよい単層の原子薄膜を用意すること、すなわち膜厚の一層単位の精密制御が必要不可欠である。我々の独自技術である加工残渣の少ない吸引型プラズマを最適化することにより、層状化合物のデジタルエッチングの可能性を検証し、プラズマによる表面欠陥低減・制御に向けた検討を行った。二硫化モリブデンに対し一層単位のエッチング加工を行いマイクロメーターオーダーのテラス領域を残すことに成功した。

報告書

(3件)
  • 2016 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2015 実施状況報告書
  • 研究成果

    (18件)

すべて 2017 2016 2015

すべて 学会発表 (17件) (うち国際学会 7件) 産業財産権 (1件)

  • [学会発表] Morphology and electrical studies on defect-induced transition metal dichalcogenide nanosheet by O2 plasma treatment2017

    • 著者名/発表者名
      安藤淳、宮脇淳、堀川昌代、清水哲夫、久保利隆
    • 学会等名
      ISPlasma2017/IC-PLANTS2017
    • 発表場所
      中部大学(愛知県春日井市)
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Etching morphology of HOPG and Molybdenum Disulfide (MoS2) treated with inward-plasma2017

    • 著者名/発表者名
      久保利隆、宮脇淳、清水哲夫、新堀俊一郎、高橋賢、安藤淳
    • 学会等名
      ISPlasma2017/IC-PLANTS2017
    • 発表場所
      中部大学(愛知県春日井市)
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Buffer gas effect on the silicon etch rate in the CF4 inward plasma2017

    • 著者名/発表者名
      狩野諒、菅洋志、新堀俊一郎、高橋賢、久保利隆、安藤淳
    • 学会等名
      ISPlasma2017/IC-PLANTS2017
    • 発表場所
      中部大学(愛知県春日井市)
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Single Layer Etching of MoS2 using Inward-Plasma2016

    • 著者名/発表者名
      久保 利隆、宮脇 淳、清水 哲夫、新堀俊一郎、高橋 賢、安藤 淳
    • 学会等名
      日本化学会第96春季年会
    • 発表場所
      同志社大学(京都府京田部市)
    • 年月日
      2016-03-25
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
  • [学会発表] 吸引プラズマによるSi基板の高速局所エッチング加工2016

    • 著者名/発表者名
      宮脇 淳、狩野 諒、菅 洋志、久保 利隆、安藤 淳、新堀俊一郎、高橋 賢、清水 哲夫
    • 学会等名
      第63回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東京工業大学(東京都目黒区)
    • 年月日
      2016-03-21
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
  • [学会発表] Fast local etching of Si substrates using inward plasma2016

    • 著者名/発表者名
      宮脇 淳、狩野 諒、菅 洋志、久保 利隆、安藤 淳、新堀俊一郎、高橋 賢、清水 哲夫
    • 学会等名
      ISPlasma2016
    • 発表場所
      名古屋大学(愛知県名古屋市)
    • 年月日
      2016-03-09
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] STMとモンテカルロシミュレーションによる二次元層状物質の単層プラズマエッチング形状2016

    • 著者名/発表者名
      久保利隆、宮脇淳、清水哲夫、新堀俊一郎、高橋賢、安藤淳
    • 学会等名
      ナノ学会
    • 発表場所
      北九州国際会議場(福岡県北九州市)
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] 酸素プラズマ処理を用いた欠陥導入に伴う層状半導体の電気特性変化2016

    • 著者名/発表者名
      安藤淳、久保利隆、堀川昌代、宮脇淳、清水哲夫、森貴洋
    • 学会等名
      ナノ学会
    • 発表場所
      北九州国際会議場(福岡県北九州市)
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] 吸引プラズマの精密エッチングレート制御2016

    • 著者名/発表者名
      狩野諒、菅洋志、新堀俊一郎、高橋賢、宮脇淳、久保利隆、安藤淳、清水哲夫
    • 学会等名
      第77回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      朱鷺メッセ(新潟県新潟市)
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] 吸引プラズマを用いたMoS2表面の層状エッチング形状2016

    • 著者名/発表者名
      久保利隆、宮脇淳、清水哲夫、新堀俊一郎、高橋賢、安藤淳
    • 学会等名
      2016年真空・表面科学合同講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場(愛知県名古屋市)
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] 吸引プラズマエッチング法を用いたSiO2ダイヤフラム構造作製技術の開発2016

    • 著者名/発表者名
      狩野諒、菅洋志、新堀俊一郎、高橋賢、久保利隆、安藤淳、清水哲夫、宮脇淳
    • 学会等名
      2016年真空・表面科学合同講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場(愛知県名古屋市)
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] STM observation and Monte Carlo simulation of Molybdenum Disulfide (MoS2) Treated with Inward-Plasma Etching2016

    • 著者名/発表者名
      宮脇淳、久保利隆、清水哲夫、新堀俊一郎、高橋賢、安藤淳
    • 学会等名
      ICSPM24
    • 発表場所
      ハワイコンベンションセンター(米国ハワイ州)
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Morphology and Electrical Studies on Defect-induced MoS2 Nanosheet by O2 Plasma Treatment2015

    • 著者名/発表者名
      安藤 淳、堀川 昌代、宮脇 淳、清水 哲夫、久保 利隆
    • 学会等名
      23rd International Colloquium on Scanning Probe Microscopy (ICSPM23)
    • 発表場所
      ニセコプリンスホテル(北海道虻田郡ニセコ町)
    • 年月日
      2015-12-10
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 2D Network-like Nanostructure of Molybdenum Disulfide (MoS2) Formed by Inward-Plasma Etching2015

    • 著者名/発表者名
      久保 利隆、宮脇 淳、清水 哲夫、新堀俊一郎、高橋 賢、安藤 淳
    • 学会等名
      International Colloquium on Scanning Probe Microscopy (ICSPM23)
    • 発表場所
      ニセコプリンスホテル(北海道虻田郡ニセコ町)
    • 年月日
      2015-12-10
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 二次元原子薄膜材料の単層剥離技術の開発2015

    • 著者名/発表者名
      久保 利隆、宮脇 淳、清水 哲夫、新堀俊一郎、高橋 賢、安藤 淳
    • 学会等名
      真空・表面科学合同講演会
    • 発表場所
      茨城県つくば市
    • 年月日
      2015-12-03
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
  • [学会発表] 吸引型プラズマによる二次元層状物質の広範囲単層エッチング2015

    • 著者名/発表者名
      宮脇 淳、久保 利隆、清水 哲夫、新堀俊一郎、高橋 賢、安藤 淳
    • 学会等名
      第76回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場(愛知県名古屋市)
    • 年月日
      2015-09-16
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
  • [学会発表] 吸引型プラズマによる二次元層状物質の単層エッチング2015

    • 著者名/発表者名
      久保 利隆、宮脇 淳、清水 哲夫、新堀俊一郎、高橋 賢、安藤 淳
    • 学会等名
      ナノ学会第13回大会
    • 発表場所
      東北大学(宮城県仙台市)
    • 年月日
      2015-05-11
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
  • [産業財産権] プラズマエッチング装置2016

    • 発明者名
      清水哲夫、宮脇 淳、他6名
    • 権利者名
      産業技術総合研究所、三友製作所
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      2016-050793
    • 出願年月日
      2016-03-15
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書

URL: 

公開日: 2015-04-16   更新日: 2018-03-22  

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