| 研究課題/領域番号 |
15K13841
|
|---|
| 研究種目 |
挑戦的萌芽研究
|
| 配分区分 | 基金 |
|---|
| 研究分野 |
生産工学・加工学
|
|---|
| 研究機関 | 東京大学 |
|---|
研究代表者 |
高橋 哲 東京大学, 先端科学技術研究センター, 教授 (30283724)
|
|---|
| 研究分担者 |
高増 潔 東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 教授 (70154896)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2017-03-31
|
| 研究課題ステータス |
完了 (2016年度)
|
| 配分額 *注記 |
3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2015年度: 3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
|
|---|
| キーワード | ナノ欠陥 / ナノ計測 / 光計測 / シリコンウエハ / ナノ異物 / 欠陥検査 / シリコンウエハ基板 |
|---|
| 研究成果の概要 |
従来半導体プロセスにおいて現場適用されていた光学的散乱型計測法原理では物理的検出限界となっていた超平滑加工表面のナノ付着異物計測法について新概念手法の提案，開発を目指した．具体的には，基板上に滴下した揮発性不活性溶媒の液相界面とナノ異物との近接場における力学的・光学的相互作用を，並列情報処理性，現場適用性の高い遠隔場光学技術で取得することで，非破壊性，高速性を維持したまま，従来異物サイズ検出限界を打破可能な新概念近接場計測プローブ法の開発を目指した．理論・実験の両面から研究推進を行い，提案概念の妥当性，有用性について検証した．
|
