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非平衡高圧水素プラズマによるシリコン次元変換ソフトプロセスの開発

研究課題

研究課題/領域番号 15K13848
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分基金
研究分野 生産工学・加工学
研究機関大阪大学

研究代表者

大参 宏昌  大阪大学, 工学研究科, 助教 (00335382)

研究協力者 篠田 史也  
平野 達也  
武居 則久  
研究期間 (年度) 2015-04-01 – 2017-03-31
研究課題ステータス 完了 (2016年度)
配分額 *注記
3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2016年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2015年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
キーワードシリコン / 水素 / プラズマ / ナノ粒子 / ナノシリコン / 水素プラズマ / 微粒子 / 精製 / 金属級シリコン
研究成果の概要

シリコンナノ(n-Si)粒子は、超バルク理論効率を実現する量子ドット太陽電池やSi可視光ダイオー、さらにはリチウム(Li)電池の大容量化・長寿命化が期待できる負極活物質など次世代光電子デバイスのキーマテリアルとして注目を集めている。本研究では、廉価なSiバルク材からLi電池負極材用n-Si粒子の低コスト生産に向けて、非平衡高圧水素プラズマを用いてバルクシリコン材料からn-Si粒子の生成を狙った。種々の形態のプラズマ源を開発し、その特性を評価すると共にスリット型プラズマ源を用いて、Li電池に求められる直径50nm以下のn-Si粒子の合成に成功した。

報告書

(3件)
  • 2016 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2015 実施状況報告書
  • 研究成果

    (6件)

すべて 2016 2015

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (5件) (うち国際学会 2件)

  • [雑誌論文] Efficiency of silane gas generation in high-rate silicon etching by narrow-gap microwave hydrogen plasma2016

    • 著者名/発表者名
      Hiromasa Ohmi, Takeshi Funaki, Hiroaki Kakiuchi and Kiyoshi Yasutake
    • 雑誌名

      J. Physics D: Appl. Phys.

      巻: 49 号: 3 ページ: 035202-035202

    • DOI

      10.1088/0022-3727/49/3/035202

    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] On-site SiH4 generation using high-density microwave H2 plasma generated in narrow slit-type discharge gap2016

    • 著者名/発表者名
      Hiromasa Ohmi, F. Shinoda, N. Takei, H. Kakiuchi, K. Yasutake
    • 学会等名
      16th Joint Vacuum Conference (JVC-16) and 14th European Vacuum Conference (EVC-14)
    • 発表場所
      Portoroz, Slovenia
    • 年月日
      2016-06-06
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] スリット型狭ギャッププラズマ源を用いたオンサイトSiH4生成2016

    • 著者名/発表者名
      武居則久,篠田史也,垣内弘章,安武 潔,大参宏昌
    • 学会等名
      精密工学会2016年度関西地方定期学術講演会
    • 発表場所
      株式会社島津製作所
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
  • [学会発表] High-rate metal evaporation induced by high-pressure hydrogen glow discharge plasma and its application to formation of metallic fine particle and porous film2015

    • 著者名/発表者名
      H. Ohmi, H. Kakiuchi, and K. Yasutake
    • 学会等名
      TACT 2015 International Thin Films Conference
    • 発表場所
      National Cheng Kung University, Tainan, Taiwan
    • 年月日
      2015-11-15
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 狭ギャップ高密度水素プラズマを用いたオンサイトSiH4生成装置の開発2015

    • 著者名/発表者名
      篠田史也,垣内弘章,安武潔,大参宏昌
    • 学会等名
      第76回 応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場
    • 年月日
      2015-09-13
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
  • [学会発表] 高圧水素プラズマによる液体金属の超高速蒸発と多孔質金属膜の形成2015

    • 著者名/発表者名
      平野達也,垣内弘章, 安武潔, 大参宏昌
    • 学会等名
      第71回マテルアルズ・テーラリング研究会
    • 発表場所
      軽井沢研修所
    • 年月日
      2015-08-06
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書

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公開日: 2015-04-16   更新日: 2018-03-22  

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