| 研究課題/領域番号 |
15K13954
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| 研究種目 |
挑戦的萌芽研究
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
電子・電気材料工学
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| 研究機関 | 奈良先端科学技術大学院大学 |
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研究代表者 |
中村 雅一 奈良先端科学技術大学院大学, 物質創成科学研究科, 教授 (80332568)
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| 研究分担者 |
松原 亮介 静岡大学, 工学部, 助教 (60611530)
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| 連携研究者 |
小島 広孝 奈良先端科学技術大学院大学, 物質創成科学研究科, 助教 (70713634)
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| 研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2018-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2017年度)
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| 配分額 *注記 |
3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2017年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2016年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
2015年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
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| キーワード | 有機薄膜 / 真空蒸着法 / 高速分子線 / 有機薄膜デバイス / プロセスコスト削減 / 有機トランジスタ / 有機太陽電池 |
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| 研究成果の概要 |
有機半導体デバイスの作製における真空蒸着法の欠点であるプロセス時間の長さや装置コストの高さを解消することを目的とし、ホットキャピラリ出射口を持つ高速分子線セルの開発を行った。研究用高速分子線セル、それを様々な真空装置に取り付けるための蒸着源コンポーネントなどを設計・製作・改良し、従来法の典型値よりも50倍程度速い成長速度が安定して得られるようになった。トランジスタ用半導体膜の成膜に要する真空排気、セル加熱／冷却などを含む総プロセス時間が、従来法の1/3に短縮されることを実証した。また、高速成膜条件においても、基板を60℃程度に加熱することで十分高いキャリア移動度が得られることを示した。
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