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ガラス/高分子界面のデンドリティックアンカー効果発現機構の解明

研究課題

研究課題/領域番号 15K14139
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分基金
研究分野 複合材料・表界面工学
研究機関東北大学

研究代表者

福島 誉史  東北大学, 工学研究科, 准教授 (10374969)

研究分担者 長井 千里  東北大学, 未来科学技術共同研究センター, 技術補佐員 (70718353)
連携研究者 裵 志哲  東北大学, 未来科学技術共同研究センター, 助教 (40509874)
大西 正樹  東北大学, 未来科学技術共同研究センター, 産学官連携研究員 (20618615)
研究期間 (年度) 2015-04-01 – 2017-03-31
研究課題ステータス 完了 (2016年度)
配分額 *注記
3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2016年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
2015年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
キーワード接着 / 接合界面 / 気相堆積ポリイミド / SiO2 / CVD / TSV
研究成果の概要

200℃の低温のプラズマCVDで成膜したSiO2と、200℃の気相堆積で成膜したポリイミドの接着に関する研究を行った。特に次世代の三次元積層型集積回路の基幹配線となるTSV(シリコン貫通配線)の信頼性向上を目的として、デンドリティックなアンカー効果を発現させて接着強度を高めることを試みた。その接着強度向上のメカニズムは、物理的な浅いアンカー効果に加えて、自己組織化単分子膜をベースとした密着助剤による界面分子間力の増大によるものと判明した。

報告書

(3件)
  • 2016 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2015 実施状況報告書
  • 研究成果

    (6件)

すべて 2017 2016 2015

すべて 雑誌論文 (2件) (うち国際共著 1件、 査読あり 2件、 オープンアクセス 1件) 学会発表 (4件) (うち国際学会 2件、 招待講演 2件)

  • [雑誌論文] 半導体ウエハへの三次元配線加工:TSVと狭ピッチ電極を中心に2017

    • 著者名/発表者名
      福島誉史, 李康旭, 田中徹, 小柳光正
    • 雑誌名

      表面技術

      巻: 67(8) ページ: 410-420

    • NAID

      130005875872

    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Oxide-Oxide Thermocompression Direct Bonding Technologies with Capillary Self-Assembly for Multichip-to-Wafer Heterogeneous 3D System Integration2016

    • 著者名/発表者名
      Takafumi Fukushima, Hideto Hashiguchi, Hiroshi Yonekura, Hisashi Kino, Mariappan Murugesan, Ji-Chel Bea, Kang-Wook Lee , Tetsu Tanaka and Mitsumasa Koyanagi
    • 雑誌名

      Micromachines

      巻: 7 号: 10 ページ: 184-184

    • DOI

      10.3390/mi7100184

    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著
  • [学会発表] Transfer and Non-Transfer 3D Stacking Technologies Based on Multichip-to-Wafer Self-Assembly and Direct Bonding2016

    • 著者名/発表者名
      Takafumi Fukushima, Hideto Hashiguchi, Murugesan Mariappan, Jicheol Bea, Hiroyuki Hashimoto, Hisashi Kino,
    • 学会等名
      ECTC: IEEE Electronic Components and Technology Conference
    • 発表場所
      USA(Las Vegas)
    • 年月日
      2016-06-01
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Self-Assembly Based Multichip-to-Wafer Bonding Technologies for 3D/Hetero Integration2016

    • 著者名/発表者名
      福島誉史
    • 学会等名
      The Electrochemical Society
    • 発表場所
      ホノルル(米国)
    • 関連する報告書
      2016 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] 気相堆積重合によるポリイミド薄膜の形成とシリコン貫通配線への応用2015

    • 著者名/発表者名
      福島誉史, マリアッパン ムルゲサン, 裵志哲, 李康旭, 小柳光正
    • 学会等名
      第64回高分子討論会
    • 発表場所
      宮城県 仙台市 東北大学 川内キャンパス
    • 年月日
      2015-09-10
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
  • [学会発表] 高分子材料を用いた三次元集積技術2015

    • 著者名/発表者名
      福島誉史
    • 学会等名
      第41回YJC実装技術セミナー
    • 発表場所
      神奈川県 横浜市 横浜国立大学
    • 年月日
      2015-06-11
    • 関連する報告書
      2015 実施状況報告書
    • 招待講演

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公開日: 2015-04-16   更新日: 2018-03-22  

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