| 研究課題/領域番号 |
15K21580
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
電力工学・電力変換・電気機器
電子・電気材料工学
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| 研究機関 | 八戸工業高等専門学校 (2016-2017)
一関工業高等専門学校 (2015) |
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研究代表者 |
鎌田 貴晴 八戸工業高等専門学校, 産業システム工学科電気情報工学コース, 助教 (50435400)
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| 連携研究者 |
向川 政治 岩手大学, 理工学部, 教授 (60333754)
渡部 政行 日本大学, 理工学部, 教授 (30271844)
中村 嘉孝 八戸工業高等専門学校, 産業システム工学科, 准教授 (00290685)
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| 研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2018-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2017年度)
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| 配分額 *注記 |
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2017年度: 390千円 (直接経費: 300千円、間接経費: 90千円)
2016年度: 390千円 (直接経費: 300千円、間接経費: 90千円)
2015年度: 3,640千円 (直接経費: 2,800千円、間接経費: 840千円)
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| キーワード | 擬火花放電 / アモルファスカーボン膜 / ダイヤモンドライクカーボン膜 / ラマンスペクトル / XPS / プラズマ計測 / ＸＰＳ |
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| 研究成果の概要 |
擬火花放電プラズマCVD法を用いて、DLC膜の成膜装置の開発を行った。XPSスペクトルは非晶質炭素に典型的なC1sピークを示した。膜中のsp3結合の存在比と膜硬度は、基板電圧の増加に伴って増加した。DLC膜の最大硬度は基板電圧-300 Vで5.8GPaであった。電極間に浮遊電極を追加し、挿入前と比べるとイオン密度がわずかに減少し、プラズマが継続して撃ち出されなかった。装置に追加した水素によるICPの基礎特性を調べた。RF電力300 W時、200 mm下流のイオン密度は1012 cm-3オーダーであった。また、RF電力(50~300 W)に対して電流と電圧の位相差が変化することを確認した。
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