| 研究課題/領域番号 |
15K21595
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
プラズマエレクトロニクス
薄膜・表面界面物性
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| 研究機関 | 佐世保工業高等専門学校 |
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研究代表者 |
大島 多美子 佐世保工業高等専門学校, 電気電子工学科, 准教授 (00370049)
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| 研究協力者 |
川崎 仁晴
須田 義昭
青木 振一
池上 知顕
加島 篤
中宮 俊幸
光木 文秋
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| 研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2017-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2016年度)
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| 配分額 *注記 |
4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2016年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2015年度: 3,250千円 (直接経費: 2,500千円、間接経費: 750千円)
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| キーワード | スパッタリング / 粉体ターゲット / 低融点有機材料 / 多元素複合材料 / プラズマプロセス / アルミニウムドープ酸化亜鉛 / 透明導電膜 |
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| 研究成果の概要 |
本研究では、一般的なスパッタリング法で用いられる固体ターゲットでは作製が困難な（1）低融点有機材料薄膜および（2）多元素複合材料薄膜を安価で容易に作製することを目的として、粉体をそのままターゲットとして利用したスパッタリング法を提案し研究を行った結果、次の成果を得た。
（1）有機EL Alq3薄膜の安定した成膜に必要なスパッタリング条件の最適化を行った。（2）混合粉体を用いたAlドープ酸化亜鉛（AZO）薄膜では、混合する材料の組み合わせ、混合比の最適化を行い、その混合粉体にさらにAlを添加し添加量を最適化することによって電気的特性の改善を達成することができた。
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