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磁界中マイクロ波による低気圧マイクロプラズマの生成と診断

研究課題

研究課題/領域番号 16040214
研究種目

特定領域研究

配分区分補助金
審査区分 理工系
研究機関長崎大学

研究代表者

藤山 寛  長崎大学, 大学院生産科学研究科, 教授 (20112310)

研究分担者 松田 良信  長崎大学, 工学部, 助教授 (60199817)
篠原 正典  長崎大学, 工学部, 助手 (80346931)
研究期間 (年度) 2004 – 2005
研究課題ステータス 完了 (2005年度)
配分額 *注記
5,000千円 (直接経費: 5,000千円)
2005年度: 3,000千円 (直接経費: 3,000千円)
2004年度: 2,000千円 (直接経費: 2,000千円)
キーワードプラズマ・核融合 / 半導体超微細化 / マイクロ・ナノデバイス / マイクロマシン / ナノ加工 / プラズマ加工
研究概要

本研究は,低気圧,短ギャップ条件下における新たなマイクロプラズマ源の開発およびその診断を目的として研究を行った.固体壁に囲まれた小さな閉空間プラズマでは,放電そのものが固体壁の影響を強く受けるのみならず,壁の状態がプラズマパラメータにフィードバックされる.プラズマが生成され始める磁界(放電開始磁界)を測定した結果,ECRおよび2^<nd> Harmonic ECR条件付近の磁界を印加したときに放電が開始する傾向が確認され,同軸型低気圧マイクロプラズマの生成を行うにあたり,ECR共鳴および2^<nd> Harmonic ECRの高次の共鳴が有効であることが確認された.
また,プローブ測定,発光分光測定により,電子軌道の収縮に起因していると考えられる2^<nd> Harmonic ECR条件付近での電子密度,発光強度の増加が確認された.さらに,磁界配位を一様磁界からミラー磁界へと変更することにより,電子密度の増加が確認された.これは電子の軸方向の閉じ込め効果が効いているものと考えられる.
二次電子放出係数の高いMgO電極壁を有する閉空間マイクロプラズマでは,2^<nd> Harmonic ECR条件で電子密度が最大,ECR条件で電子密度が最小となる結果が得られた.これはSUS電極と定性的に同じ結果である.しかしながら,壁との相互作用が激しいRCR条件でのマイクロプラズマは,壁の影響を強く受けて電子密度の増加率が最大となるという興味ある結果が得られた.この考察を裏付けるように,電子の閉じ込めの良い2^<nd> Harmonic ECR条件付近では,SUS電極をMgO電極に代えても電子密度がほとんど変化しない結果となった.
また,二次電子放出係数を変化させて行われたPIC-MCシミュレーションの結果から,プローブ法及び発光分光法を用いたプラズマパラメータ診断の実験結果とシミュレーション結果が定性的に一致していることが確認された

報告書

(2件)
  • 2005 実績報告書
  • 2004 実績報告書
  • 研究成果

    (5件)

すべて 2006 2005 2004

すべて 雑誌論文 (5件)

  • [雑誌論文] Low-pressure Micro Plasma Generation using Microwave in Mirror-type Magnetic Fields2006

    • 著者名/発表者名
      H.Fujiyama, D..Kurogi, Y.Furue, T.Nakatani
    • 雑誌名

      Proc.of the 6^<th> International Conference on Reactive Plasmas

      ページ: 199-200

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Low-Pressure Micro Plasma Generation using Microwave in a Magnetic Field,2005

    • 著者名/発表者名
      Y.Furue, D.Kurogi, H.Inoue, H.Fujiyama
    • 雑誌名

      Proc.5th Asian-European Int.Conf.on Plasma Surface Engineering

      ページ: 73-73

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Characteristics of the 2nd Harmonic ECR Micro Plasma by using PIC-MC Simulation2005

    • 著者名/発表者名
      D.Kurogil, Y.Matsuda, H.Fujiyama, S.J.Kim, J.K.Lee
    • 雑誌名

      Proc.5th Asian-European Int.Conf.on Plasma Surface Engineering

      ページ: 344-344

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Influence of Electrode Size on Generation of Low-Pressure Coaxial ECR Micro Plasma2005

    • 著者名/発表者名
      M.Kumamoto, H.Inoue, M.Matsushita, H.Fujiyama
    • 雑誌名

      Thin Solid Films 475

      ページ: 124-127

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] 磁界中マイクロ波による低気圧マイクロプラズマ生成2004

    • 著者名/発表者名
      古江陽光, 井上弘之, 隈本 稔, 黒木大輔, 藤山 寛
    • 雑誌名

      電気学会プラズマ研究会資料 PST-04-67

      ページ: 25-28

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書

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公開日: 2004-04-01   更新日: 2018-03-28  

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