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安熱合成法による高品質・大型バルクGaN単結晶の育成

研究課題

研究課題/領域番号 16656006
研究種目

萌芽研究

配分区分補助金
研究分野 応用物性・結晶工学
研究機関東北大学

研究代表者

福田 承生  東北大学, 多元物質科学研究所, 客員教授 (30199236)

研究分担者 吉川 彰  東北大学, 多元物質科学研究所, 助教授 (50292264)
山根 久典  東北大学, 学際科学国際高等研究センター, 教授 (20191364)
菊地 昌枝  東北福祉大学, 感性福祉研究所, 特任教授 (00005951)
研究期間 (年度) 2004 – 2005
研究課題ステータス 完了 (2005年度)
配分額 *注記
3,300千円 (直接経費: 3,300千円)
2005年度: 1,400千円 (直接経費: 1,400千円)
2004年度: 1,900千円 (直接経費: 1,900千円)
キーワードバルクGaN / 安熱合成法 / 酸性鉱化剤 / GaN / 単結晶 / 青色レーザー / 基板
研究概要

アモノサーマル法によるGaN結晶の作製においては、前駆体・鉱化剤の種類や濃度、結晶作製温度や圧力など、様々なパラメータについて最適化しなければならない。鉱化剤をNH_4Clに絞り、温度圧力を系統的に変化させることでデータを蓄積した。得られた実験結果のうち、特に最も重要である核生成の制御に考察した。
安熱合成法によるGaN結晶育成実験の結果、HVPE法により作製された2mm角GaN基板上への結晶作製に成功した。4日間で21μmのGaN結晶成長に成功した。逆格子マップによる評価から、育成結晶は種結晶上にエピタキシャル成長していることが分った。また、鉱化剤の添加量により結晶成長速度や形状の制御が可能であり、これまでに最高で27.5μm/dayまで達した。また、10日間の長期間育成実験においても、結晶育成は継続されていることから、原料が継続して供給されてさえいれば、結晶成長はコンスタントに継続されることが分った。
2mm角での結晶作製に成功したことから、結晶の大型化についても試みた。10mm角のバルク種結晶を用いて、10日間で膜厚230μmの透明なGaN結晶作製に成功した。結晶の作製速度は23μm/dayであり、バルク種結晶を用いても、結晶育成速度が変わらないことが確認された。電子線回折パターンから、作製したGaN結晶は単結晶であることが確認され、また、TEMによる転位密度測定の結果、転位密度は基板と同程度の1.0×10^9cm^2であった。
本研究により、安熱合成法によりGaNバルク結晶作製が可能であることを示した。また、長期間育成においても結晶作製速度が保たれることが確認され、バルク種結晶上へのGaN結晶作製にも成功した。これにより、さらに大きな種結晶の仕様と長期間育成をすることで、バルクGaN単結晶の大型化が期待される。

報告書

(2件)
  • 2005 実績報告書
  • 2004 実績報告書
  • 研究成果

    (7件)

すべて 2006 2005 2004 その他

すべて 雑誌論文 (7件)

  • [雑誌論文] 水熱合成法によるZnO単結晶の作成技術2006

    • 著者名/発表者名
      福田承生
    • 雑誌名

      MATERIAL STAGE 1.5(10)

      ページ: 1-5

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] ソルボサーマル法によるZnOバルク結晶作製とそのGaN結晶への適用2005

    • 著者名/発表者名
      吉川彰
    • 雑誌名

      日本結晶成長学会誌 32

      ページ: 15-15

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] ソルボサーマル法によるZnOバルク結晶作製とGaN結晶への適用2005

    • 著者名/発表者名
      吉川 彰 他
    • 雑誌名

      日本結晶成長学会誌 32

      ページ: 1-5

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Crystal growth of GaN by ammonothermal method2004

    • 著者名/発表者名
      A.Yoshikawa et al.
    • 雑誌名

      J.Cryst.Growth 260

      ページ: 67-72

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Growth of the 2-in-size bulk ZnO single crystals by the hydrothermal method2004

    • 著者名/発表者名
      E.Ohshima et al.
    • 雑誌名

      J.Cryst.Growth 260

      ページ: 166-170

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Single crystal growth of GaN by the temperature gradient Na flux method2004

    • 著者名/発表者名
      M.Aoki et al.
    • 雑誌名

      J.Cryst.Growth 266

      ページ: 461-466

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Ammonothermal epitaxy of thick GaN film using NH_4Cl mineralizer

    • 著者名/発表者名
      Y.Kagamitani
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics (In press)

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書

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公開日: 2004-04-01   更新日: 2016-04-21  

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