• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 前のページに戻る

微細凹凸構造での微小気泡の吸着・脱離制御に基づく新規メモリデバイスの開発

研究課題

研究課題/領域番号 16656105
研究種目

萌芽研究

配分区分補助金
研究分野 電子デバイス・電子機器
研究機関長岡技術科学大学

研究代表者

河合 晃  長岡技術科学大学, 工学部, 助教授 (00251851)

研究期間 (年度) 2004 – 2005
研究課題ステータス 完了 (2005年度)
配分額 *注記
3,400千円 (直接経費: 3,400千円)
2005年度: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円)
2004年度: 2,200千円 (直接経費: 2,200千円)
キーワード微小気泡 / エネルギーバランス変化 / 表面エネルギー / 微細加工 / 吸着 / 環境制御型電子顕微鏡 / ラプラス力 / 貴金属 / プラズモン変化
研究概要

今後の情報化産業を支える電子デバイス技術は、貴金属および希土類元素などの貴重な資源を多く消費し、かつ、高集積化の限界が近づき将来性が危惧されている。しかしながら、21世紀の科学の発展では、省資源化および省エネルギー化に基づく新規デバイスの開発が、人間と機械の調和の観点では必要不可欠である。本研究は、微細空間における気泡の吸着及び脱離現象を利用した新機能デバイスの開発を目的とする。気泡の吸着と脱離をメモリデバイスに応用する課題として、選択的に気泡を脱離させる技術の確立が必要不可欠である。このため、本研究では確実にマイクロ経路の中に、微小気泡を捕獲する技術の構築が重要となる。具体的には、凹凸構造内でのエネルギーバランスが崩れることで、気泡は脱離する。本研究においては、気泡制御を基本としたメモリとしての基本動作を実証し、その発展性を検証する。本年度では、マイクロ経路の形状を変えることで、微小凹凸構造での気泡の吸着・吸着現象を確認できた。今後、デバイス動作のために多くの解決すべき課題が存在する。そこで、デバイス実現の可能性を検証することを重要視し、デバイス動作の高精度化や安定性は次年度に位置付けている。本研究は、微小凹凸構造における個々の気泡の制御に関するものであり、これまでに研究例がなく、斬新な成果が期待できる。本研究期間には、原著論文6報、国際学会発表7件、国内学会発表4件の成果発表を行った。気泡制御に関する基礎調査および講演発表として、オーストリアで開催されるNME2005国際学会に出席した。また、国際会議であるMNC2005で発表した。また、実験研究成果は、J.Photopolymer Science & Technologyなどの学術雑誌で発表した。

報告書

(2件)
  • 2005 実績報告書
  • 2004 実績報告書
  • 研究成果

    (16件)

すべて 2006 2005 2004

すべて 雑誌論文 (16件)

  • [雑誌論文] Removal mechanism of nano-bubble with AFM for Immersion Lithography2006

    • 著者名/発表者名
      Akira Kawai, Kenta Suzuki
    • 雑誌名

      Microelectronic Engineering (in press)

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Adhesion Improvement of ArF Resist Pattern Depending on BARC Material2006

    • 著者名/発表者名
      Akira Kawai, Takahiro Moriuchi, Takayoshi Niiyama
    • 雑誌名

      Microelectronic Engineering (in press)

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Condensation Mechanism of Micro Bubbles Depending on DFR Pattern Design2006

    • 著者名/発表者名
      Akira Kawai, Hotaka Endo, Tomotaka Ariga
    • 雑誌名

      Microelectronic Engineering (in press)

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Condensation Behavior of nanoscale bubbles on ArF excimer resist surface analyzed by atomic force microscope2005

    • 著者名/発表者名
      Akira Kawai
    • 雑誌名

      J.Photopolymer Sci.Technol. 18(3)

      ページ: 349-349

    • NAID

      130004833035

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Deflection Analysis of Micro Cantilever due to Water Vapor Adsorption2005

    • 著者名/発表者名
      Akira Kawai, Takahiro Moriuchi
    • 雑誌名

      J.Photopolymer Sci.Technol. 18(6)

      ページ: 681-681

    • NAID

      130004464459

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Dot Pattern Collapse due to Laplace Force Analyzed by Dynamical Meniscus Model2005

    • 著者名/発表者名
      Akira Kawai, Kenta Suzuki
    • 雑誌名

      J.Photopolymer Sci.Technol. 18(6)

      ページ: 679-679

    • NAID

      130004464458

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Cohesion property of resist pattern surface analyzed by tip indentation method2004

    • 著者名/発表者名
      Akira Kawai
    • 雑誌名

      Journal of Photopolymer Science and Technology 17

      ページ: 441-448

    • NAID

      130004464370

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Interaction force analysis of resist film surface in water vapor2004

    • 著者名/発表者名
      Takayoshi Niiyama, Akira Kawai
    • 雑誌名

      Journal of Photopolymer Science and Technology 17

      ページ: 453-456

    • NAID

      130004464372

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Meniscus analysis in microgap during liquid drying process2004

    • 著者名/発表者名
      Atsushi Ishikawa, Makoto Sakata, Akira Kawai
    • 雑誌名

      Journal of Photopolymer Science and Technology 17

      ページ: 457-460

    • NAID

      130004464373

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Analysis of drying behavior of rinse water depended on resist pattern arrangement2004

    • 著者名/発表者名
      Akira Kawai, Masahito Hirano, Takayoshi Niiyama
    • 雑誌名

      Journal of Photopolymer Science and Technology 17

      ページ: 461-464

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Cohesion property of polymer aggregate depending on hardening treatment2004

    • 著者名/発表者名
      Atsushi Ishikawa, Takashi Tanji, Akira Kawai
    • 雑誌名

      Journal of Photopolymer Science and Technology 17

      ページ: 99-102

    • NAID

      130004832985

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Viscous finger pattern formed in photoresist film during heat treatment2004

    • 著者名/発表者名
      Akira Kawai, Akihito Seki, Hotaka Endo
    • 雑誌名

      Journal of Photopolymer Science and Technology 17

      ページ: 103-104

    • NAID

      130004832955

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Micro bubbles captured at micro defect on resist film2004

    • 著者名/発表者名
      Hotaka Endo, Akira Kawai
    • 雑誌名

      Journal of Photopolymer Science and Technology 17

      ページ: 105-106

    • NAID

      130004832956

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Pinning effect of micro drops on geometrical complex substrates composed with different surface energy material2004

    • 著者名/発表者名
      Masaki Yamanaka, Akira Okada, Akira Kawai
    • 雑誌名

      J.Vac.Sci.& Technol B22

      ページ: 3525-3527

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Determination of Young's modulus of polymer aggregate based on Hertz theory2004

    • 著者名/発表者名
      Atsushi Ishikawa, Takashi Tanji, Akira Kawai
    • 雑誌名

      Journal of Photopolymer Science and Technology 17

      ページ: 715-718

    • NAID

      130004832992

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Adhesion mechanism of micro bubbles on ArF and F2 excimer resists2004

    • 著者名/発表者名
      Hotaka Endo, Akira Kawai
    • 雑誌名

      Journal of Photopolymer Science and Technology 17

      ページ: 713-714

    • NAID

      130004832991

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書

URL: 

公開日: 2004-04-01   更新日: 2016-04-21  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi