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シリコン単電子デバイスによる単一イオンの動き検出

研究課題

研究課題/領域番号 16656106
研究種目

萌芽研究

配分区分補助金
研究分野 電子デバイス・電子機器
研究機関静岡大学

研究代表者

田部 道晴  静岡大学, 電子工学研究所, 教授 (80262799)

研究分担者 池田 浩也  静岡大学, 電子工学研究所, 助教授 (00262882)
前田 正彦  金沢工業大学, 工学部, 教授 (50329372)
石川 靖彦  東京大学, 大学院・工学系研究科, 助手 (60303541)
研究期間 (年度) 2004 – 2006
研究課題ステータス 完了 (2006年度)
配分額 *注記
2,800千円 (直接経費: 2,800千円)
2006年度: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円)
2005年度: 900千円 (直接経費: 900千円)
2004年度: 900千円 (直接経費: 900千円)
キーワードシリコン / 単電子デバイス / 単一イオンの検出
研究概要

本研究は、電子1個1個のトンネリングを制御したSi単電子デバイスに可動イオンを導入し、電流振動特性の変化から単一イオンの空間的動きを検出することを目的とする。
当初はLiを可動イオンとして選択し、SiN膜の対Li拡散阻止能を利用する予定であったが、デバイス作製上困難であり、18年度はバイクリスタルFETと呼ぶ転位網を内包した構造を作製してLiを転位網に偏析させる試みを行った。しかし、XPSで観測した限りでは転位網に特に偏析する徴候は見られなかった。
そこで、視点を変えて単電子トランジスタが作製されているSOI基板の下地基板にドーピングしてあるイオンを1個ずつ検出する可能性を探った。そのため、初期条件として全てのB原子が中性となる極低温低電界状態を設定し、その後徐々に垂直電界を印加していき中性B原子がイオン化していくことに伴う単電子トランジスタの電流の時間変化をモニターした。その結果、B原子1個ずつのイオン化を反映して、単電子電流が階段状に変化することを発見した。我々が知る限り、単一イオンの検出は初めてであり、大きな成果と考えている。可動イオンであるLiで実現しなかったが今後につながる成果と思われる。

報告書

(3件)
  • 2006 実績報告書
  • 2005 実績報告書
  • 2004 実績報告書
  • 研究成果

    (14件)

すべて 2006 2005 2004

すべて 雑誌論文 (13件) 図書 (1件)

  • [雑誌論文] Transition from wire formation to island formation in thermal agglomeration of a (111) silicon-on-insulator layer2006

    • 著者名/発表者名
      Zainal A.Burhanudin, Ratno Nuryadi, Yasuhiko Ishikawa, Michiharu Tabe
    • 雑誌名

      Thin Solid Films 508

      ページ: 235-238

    • 関連する報告書
      2006 実績報告書
  • [雑誌論文] Numerical study of turnstile operation in random-multidot-channel field-effect transistor2006

    • 著者名/発表者名
      Hiroya Ikeda, Michiharu Tabe
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics 99

    • 関連する報告書
      2006 実績報告書
  • [雑誌論文] Single-photon-induced random-telegraph-signal in a two-dimensional multiple-tunnel-junction array2006

    • 著者名/発表者名
      Ratno Nuryadi, Yasuhiko Ishikawa, Michiharu Tabe
    • 雑誌名

      Physical Review B 73・4

    • NAID

      120000795244

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Single-electron tunneling in a silicon-on-insulator layer embedding an artificial dislocation network2006

    • 著者名/発表者名
      Yasuhiko Ishikawa, Chihiro Yamamoto, Michiharu Tabe
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters 88・7

    • NAID

      120000796478

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Fowler-Nordheim Current Oscillations in Si(111)/SiO_2/twisted-Si(111) Tunneling Structures2006

    • 著者名/発表者名
      Daniel Moraru, Hiroshi Kato, Seiji Horiguchi, Yasuhiko Ishikawa, Hiroya Ikeda, Michiharu Tabe
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 45・11

    • NAID

      10018158638

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Numerical Study of Turnstile Operation in Random-Multidot-Channel Field-Effect Transistor2006

    • 著者名/発表者名
      Hiroya Ikeda, Michiharu Tabe
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics (掲載決定)

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Diffusion of Li in the silicon oxide films and evaluation of Li-induced surface potensial2005

    • 著者名/発表者名
      Masahiko Maeda, Teruyoshi Watanabe, Yasuhiro Imai, Yasuhiko Ishikawa, Michiharu Tabe
    • 雑誌名

      Applied Surface Science 244・1-4

      ページ: 61-64

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Conductivity Enhancement in Thin Silicon-on-Insulator Layer Embedding Aritificial Dislocation Network2005

    • 著者名/発表者名
      Yasuhiko Ishikawa, Kazuaki Yamauchi, Chihiro Yamamoto, Michiharu Tabe
    • 雑誌名

      Materials Research Society Symposium Proceedings 864

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Thermally induced formation of Si wire array on an ultrathin (111) silicon-on-insulator substrate2005

    • 著者名/発表者名
      Zainai A.Burhanudin, Ratno Nuryadi, Yasuhiko Ishikawa, Michiharu Tabe
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters 87・12

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Potential-well-roughness-induced transition from resonant tunneling to single-electron tunneling in Si/SiO_2 double-barrier structure2005

    • 著者名/発表者名
      Yasuhiko Ishikawa, Hiroya Ikeda, Michiharu Tabe
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters 86・1

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Current fluctuation in single-hole transport through a two-dimensional Si multidot2005

    • 著者名/発表者名
      Ratno Nuryadi, Hiroya Ikeda, Yasuhiko Ishikawa, Michiharu Tabe
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters 86・13

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Diffusion of Li in the silicon oxide films and evaluation of Li-induced surface potential2005

    • 著者名/発表者名
      Masahiko Maeda, Teruyoshi Watanabe, Yasuhiro Imai, Yasuhiko Ishikawa, Michiharu Tabe
    • 雑誌名

      Applied Surface Science (掲載決定)

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Photoinduced Effects on Single-Charge Tunneling in a Si Two-Dimensional Multidot Field-Effect Transistor2004

    • 著者名/発表者名
      Hiroya Ikeda, Ratno Nuryadi, Yasuhiko Ishikawa, Michiharu Tabe
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 43・6B

    • NAID

      10013161190

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [図書] Silicon Nanoelectronics, Chap.6 Resonant tunneling in Si nanodevices (Edited by Sunri Oda, David Ferry)2006

    • 著者名/発表者名
      Michiharu Tabe, Hiroya Ikeda, Yasuhiko Ishikawa
    • 出版者
      CRC Press
    • 関連する報告書
      2005 実績報告書

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公開日: 2004-04-01   更新日: 2016-04-21  

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