| 研究概要 |
(1)ヒドリド(ヒドロシリレン)ルテニウム錯体の合成と極性分子との反応
最近,合成に成功したタイトルのルテニウム錯体とアセトニトリルおよびベンゾニトリルとの反応を検討したところ、これらのニトリルの炭素-炭素結合切断を伴いほぼ定量的にシリルイソシアニド錯体を与えることが分かった。このニトリルとの反応では中間体がNMRにより観測され,アセトニトリルとの反応の場合,中間体の単離に成功した。興味深いことに,この中間体はSi-Hσ結合が金属に配位したσ-錯体であることが,x線結晶構造解析により明らかにされた。このルテニウム錯体の反応は,以前報告したタングステン類縁錯体とは大きく異なっており,これら2つの錯体の反応性の違いについてさらに研究中である。
(2)ハロシリレン白金錯体の合成と構造
シリレンケイ素上に電子求引性のハロゲンを持つシリレン錯体の例は極めて少ないが,これは未だ完全な形では報告例の無い,ケイ素-遷移金属三重結合を持つシリリン錯体の前駆体として有望な化合物である。今回,そのような錯体であるブロモシリレン白金錯体を,14電子白金錯体とトリブロモシランとを還元剤存在下に反応させることにより合成することに成功した。この錯体は,塩基の配位していないハロシリレン錯体として3例目であり,ブロモ基を持つものとして,また,白金のハロシリレン錯体として初めての錯体である。また,ケイ素上のブロモ基を求核置換反応によりメチル基に置換することにも成功した。この反応は,ケイ素上に2つの異なる置換基を持つ新しいシリレン錯体合成法として,今後の発展が期待される。なお,これら2つの新規シリレン錯体のX線結晶構造解析にも成功した。
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