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画像表示デバイスを用いた微細任意パターン形成技術の汎用化と集積回路設計への応用

研究課題

研究課題/領域番号 16760276
研究種目

若手研究(B)

配分区分補助金
研究分野 電子デバイス・電子機器
研究機関熊本大学

研究代表者

中田 明良  熊本大, 工学部, 助教授 (60302650)

研究期間 (年度) 2004 – 2005
研究課題ステータス 完了 (2005年度)
配分額 *注記
3,600千円 (直接経費: 3,600千円)
2005年度: 1,400千円 (直接経費: 1,400千円)
2004年度: 2,200千円 (直接経費: 2,200千円)
キーワードリソグラフィー / 半導体デバイス / 集積回路設計 / 液晶ディスプレイ / マスクレス / レチクル / MOSFET / 微細加工
研究概要

本研究は、画像表示デバイスを用いた微細任意パターン形成技術の汎用化と集積回路設計への応用を行うことを目的として実施しているものである。
平成16年度においては、レチクルフリー露光技術において不可欠な画像表示デバイスを、広く一般的に使用されている投影露光装置において従来のレチクルと同様に取り扱える汎用性を持たせた"ユニバーサルレチクル"として設計・試作することを第一の目標として研究を進めた。まず、液晶ディスプレイのブラックマトリックス面と石英ガラス上のパターン面との距離を50um程度まで近接させるための接着工程に関して検討を行い、液晶ディスプレイ研削法およびガラス基板切削法の両者において実現可能であることを実際の試作を通して示した。その結果、投影プロジェクタ用に使用されている小型液晶ディスプレイをg線ステッパー装置における露光時に必要なパターンが予め書き込まれた石英ガラスの上に実装することで、実際にレチクルアライメントやウエハアライメントなどの機能を搭載したユニバーサルレチクルを作製できることを実証した。
さらに、従来のガラスレチクルに対して透過率が低下するという課題に対して、その解決策に関しての基礎的な検討も行った。その結果、透過率低下の主要な原因である偏光光線の生成に関して、偏光変換光学系を採用することで光源の光利用効率を2.7倍まで大幅に向上させることが可能であることを示した。さらに、画素開口形状の微細化を同時に実現することで、従来の石英レチクルの光利用効率に近いユニバーサルレチクルを実現できることを明らかにし、技術の汎用化に向けての知見を得た。
次年度においては、ユニバーサルレチクルを用いて実施する集積回路の試作プロセス結果を元に、集積回路の設計規則の体系化および設計した回路パターンの露光画像への変換アルゴリズムの策定を行い、本技術の集積回路設計への応用を進める。

報告書

(1件)
  • 2004 実績報告書
  • 研究成果

    (7件)

すべて 2005 2004

すべて 雑誌論文 (6件) 図書 (1件)

  • [雑誌論文] Design and fabrication of MOS device circuit with reticle-free exposure method2005

    • 著者名/発表者名
      K.Wakasugi, S.Wakimoto, A.Nakada, I.Ohshima, H.Kubota, K.Nakamura
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics vol.44, no.4B(印刷中)

    • NAID

      10022539116

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] グリッドパターン転写方式におけるMOSFETの省面積化設計2005

    • 著者名/発表者名
      脇元聡, 若杉雄彦, 岩崎吉記, 中田明良, 久保田弘, 中村一光
    • 雑誌名

      電子情報通信学会2005年総合大会講演論文集 C-11-3

      ページ: 60-60

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] 多角形ゲートMOSFETの試作とその電流駆動特性の測定2005

    • 著者名/発表者名
      脇元聡, 若杉雄彦, 岩崎吉記, 中田明良, 久保田弘, 中村一光
    • 雑誌名

      春季第52回応用物理学関係連合講演会予稿集 No.2, 31a-P5-41

      ページ: 982-982

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Design and fabrication of MOS device circuits with reticle-free exposure method2004

    • 著者名/発表者名
      K.Wakasugi, S.Wakimoto, A.Nakada, I.Ohshima, H.Kubota, K.Nakamura
    • 雑誌名

      Extended Abstracts of the 2004 International Conference on Solid State Devices and Materials 2004

      ページ: 480-481

    • NAID

      10022539116

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Development of QTAT on-line electronic circuit patterning system for PWBs2004

    • 著者名/発表者名
      K.Wakasugi, S.Wakimoto, A.Nakada, H..Kubota, K.Nakamura, T.Morimoto
    • 雑誌名

      Conference Proceedings of the International Symposium on Semiconductor Manufacturing 2004

      ページ: 542-545

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] レチクルフリー露光方式を適用した半導体集積回路の設計と試作2004

    • 著者名/発表者名
      若杉雄彦, 脇元聡, 大嶋一郎, 中田明良, 久保田弘, 中村一光, 井口恒夫
    • 雑誌名

      第65回応用物理学会学術講演会講演予稿集 No.2, 2p-R-19

      ページ: 620-620

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [図書] 技術総合誌OHM第91巻第5号「QTAT生産技術への挑戦」2004

    • 著者名/発表者名
      久保田弘, 中田明良, 森本達郎, 若杉雄彦
    • 出版者
      株式会社オーム社
    • 関連する報告書
      2004 実績報告書

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公開日: 2004-04-01   更新日: 2016-04-21  

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