| 研究課題/領域番号 |
16H02333
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(A)
|
| 配分区分 | 補助金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 研究分野 |
電子・電気材料工学
|
|---|
| 研究機関 | 大阪大学 |
|---|
研究代表者 |
浜屋 宏平 大阪大学, 基礎工学研究科, 教授 (90401281)
|
|---|
| 研究分担者 |
大岩 顕 大阪大学, 産業科学研究所, 教授 (10321902)
澤野 憲太郎 東京都市大学, 工学部, 教授 (90409376)
斉藤 好昭 株式会社東芝研究開発センター, その他部局等, その他 (80393859)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2016-04-01 – 2020-03-31
|
| 研究課題ステータス |
中途終了 (2019年度)
|
| 配分額 *注記 |
44,460千円 (直接経費: 34,200千円、間接経費: 10,260千円)
2019年度: 7,410千円 (直接経費: 5,700千円、間接経費: 1,710千円)
2018年度: 13,000千円 (直接経費: 10,000千円、間接経費: 3,000千円)
2017年度: 13,000千円 (直接経費: 10,000千円、間接経費: 3,000千円)
2016年度: 11,050千円 (直接経費: 8,500千円、間接経費: 2,550千円)
|
|---|
| キーワード | 半導体スピントロにクス / スピン流 / ハーフメタル / ゲルマニウム / 電子・電気材料 / スピントロニクス / 電気・電子材料 / スピンエレクトロニクス |
|---|
| 研究成果の概要 |
本研究では，外場で変化する半導体のスピン抵抗変調を利用した『純スピン流伝導の光・電界制御技術』の創成に挑戦した．高性能スピントロニクス材料として知られるハーフメタルを用いた半導体へのスピン注入・検出技術を開発し，純スピン流を変調することのできる舞台での実験技術を構築した．また，その研究過程で半導体のスピン緩和現象に対する新しい知見を得ることができた．最終的に，光照射下での僅かではあるが純スピン流信号の変調に成功した．今後，信号の変調強度を確保するために，半導体中のキャリア濃度を1桁以上下げることが重要であると考えられる．
|
| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
本研究は，金属を伝導チャネルとする純スピン流伝導素子では原理的に実現することが難しい『純スピン流伝導の光・電界制御技術』を検討した点に学術的意義がある．また，今回検討した半導体スピントロニクス素子では，「ゲルマニウム(Ge)」という次世代半導体を利用しており，シリコン(Si)系半導体テクノロジーと整合する半導体スピントロニクス素子の実現可能性を飛躍的に向上させるものである．従って，我が国の目指す低炭素社会の実現に大きく寄与する技術の開発につながると期待され，社会的意義も大きい．
|
