研究課題
若手研究(A)
次世代エレクトロニクスの新しいスイッチ素子として、トンネルFET素子が注目されている。これは、従来のFETでは実現できない低消費電力性能を有しているためである。本研究では、トンネルFET素子研究について、新しいヘテロ接合によるトンネル接合の形成技術・欠陥制御技術の確立を基軸として、素子の高性能化技術の確立、回路応用へと展開を図る相補スイッチング構造を新しく提案・実証した。
トンネルFETは、あらゆるエレクトロニクスの消費電力を9割以上削減できる潜在性を有した次世代スイッチ素子である。本研究では、この素子の新しい構造・接合を代表者独自のナノ構造形成技術を基軸に提案し、接合界面の欠陥制御技術に着目することで、消費電力を9割以上削減へ向けた課題を解決する新しい素子構造の提案と基盤技術を確立し、高性能化を実証した。これにより、次世代エレクトロ二クスの消費電力を抜本的に削減する技術を提供する。
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