| 研究課題/領域番号 |
16K04999
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
プラズマエレクトロニクス
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| 研究機関 | 佐世保工業高等専門学校 |
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研究代表者 |
川崎 仁晴 佐世保工業高等専門学校, 電気電子工学科, 教授 (10253494)
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| 研究協力者 |
大島 多美子 佐世保工業高等専門学校, 電気電子工学科, 准教授 (00370049)
柳生 義人 佐世保工業高等専門学校, 電気電子工学科, 准教授 (40435483)
猪原 武士 (篠原 正典) 佐世保工業高等専門学校, 電気電子工学科, 講師 (30634050)
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| 研究期間 (年度) |
2016-04-01 – 2019-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2018年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2018年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2017年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2016年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
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| キーワード | 粉体ターゲット / スパッタリング成膜 / パルスレーザデポジション / プラズマプロセス / 薄膜 / 裏面照射 / プラズマ・核融合 / プラズマエレクトロニクス |
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| 研究成果の概要 |
PLD装置で用いるターゲットホルダとして透明の石英ガラスを用い、粉体を少量充填し、Nd:YAGレーザを裏面から照射する新しいPLD法を開発した。これを用いて酸化チタン（TiO2）の薄膜を作製した。作製した薄膜のSEM像は、やや粗く多くのドロップレットが確認された。成膜速度は通常のPLDに比べると非常に遅い。XPSによる分析結果から、表面の組成はTiO2であることがわかった。XRDの分析結果から、薄膜は結晶性が有り、ルチルとアナターゼの混合したマルチエレメントの薄膜であった。結晶性は成膜後の基板加熱によって制御できることや、成膜速度が、通常のPLD方よりも遅いこともわかった。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
裏面照射型粉体ターゲットPLD法を用いて、機能性薄膜の作製を行った。その結果機能性薄膜が作製できることがわかった。この成果は、無限の組み合わせの多元素薄膜の作成が可能であることを示唆しており、プラズマプロセスを用いた薄膜作製の汎用性向上に大いに役立てられると考えている。また、この方法を応用できれば、２次元薄膜や、３次元多元素機能性薄膜作製システムの開発に応用できる。これによって、３次元の多元素機能性薄膜作製システムを開発し、成膜速度を向上できれば、金属の3次元プリンタへの応用も可能となる。
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