| 研究課題/領域番号 |
16K05634
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
プラズマ科学
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| 研究機関 | 佐賀大学 |
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研究代表者 |
大津 康徳 佐賀大学, 理工学部, 教授 (50233169)
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| 研究協力者 |
田原 達夫
シュルツ ジュリアン
ホッサイン マハムッド アムザッド
住山 貴史
井手 翼
中村 優太朗
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| 研究期間 (年度) |
2016-04-01 – 2019-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2018年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2018年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2017年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2016年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
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| キーワード | ネオ磁場配位リングホロー磁化放電 / 高密度プラズマ / 高速アッシング / スパッタリング / 高密度均一プラズマ / リング状ホロー磁化放電 / ホロー効果 / ネオ磁場構造 / 低気圧高密度プラズマ / 容量結合型放電 / プラズマ応用 / 高密度プラズマ源 / ホロー陰極放電 |
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| 研究成果の概要 |
高周波容量結合プラズマは太陽電池パネル、液晶ディスプレイ、スマートフォンなどの製造工程における半導体薄膜、機能性薄膜の合成やLSIの超微細加工に広く使用されている。しかしながら、容量結合プラズマには、生産速度に課題が残されている。その原因は、プラズマ密度が低密度であるためである。本研究では、独自に提案したネオ磁場配位型リングホロー磁化放電を確立させた。この新方式放電により、生産速度が従来の10倍以上を達成できるプラズマ密度を有していることを明らかにした。さらに、プラズマ応用として、アッシング特性や透明導電膜合成を実施し、本放電方式が優位であることも明らかとなった。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
第4の物質状態であるプラズマは、身近な情報家電機器の中に組み込まれている集積回路や各種センサの薄膜などの加工に広く利用されている。本研究では、従来のプラズマの課題を解決するために、独自に提案した放電方式により、従来の課題であった低密度プラズマを解決した。プラズマ密度が従来の10倍以上であることを明らかにした。それらの研究で得られた成果は8件の国際的な学術雑誌として公表されたので学術的意義は大きい。また、本方式を工業応用することにより、省エネルギー化を向上させることが期待され、社会的意義も大きい。
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