| 研究課題/領域番号 |
16K06031
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
生産工学・加工学
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| 研究機関 | 東京工業高等専門学校 |
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研究代表者 |
角田 陽 東京工業高等専門学校, 機械工学科, 准教授 (60224359)
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| 研究期間 (年度) |
2016-04-01 – 2019-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2018年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2018年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2017年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2016年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
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| キーワード | 微細加工 / エピタキシャル成長 / テクスチャ / ナノマイクロ加工 / 自律的創成 |
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| 研究成果の概要 |
マイクロテクスチャとは，代表寸法がマイクロメートルオーダ以下の単位規則形状が無秩序に，または秩序よく規則的に整列配置されている面である．同面を持つ機械構造体や機械要素部品では，さまざまな分野への直接的・間接的な波及効果が期待できる．しかし，その創成技術の確立は十分とはいえない．そこで本研究では，規則的配列マイクロテクスチャ創成技術のひとつとして，雰囲気制御環境下での分子線エピタキシャル結晶成長における分子の自律的な整列現象により，従来にない多様な単位規則形状が整列したマイクロテクスチャの創成技術の確立をめざした．実際の試作実験や解析により，その創成技術の確立に資する知見を得た．
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
本研究では，雰囲気制御分子線エピタキシャル結晶成長における現象を応用し，マイクロテクスチャ創成技術として確立するための第一段階として，技術確立に資する知見を得た．
具体的には，雰囲気制御環境下における，創成可能な単位規則形状およびマイクロテクスチャを明確化した．すなわち，雰囲気制御環境下における，基板面方位，成長条件（基板温度，成長速度）と創成規則的単位形状の関係を実験的に明らかにした．また，雰囲気環境と，あらかじめ付与する幾何形状を加工条件として，本手法によって創成可能なテクスチャの形状を実験的に明確化をはかり，今後の同テクスチャ創成技術確立に有効な情報を得ることができたといえる．
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