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アンモニア分解率向上による高In組成InGaN結晶の高品質化のための反応炉設計

研究課題

研究課題/領域番号 16K06260
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関名古屋大学

研究代表者

新田 州吾  名古屋大学, 未来材料・システム研究所, 特任准教授 (80774679)

研究協力者 天野 浩  
本田 善央  
宇佐美 茂佳  
永松 謙太郎  
出来 真斗  
研究期間 (年度) 2016-04-01 – 2019-03-31
研究課題ステータス 完了 (2018年度)
配分額 *注記
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2018年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2017年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
2016年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
キーワードInGaN / MOVPE / NH3 / アンモニア / 分解 / LED / MOCVD / 長波長 / 窒化物半導体 / LD / MOVPE/MOCVD / NH3/アンモニア / V/III比 / 結晶成長 / 電子・電気材料 / 表面・界面物性 / 半導体物性
研究成果の概要

高In組成InGaNのMOVPE結晶成長時の低い成長温度によるアンモニア分解率低下に着目し検討を改善を試みた。成長基板と基板トレイの間にギャップを設け、ギャップを大きくすることにより基板表面に対して基板トレイ温度が相対的に上昇し、上流側の気相温度が上昇する効果があることをシミュレーションで確認した。これを実際に550nmの長波長で発光するInGaN量子井戸の結晶成長に適用したところ、ギャップの大きい基板トレイを用いることによりPL強度の増大、半値幅の低減、モフォロジーの改善がみられた。本手法は高In組成InGaNの高品質化を極めて容易な設計変更で実現できる技術として確立された。

研究成果の学術的意義や社会的意義

次世代の高効率LEDを用いた照明、ディスプレイ、光通信のために窒化物半導体による長波長LEDの研究開発に大きな期待がかかっている。しかし発光層として用いられるInGaNは、長波長化のためにIn組成を増大させると構造的欠陥が発生し、発光特性が大きく低下するため、実現は非常に困難である。本研究では組成増大に伴う欠陥発生の主要因であるアンモニア分解効率低下による実効V/Ⅲ比の低下を抑制するため、基板表面への供給前のアンモニアガスの加熱過程に着目した。既存のMOVPE装置の構成は従来のままで基板トレイの僅かな設計変更によりアンモニアの活性・分解を促進し、高品質な高In組成InGaN結晶成長を実現した。

報告書

(4件)
  • 2018 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2017 実施状況報告書
  • 2016 実施状況報告書
  • 研究成果

    (11件)

すべて 2019 2018 2017 2016

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件) 学会発表 (9件) (うち国際学会 8件、 招待講演 1件)

  • [雑誌論文] Effect of gas phase temperature on InGaN grown by metalorganic vapor phase epitaxy2019

    • 著者名/発表者名
      Liu Zhibin、Nitta Shugo、Usami Shigeyoshi、Robin Yoann、Kushimoto Maki、Deki Manato、Honda Yoshio、Pristovsek Markus、Amano Hiroshi
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth

      巻: 509 ページ: 50-53

    • DOI

      10.1016/j.jcrysgro.2018.12.007

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Morphological study of InGaN on GaN substrate by supersaturation2019

    • 著者名/発表者名
      Liu Zhibin、Nitta Shugo、Robin Yoann、Kushimoto Maki、Deki Manato、Honda Yoshio、Pristovsek Markus、Amano Hiroshi
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth

      巻: 508 ページ: 58-65

    • DOI

      10.1016/j.jcrysgro.2018.12.028

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] The effect of the environment temperature around the wafer on InGaN grown by metalorganic vapor phase epitaxy2018

    • 著者名/発表者名
      Zhibin Liu, Shugo Nitta, Shigeyoshi Usami, Kentaro Nagamatsu, Yoann Robin, Maki Kushimoto, Manato Deki, Yoshio Honda, and Hiroshi Amano
    • 学会等名
      19th International Conference on Metalorganic Vapor Phase Epitaxy
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Direct observation of ammonia decomposition and interaction with trimethylgallium in a metalorganic vapor phase epitaxy reactor2018

    • 著者名/発表者名
      Shugo Nitta, Kentaro Nagamatsu, Zheng Ye, Hirofumi Nagao, Shinichi Miki, Maki Kushimoto, Manato Deki, Atsushi Tanaka, Yoshio Honda, Markus Pristovsek, and Hiroshi Amano
    • 学会等名
      19th International Conference on Metalorganic Vapor Phase Epitaxy
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Effect of the misorientation angle of GaN substrate on high-indium-content InGaN grown by metalorganic vapor phase epitaxy2018

    • 著者名/発表者名
      Zhibin Liu, Shugo Nitta, Yoann Robin, Maki Kushimoto, Manato Deki, Yoshio Honda, Markus Pristovsek, and Hiroshi Amano
    • 学会等名
      International Workshop on Nitride Semiconductors 2018
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] The effect of the environment temperature around the wafer on InGaN grown by metalorganic vapor phase epitaxy2018

    • 著者名/発表者名
      Zhibin Liu
    • 学会等名
      19th International Conference on Metalorganic Vapor Phase Epitaxy (ICMOVPE-XIX)
    • 関連する報告書
      2017 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Direct observation of ammonia decomposition and interaction with trimethylgallium in a metalorganic vapor phase epitaxy reactor2018

    • 著者名/発表者名
      Shugo Nitta
    • 学会等名
      19th International Conference on Metalorganic Vapor Phase Epitaxy (ICMOVPE-XIX)
    • 関連する報告書
      2017 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Morphological study of InGaN layer growth on GaN substrate by metalorganic vapor phase epitaxy2017

    • 著者名/発表者名
      Zhibin Liu
    • 学会等名
      12th International Conference on Nitride Semiconductors, Strasbourg France
    • 関連する報告書
      2017 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] The effect of the environment temperature of the wafer on InGaN grown by metalorganic vapor phase epitaxy2017

    • 著者名/発表者名
      Zhibin Liu
    • 学会等名
      第78回 応用物理学会 秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2017 実施状況報告書
  • [学会発表] In situ and ex situ optical characterization of nitride semiconductor crystal for advanced optical and power electronic devices2017

    • 著者名/発表者名
      Shugo Nitta
    • 学会等名
      Optics 2017 - Photonic Conferences - Laser Technology Applications
    • 関連する報告書
      2017 実施状況報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] In-line NH3 Reactant Analysis on Nitride Semiconductor Metalorganic Vapor Phase Epitaxy via High-Resolution Mass Spectrometry2016

    • 著者名/発表者名
      S. Nitta, K. Nagamatsu, R. Miyagoshi, Z. Ye, H. Nagao, S. Miki, H. Y. Honda and H. Amano
    • 学会等名
      International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN 2016)
    • 発表場所
      Orlando, Florida
    • 年月日
      2016-10-02
    • 関連する報告書
      2016 実施状況報告書
    • 国際学会

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公開日: 2016-04-21   更新日: 2020-03-30  

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