| 研究課題/領域番号 |
16K06788
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
材料加工・組織制御工学
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| 研究機関 | 北見工業大学 |
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研究代表者 |
阿部 良夫 北見工業大学, 工学部, 教授 (20261399)
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| 研究分担者 |
金 敬鎬 北見工業大学, 工学部, 准教授 (70608471)
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| 研究協力者 |
川村 みどり 北見工業大学, 工学部, 教授 (70261401)
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| 研究期間 (年度) |
2016-04-01 – 2019-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2018年度)
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| 配分額 *注記 |
4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円)
2018年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2017年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2016年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
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| キーワード | スパッタリング法 / 酸化物薄膜 / エレクトロクロミック / 固体電解質 / 反応性スパッタ / 高速成膜 / 金属ターゲット / 金属ターゲットモード / プロトン伝道 / 電子・電気材料 / スパッタリング / 水酸化物薄膜 |
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| 研究成果の概要 |
本研究では、スマートウィンドウ用の水酸化物薄膜を作製するため、低温水蒸気スパッタ法を開発した。これは、金属ターゲットと反応ガスである水蒸気を用い、液体窒素により冷却した基板の表面に水蒸気を直接噴射して水酸化物薄膜を作製する方法である。本方法では、ターゲット表面をスパッタ率の高い金属状態に保つことができるため、従来の反応性スパッタ法よりも約8倍の成膜速度で水酸化ニッケル薄膜を作製できることを見出した。また、この方法で作製した水酸化ニッケル薄膜は、優れたエレクトロクロミック特性を示すことを確認した。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
住宅やオフィスビルの省エネルギー技術として、エレクトロクロミック・スマートウィンドウが期待されている。我々は、この電極と電解質層に用いる薄膜材料の製造技術として、低温水蒸気スパッタ法を開発した。本方法により、水酸化物薄膜や水和酸化物薄膜の成膜速度が大幅に向上したことは、エレクトロクロミック・スマートウィンドウの低コスト化に貢献し、普及を促進するものと考えている。
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