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気相法による白金族酸化物高圧相の合成

研究課題

研究課題/領域番号 16K13958
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分基金
研究分野 無機化学
研究機関東北大学

研究代表者

福村 知昭  東北大学, 材料科学高等研究所, 教授 (90333880)

連携研究者 岡 大地  東北大学, 大学院理学研究科, 助教 (20756514)
研究協力者 FATIMA Zainab  
研究期間 (年度) 2016-04-01 – 2018-03-31
研究課題ステータス 完了 (2017年度)
配分額 *注記
2,990千円 (直接経費: 2,300千円、間接経費: 690千円)
2017年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2016年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
キーワードエピタキシャル薄膜 / 二酸化ルテニウム / 格子歪 / ルチル構造 / 金属絶縁体転移 / 強相関電子系 / エピタキシャル / 磁性
研究成果の概要

パルスレーザー堆積法によりRuO2薄膜を合成した結果、高圧相であるHP-PdF2型RuO2の多結晶薄膜を得ることができたが、エピタキシャル薄膜の合成は困難であった。その一方、イットリア安定化ジルコニアおよびサファイア単結晶基板を用いてRuO2薄膜を合成すると、最安定相であるルチル型RuO2エピタキシャル薄膜を得た。ここでバッファー層を導入することにより、約4%もの非常に大きな格子歪を実現することができ、抵抗率も大きく変化することがわかった。この大きな格子歪の印加法を利用して、RuO2や他の白金族酸化物薄膜の物性を制御可能であることが期待される。

報告書

(3件)
  • 2017 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2016 実施状況報告書
  • 研究成果

    (3件)

すべて 2018 2017

すべて 学会発表 (3件)

  • [学会発表] Epitaxial growth of highly strained RuO2 thin film by self-buffering method2018

    • 著者名/発表者名
      Zainab Fatima, Daichi Oka, Tomoteru Fukumura
    • 学会等名
      第63回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
  • [学会発表] Epitaxial growth of highly strained RuO2 thin film by self-buffering method2018

    • 著者名/発表者名
      Zainab Fatima, Daichi Oka, Tomoteru Fukumura
    • 学会等名
      理学・生命科学研究科合同シンポジウム2018
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
  • [学会発表] ルチル型二酸化ルテニウム薄膜における電気輸送特性の膜厚依存性2017

    • 著者名/発表者名
      沓澤大、岡大地、福村知昭、長谷川哲也
    • 学会等名
      表面科学会第2回関東支部講演大会
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書

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公開日: 2016-04-21   更新日: 2019-03-29  

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