| 研究課題/領域番号 |
16K14143
|
|---|
| 研究種目 |
挑戦的萌芽研究
|
| 配分区分 | 基金 |
|---|
| 研究分野 |
設計工学・機械機能要素・トライボロジー
|
|---|
| 研究機関 | 東京工業大学 |
|---|
研究代表者 |
金 俊完 東京工業大学, 科学技術創成研究院, 准教授 (40401517)
|
|---|
| 研究分担者 |
吉田 和弘 東京工業大学, 科学技術創成研究院, 教授 (00220632)
嚴 祥仁 東京工業大学, 科学技術創成研究院, 助教 (20551576)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2016-04-01 – 2018-03-31
|
| 研究課題ステータス |
完了 (2017年度)
|
| 配分額 *注記 |
3,640千円 (直接経費: 2,800千円、間接経費: 840千円)
2017年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
2016年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
|
|---|
| キーワード | 静電気力 / ステンシルマスク / MEMS / 静電レンズ / エレクトロスプレーデポジション / 静電レンズアレイ / ナノ・マイクロパターニング / 神経細胞ネットワーク |
|---|
| 研究成果の概要 |
ステンシルマスクを用いたエレクトロスプレーデポジション(ESD)法は，生体/有機高分子材料を広範囲にマイクロパターニングできるため注目されている．しかし，ステンシルマスク穴のナノ加工は難しく，粒子が詰まる可能性も高いためパターンの微細化には限界がある．本論文では，ESD法と静電場の制御が可能なステンシルマスクを用いた新たなパターニング手法を提案し，ステンシルマスク穴より小さいパターニングやパターンサイズの制御を目的とする．
磁性体と絶縁体からなるステンシルマスクと磁力によるギャップ変化を用いた制御法，および，静電レンズを有するステンシルマスクと印加電圧の変化を用いた制御法を明確にした．
|
