研究課題/領域番号 |
16K14400
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研究種目 |
挑戦的萌芽研究
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配分区分 | 基金 |
研究分野 |
複合材料・表界面工学
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研究機関 | 北陸先端科学技術大学院大学 |
研究代表者 |
大平 圭介 北陸先端科学技術大学院大学, 先端科学技術研究科, 教授 (40396510)
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研究期間 (年度) |
2016-04-01 – 2019-03-31
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研究課題ステータス |
完了 (2018年度)
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配分額 *注記 |
3,640千円 (直接経費: 2,800千円、間接経費: 840千円)
2017年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
2016年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
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キーワード | シリコン / ドーピング / 太陽電池 / ヘテロ接合 / シリコンヘテロ接合太陽電池 / 触媒分解 / パッシベーション / 半導体物性 |
研究成果の概要 |
本研究は、ドーピング非晶質シリコン層を、ノンドープ非晶質シリコン層への事後のドーピングにより形成する「Catドーピング」を用いて作製し、シリコンヘテロ接合太陽電池を作製する技術の確立を目指したものである。非晶質シリコン/結晶シリコン界面でのキャリア再結合が悪化しないドーピング条件の明確化と、シリコンヘテロ接合太陽電池の動作確認および高開放電圧化を目標とした。その結果、主にドーピング時の基板温度の調整により、界面特性を悪化させることなくn型およびp型非晶質シリコン層を形成可能であることを見出した。また、Catドーピングで形成したp型非晶質シリコンを用いて作製した太陽電池の動作に成功した。
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研究成果の学術的意義や社会的意義 |
結晶シリコン太陽電池における究極の構造の一つといえる、裏面電極型シリコンヘテロ接合太陽電池の量産化において、裏面の非晶質シリコンの安価なパターニングが課題となっている。本研究において、事後のドーピングで形成した非晶質シリコン膜が太陽電池に利用できることが見出されたことから、非晶質シリコン膜に対しCatドーピングをハードマスクを通して行うことにより、事後のパターニング法として展開できる可能性を示した。
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