研究課題
挑戦的萌芽研究
Au薄膜を、スパッター法でマイクロ波吸収が無視できる石英(SiO2)基板に室温で膜厚数10~数100nm析出させた後、5.8GHzシングルモードアプリケータ、現存装置)によりポストアニールを行なった。この際に、現存の電磁石を利用して、磁場印加を行なった。 AFM(原子力間顕微鏡)により得られた薄膜の組織観察や、膜表面の平坦性についてテジタルデータを得て、これをフーリエ解析し、 凹凸の周期(波数)の変化につ いて解析を行なった。外部から静磁場を印加し、マイクロ波加熱処理を行なうことにより、結晶粒成長を抑制する事でき、平坦性が向上する傾向がある事が分 かった。
本研究は、金属薄膜の有効なマイクロ波吸収特性を利用して、短時間で金属薄膜のポストアニールを行う手法とそのプロセスにおける静磁場印加効果を調べることができた。また、本研究においては、膜平坦性を、膜厚プロファイルの波数スペクトルを取るという手法を用いて、定量的に解析することができた。本研究は、マイクロ波を援用した機能材料プロセッシングの１つとして、新規な方法を提案、実証することができ、プロセスの短時間、省エネルギー化に貢献できると考えられる。
すべて 2019 2018 2016
すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 1件、 オープンアクセス 1件) 学会発表 (4件) (うち国際学会 1件) 学会・シンポジウム開催 (1件)
IOP Conference Series: Materials Science and Engineering
巻: 424 ページ: 012041-012041
10.1088/1757-899x/424/1/012041
Proceedings of 2018 Asia-Pacific Microwave Conference, Xplore IEEE
巻: FR1-103-1 ページ: 1136-1138
