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High brightness yellow and red LEDs with p-side down structure by using polarization-induced tunneling junction

研究課題

研究課題/領域番号 16K17533
研究種目

若手研究(B)

配分区分基金
研究分野 光工学・光量子科学
研究機関国立研究開発法人産業技術総合研究所 (2017-2018)
名古屋工業大学 (2016)

研究代表者

Zhang Kexiong  国立研究開発法人産業技術総合研究所, エネルギー・環境領域, 産総研特別研究員 (80774463)

研究期間 (年度) 2016-04-01 – 2019-03-31
研究課題ステータス 完了 (2018年度)
配分額 *注記
4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円)
2017年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
2016年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
キーワードGaN / LED / Polarization Engineering / Tunneling Junction / polarization / tunneling junction / Long Wavelength / Polarization Effect / Semiconductor Device / 2-dimensional hole gas / エピタキシャル / 量子井戸 / 電子デバイス・機器 / 電子・電気材料 / 結晶成長
研究成果の概要

The theory of polarization engineering was applied into the design of device structure of InGaN/GaN LED. At the end of the project, new device processing and epitaxial structure for long wavelength LED was developed.

研究成果の学術的意義や社会的意義

This research propose a novel device structure with advanced device theory toward the issue of developing high efficiency red and yellow InGaN/GaN LED.
The research has great potential in overcome the basic problem of InGaN/GaN LED to mitigate "the green gap".

報告書

(4件)
  • 2018 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2017 実施状況報告書
  • 2016 実施状況報告書
  • 研究成果

    (12件)

すべて 2019 2018 2017 2016

すべて 雑誌論文 (4件) (うち国際共著 3件、 査読あり 4件、 謝辞記載あり 2件、 オープンアクセス 1件) 学会発表 (5件) (うち国際学会 3件) 学会・シンポジウム開催 (3件)

  • [雑誌論文] Demonstration of fully vertical GaN-on-Si Schottky diode2017

    • 著者名/発表者名
      Zhang K.、Mase S.、Nakamura K.、Hamada T.、Egawa T.
    • 雑誌名

      Electronics Letters

      巻: 53 号: 24 ページ: 1610-1611

    • DOI

      10.1049/el.2017.3166

    • 関連する報告書
      2017 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] The investigation of interfacial chemical state and band alignment in sputter-deposited CaF2/p-GaN heterojunction by angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy2016

    • 著者名/発表者名
      Kexiong Zhang, Meiyong Liao, Masatomo Sumiya, Yasuo Koide, Liwen Sang
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics

      巻: 120 号: 18 ページ: 185305-185305

    • DOI

      10.1063/1.4967394

    • 関連する報告書
      2016 実施状況報告書
    • 査読あり / 国際共著 / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Electrical hysteresis in p-GaN metal-oxide- semiconductor capacitor with atomic-layer-deposited Al2O3 as gate dielectric2016

    • 著者名/発表者名
      Kexiong Zhang, Meiyong Liao, Masataka Imura, Toshihide Nabatame, Akihiko Ohi, Masatomo Sumiya, Yasuo Koide, and Liwen Sang
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 9 号: 12 ページ: 121002-121002

    • DOI

      10.7567/apex.9.121002

    • 関連する報告書
      2016 実施状況報告書
    • 査読あり / 国際共著 / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] P-Channel InGaN/GaN heterostructure metal-oxide-semiconductor field effect transistor based on polarization-induced two-dimensional hole gas2016

    • 著者名/発表者名
      Kexiong Zhang, Masatomo Sumiya, Meiyong Liao, Yasuo Koide, Liwen Sang
    • 雑誌名

      Scientific Reports

      巻: 6 号: 1

    • DOI

      10.1038/srep23683

    • 関連する報告書
      2016 実施状況報告書
    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著
  • [学会発表] Fabrication of InGaN/GaN Nanopillars byNeutral Beam Etching: Towards Directional Micro-LED in Top-down Structure2019

    • 著者名/発表者名
      Kexiong Zhang
    • 学会等名
      JSAP 2019 spring meeting
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
  • [学会発表] Nanocolumns of InGaN/GaN MQWs Fabricated by Neutral Beam Etching for Directional Micro-LEDs2018

    • 著者名/発表者名
      Kexiong Zhang
    • 学会等名
      JSAP 2018 autumn meeting
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
  • [学会発表] Nanocolumns of InGaN/GaN MQWs Fabricated by Neutral Beam Etching for Directional Micro-LEDs2018

    • 著者名/発表者名
      Kexiong Zhang
    • 学会等名
      The International Workshop on Nitride Semiconductors 2018
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] InGaN/GaN Heterostructure P-Channel Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistor by Using Polarization-Induced Two-Dimensional Hole Gas2016

    • 著者名/発表者名
      Kexiong Zhang, Masatomo Sumiya, Meiyong Liao, Yasuo Koide, and Liwen Sang
    • 学会等名
      International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN 2016)
    • 発表場所
      Orlando, Florida, USA
    • 年月日
      2016-10-02
    • 関連する報告書
      2016 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] The investigation of GaN-based P-Channel Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistor2016

    • 著者名/発表者名
      Kexiong Zhang, Masatomo Sumiya, Meiyong Liao, Yasuo Koide, and Liwen Sang
    • 学会等名
      The international workshop on UV materials and devices (IWUMD-2016)
    • 発表場所
      Peking University, Beijing, China.
    • 年月日
      2016-07-27
    • 関連する報告書
      2016 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会・シンポジウム開催] The International Workshop on Nitride Semiconductors 20182018

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
  • [学会・シンポジウム開催] International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN 2016)2016

    • 発表場所
      Orlando, Florida,USA
    • 年月日
      2016-10-02
    • 関連する報告書
      2016 実施状況報告書
  • [学会・シンポジウム開催] The international workshop on UV materials and devices (IWUMD-2016)2016

    • 発表場所
      Peking University, Beijing, China
    • 年月日
      2016-07-27
    • 関連する報告書
      2016 実施状況報告書

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公開日: 2016-04-21   更新日: 2020-03-30  

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