| 研究課題/領域番号 |
17002011
|
|---|
| 研究種目 |
特別推進研究
|
| 配分区分 | 補助金 |
|---|
| 審査区分 |
理工系
工学
|
|---|
| 研究機関 | 九州工業大学 |
|---|
研究代表者 |
並木 章 九州工業大学, 工学研究院, 教授 (40126941)
|
|---|
| 研究分担者 |
和泉 亮 九州工業大学, 工学研究院, 教授 (30223043)
鶴巻 浩 九州工業大学, 工学研究院, 助教 (20315162)
山内 貴志 九州工業大学, 工学研究院, 助教 (70419620)
成田 克 九州工業大学, 工学研究院, 助教 (30396543)
稲永 征司 九州工業大学, 工学部, 助教 (30093959)
内藤 正路 九州工業大学, 工学部, 助教授 (60264131)
孫 勇 九州工業大学, 工学研究科, 助教授 (60274560)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2005 – 2009
|
| 研究課題ステータス |
完了 (2009年度)
|
| 配分額 *注記 |
172,510千円 (直接経費: 132,700千円、間接経費: 39,810千円)
2009年度: 15,210千円 (直接経費: 11,700千円、間接経費: 3,510千円)
2008年度: 15,210千円 (直接経費: 11,700千円、間接経費: 3,510千円)
2007年度: 15,210千円 (直接経費: 11,700千円、間接経費: 3,510千円)
2006年度: 15,080千円 (直接経費: 11,600千円、間接経費: 3,480千円)
2005年度: 111,800千円 (直接経費: 86,000千円、間接経費: 25,800千円)
|
|---|
| キーワード | 水素原子 / シリコン表面 / 吸着脱離 / スピン偏極原子 / 反応ダイナミックス / 水氷表面 / スピン効果 / 水素分子生成 / 氷表面 / 反応ダイナミクス |
|---|
| 研究概要 |
気相水素原子と表面吸着水素の反応をSi, Ru,及び水氷表面にて表面科学的な観点から研究した.Si表面では,水素熱脱離と吸着水素引き抜き反応のキネテクスとダイナミックスを互いに矛盾の無い形で解明し,歴史的問題に決着をつけた.水氷表面では,Ru表面などで観測された吸着水素の水素引き抜きによる分子脱離は観測されず,吸着水素原子の寿命は大変短いと予想された.スピン偏極水素原子線-表面反応装置を完成し,H原子のSi(111)表面吸着へのスピン効果を調べた.
|
