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フェムト秒パルスラジオリシス法によるナノ時空間反応プロセスの解明

研究課題

研究課題/領域番号 17106014
研究種目

基盤研究(S)

配分区分補助金
研究分野 原子力学
研究機関大阪大学

研究代表者

田川 精一  大阪大学, 産業科学研究所, 教授 (80011203)

研究分担者 古澤 孝弘  大阪大学, 産業科学研究所, 准教授 (20251374)
関 修平  大阪大学, 工学研究科, 准教授 (30273709)
佐伯 昭紀  大阪大学, 産業科学研究所, 助教 (10362625)
岡本 一将  大阪大学, 産業科学研究所, 特任助教 (10437353)
山本 洋揮  大阪大学, 産業科学研究所, 特任助教 (00516958)
研究期間 (年度) 2005 – 2008
研究課題ステータス 完了 (2008年度)
配分額 *注記
109,330千円 (直接経費: 84,100千円、間接経費: 25,230千円)
2008年度: 27,170千円 (直接経費: 20,900千円、間接経費: 6,270千円)
2007年度: 25,480千円 (直接経費: 19,600千円、間接経費: 5,880千円)
2006年度: 25,610千円 (直接経費: 19,700千円、間接経費: 5,910千円)
2005年度: 31,070千円 (直接経費: 23,900千円、間接経費: 7,170千円)
キーワードフェムト秒パルスラジオリシス / ナノ時空間反応 / 量子ビーム / ナノテクノロジー / フェムト秒パルスジオリシス / シミュレーション / 化学増幅レジスト / 高分子科学 / 熱化過程 / ナノ空間
研究概要

本研究は量子ビームがナノ空間に誘起する化学反応を、エネルギー付与過程から中間活性種の初期空間分布と空間分布の時間変化を含め解明することにより、将来、ナノ空間に誘起される現象を、次世代リソグラフィやナノリソグラフィにおいて使いこなすための基礎過程を確立することを目的とした研究である

報告書

(6件)
  • 2008 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2007 実績報告書
  • 2006 実績報告書
  • 2005 実績報告書
  • 研究成果発表報告書
  • 研究成果

    (91件)

すべて 2009 2008 2007 2006 2005

すべて 雑誌論文 (58件) (うち査読あり 46件) 学会発表 (33件)

  • [雑誌論文] Formation of Intramolecular Poly(4-hydroxystyrene) Dimer Radical Cation2008

    • 著者名/発表者名
      K. Okamoto, T. Kozawa, K. Natsuda, S. Seki, and S. Tagawa
    • 雑誌名

      J. Phys. Chem B 112

      ページ: 9275-9280

    • 関連する報告書
      2008 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Difference between Acid Generation Mechanisms in Poly(hydroxystyrene)- and Polyacrylate-Based Chemically Amplified Resists upon Exposure to Extreme Ultraviolet Radiation2008

    • 著者名/発表者名
      R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, D. Shimizu, T. Kai, T. Shimokawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 47

      ページ: 7125-7127

    • NAID

      40016294928

    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] X-ray reflectivity study on depth profile of acid generator distribution in chemically amplified resists2008

    • 著者名/発表者名
      T. Fukuyama, T. Kozawa, S. Tagawa, R. Takasu, H. Yukawa, M. Sato, J. Onodera, I. Hirosawa, T. Koganesawa, K. Horie
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Express 1

      ページ: 65004-65004

    • NAID

      10025081173

    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Enhancement of Acid Production in Chemically Amplified Resist for Extreme Ultraviolet Lithography2008

    • 著者名/発表者名
      H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, H. Yukawa, M. Sato, J. Onodera
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Express 1

      ページ: 47001-47001

    • NAID

      10025080127

    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Dependence of Acid Generation Efficiency on Molecular Structures of Acid Generators upon Exposure to Extreme Ultraviolet Radiation2008

    • 著者名/発表者名
      R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Express

      巻: 1 ページ: 27004-27004

    • NAID

      10025079296

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Difference in Reaction Schemes in Photolysis of Triphenylsulfonium Salts between 248 nm and Dry/Wet 193 nm Resists2008

    • 著者名/発表者名
      Y. Matsui, H. Sugawara, S. Seki, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Itani
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Express

      巻: 1 ページ: 36001-36001

    • NAID

      10025079690

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Resolution degradation caused by multispur effect in chemically amplified extreme ultraviolet resists2008

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa, M. Shell
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys.

      巻: 103 ページ: 84306-84306

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Feasibility Study of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists for 22 nm Fabrication2008

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, T. Itani
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 47 ページ: 4465-4468

    • NAID

      40016110961

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effects of Rate Constant for Deprotection on Latent Image Formation in Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2008

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, T. Itani
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 47 ページ: 4926-4931

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Study of the Reaction of Acid Generators with Epithermal and Thermalized Electrons2008

    • 著者名/発表者名
      K. Natsuda, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 47 ページ: 4932-4935

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Latent image formation in chemically amplified extreme ultraviolet resists with low activation energy for deprotection reaction2008

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa J. J. Santillan, T. Itani
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B

      巻: 26 ページ: 2257-2260

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Stroboscopic picosecond pulse radiolysis using near-ultraviolet-enhanced femtosecond continuum generated by CaF22007

    • 著者名/発表者名
      A. Saeki, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys 46

      ページ: 407-411

    • 関連する報告書
      2008 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Subpicosecond pulse radiolysis in liquid methyl-substituted benzene derivatives, Radiat2007

    • 著者名/発表者名
      K. Okamoto, T. Kozawa, A. Saeki, Y. Yoshida, and S. Tagawa
    • 雑誌名

      Phys. Chem 76

      ページ: 818-826

    • 関連する報告書
      2008 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Reactivity between Biphenyl and Precursor of Solvated Electrons in Tetrahydrofuran Measured by Picosecond Pulse Radiolysis in Near-ultraviolet, Visible, and Infrared2007

    • 著者名/発表者名
      A. Saeki, T. Kozawa, Y. Ohnishi, and S. Tagawa
    • 雑誌名

      Reactivity between Biphenyl and Precursor of Solvated Electrons in Tetrahydrofuran Measured by Picosecond Pulse Radiolysis in Near-ultraviolet, Visible, and Infrared A 111

      ページ: 1229-1235

    • 関連する報告書
      2008 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Stroboscopic picosecond pulse radiolysis using near-ultraviolet-enhanced femtosecond continuum generated by CaF_22007

    • 著者名/発表者名
      A. Saeki, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa,
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 46

      ページ: 407-411

    • NAID

      10018705573

    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Subpicosecond pulse radiolysis in liquid methyl-substituted benzene derivatives2007

    • 著者名/発表者名
      K. Okamoto, T. Kozawa, A. Saeki, Y. Yoshida, and S. Tagawa
    • 雑誌名

      Radiat. Phys. Chem. 76

      ページ: 818-826

    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Reactivity between Biphenyl and Precursor of Solvated Electrons in Tetrahydrofuran Measured by Picosecond Pulse Radiolysis in Near-ultraviolet, Visible, and Infrared2007

    • 著者名/発表者名
      A. Saeki, T. Kozawa, Y. Ohnishi, and S. Tagawa
    • 雑誌名

      J. Phys. Chem. A 111

      ページ: 1229-1235

    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Single-Component Chemically Amplified Resist Based on Dehalogenation of Polymer2007

    • 著者名/発表者名
      H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, and H. Komano,
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 46

    • NAID

      40015511976

    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Sensitization Distance and Acid Generation Efficiency in a Model System of Chemically Amplified Electron Beam Resist with Methacrylate Backbone Polymer2007

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa
    • 雑誌名

      J. Photopolym. Sci. Technol. 20

      ページ: 577-583

    • NAID

      130004464589

    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effect of Acid Diffusion and Polymer Structure on Line Edge Roughness2007

    • 著者名/発表者名
      H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, K. Okamoto, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, and H. Komano,
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 46

      ページ: 6187-6190

    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Dependence of Absorption Coefficient and Acid Generation Efficiency on Acid Generator Concentration in Chemically Amplified Resist for Extreme Ultraviolet Lithography2007

    • 著者名/発表者名
      R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 46

    • NAID

      40015671035

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Study of Acid-Base Equilibrium in Chemically Amplified Resist2007

    • 著者名/発表者名
      K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 46 ページ: 7285-7289

    • NAID

      40015705098

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Theoretical Study on Relationship between Acid Generation Efficiency and Acid Generator Concentration in Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2007

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa, M. Shell
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 46

    • NAID

      210000063809

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Point Spread Function for the Calculation of Acid Distribution in Chemically Amplified Resists Used for Electron-Beam Lithography2007

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 46

    • NAID

      210000063830

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Image contrast slope and line edge roughness of chemically amplified resists for postoptical lithography2007

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, T. Itani
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B

      巻: 25 ページ: 2295-2300

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Acid distribution in chemically amplified extreme ultraviolet resist2007

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao, H. Deng, M. J. Leeson
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B

      巻: 25 ページ: 2481-2485

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Polymer structure dependence of acid generation in chemically amplified extreme ultraviolet resists2007

    • 著者名/発表者名
      H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao, H. Deng, M. J. Leeson
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 46

    • NAID

      10018868104

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Protonation sites in chemically amplified resists for electron beam lithography Jpn2006

    • 著者名/発表者名
      K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto and S. Tagawa
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys 45

    • 関連する報告書
      2008 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Resolution blur of latent acid image and acid generation efficiency of chemically amplified resists for electron beam lithography2006

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa and S. Tagawa
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys 99

      ページ: 54509-54509

    • 関連する報告書
      2008 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Picosecond pulse radiolysis using femtosecond white light with a high S/N spectrum acquisition system in one beam shot, Nucl2006

    • 著者名/発表者名
      A. Saeki, T. Kozawa, and S. Tagawa
    • 雑誌名

      Instrum. Meth A 556

      ページ: 391-396

    • 関連する報告書
      2008 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Resolution blur of latent acid image and acid generation efficiency of chemically amplified resists for electron beam lithography2006

    • 著者名/発表者名
      T.Kozawa, S.Tagawa
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys. 99

      ページ: 54509-54509

    • 関連する報告書
      2006 実績報告書
  • [雑誌論文] Picosecond pulse radiolysis using femtosecond white light with a high S/N spectrum acquisition system in one beam shot2006

    • 著者名/発表者名
      A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa
    • 雑誌名

      Nucl. Instrum. Meth. A 556

      ページ: 391-396

    • 関連する報告書
      2006 実績報告書
  • [雑誌論文] Protonation sites in chemically amplified resists for electron beam lithography2006

    • 著者名/発表者名
      K.Natsuda, T.Kozawa, K.Okamoto, S.Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 45

    • NAID

      10018460952

    • 関連する報告書
      2006 実績報告書
  • [雑誌論文] Effects of Low Energy Electrons on Pattern Formation in Chemically Amplified Resist2006

    • 著者名/発表者名
      T.Kozawa, H.Yamamoto, A.Saeki, S.Tagawa
    • 雑誌名

      J. Photopolym. Sci. Technol. 19

      ページ: 361-366

    • NAID

      130004833103

    • 関連する報告書
      2006 実績報告書
  • [雑誌論文] Pulse radiolysis of polystyrene in cyclohexane -Effect of carbon tetrachloride on kinetic dynamics of dimer radical cation-2006

    • 著者名/発表者名
      K.Okamoto, T.Kozawa, M.Miki, Y.Yoshida, S.Tagawa
    • 雑誌名

      Chem. Phys. Lett. 426

      ページ: 306-310

    • 関連する報告書
      2006 実績報告書
  • [雑誌論文] Dependence of Acid Yield on Chemically Amplified Electron Beam Resist Thickness2006

    • 著者名/発表者名
      T.Shigaki, K.Okamoto, T.Kozawa, H.Yamamoto, S.Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 45

      ページ: 5445-5449

    • NAID

      10017998648

    • 関連する報告書
      2006 実績報告書
  • [雑誌論文] Analysis of Acid Yield Generated in Chemically Amplified Electron Beam Resist2006

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, T. Shigaki, K. Okamoto, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B

      巻: 24 ページ: 3055-3060

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Acid generation efficiency in a model system of chemically amplified extreme ultraviolet resist2006

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa, H. Oizumi, I. Nishiyama
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B

      巻: 24

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Correlation between proton dynamics and line edge roughness in chemically amplified resist for post-optical lithography2006

    • 著者名/発表者名
      A. Saeki, T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B

      巻: 24 ページ: 3066-3072

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Acid Generation Mechanism of Poly (4-hydroxystyrene) -Based Chemically Amplified Resists for Post-Optical Lithography : Acid Yield and Deprotonation Behavior of Poly (4-hydroxystyrene) and Poly (4-methoxystyrene)2006

    • 著者名/発表者名
      A. Nakano, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 45 ページ: 6866-6871

    • NAID

      10018245439

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Relationship between Acid Generator Concentration and Acid Yield in Chemically Amplified Electron Beam Resist2006

    • 著者名/発表者名
      T. Shigaki, K. Okamoto, T. Kozawa, H. Yamamoto, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 45 ページ: 5735-5737

    • NAID

      10017999650

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Reaction mechanism of fluorinated chemically amplified resists2006

    • 著者名/発表者名
      H. Yamamoto, T. Kozawa, K. Okamoto, A. Saeki, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B

      巻: 24 ページ: 1833-1836

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Pulse radiolysis based on a femtosecond electron beam and a femtosecond laser light with double-pulse injection technique2006

    • 著者名/発表者名
      J. Yang, T. Kondoh, T. Kozawa, Y. Yoshida, S. Tagawa
    • 雑誌名

      Radiat. Phys. Chem.

      巻: 75 ページ: 1034-1040

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Line edge roughness of a latent image in post-optical lithography2006

    • 著者名/発表者名
      A. Saeki, T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao
    • 雑誌名

      Nanotechnology

      巻: 17 ページ: 1543-1546

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Reactivity of Acid Generators for Chemically Amplified Resists with Low-Energy Electrons2006

    • 著者名/発表者名
      A. Nakano, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Szreder, J. F. Wishart, T. Kai, T. Shimokawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 45

    • NAID

      10018159212

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Femtosecond single electron bunch generation by rotating longitudinal bunch phase space in magnetic field2006

    • 著者名/発表者名
      J. Yang, T. Kondoh, K. Kan, T. Kozawa, Y. Yoshida, S. Tagawa
    • 雑誌名

      Nucl. Instrum. Meth. A

      巻: 556 ページ: 52-56

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Proton and anion distribution and line edge roughness of chemically amplified electron beam resist2005

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, H. Yamamoto, A. Saeki, and S. Tagawa
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol B23

      ページ: 2716-2720

    • 関連する報告書
      2008 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Proton and anion distribution and line edge roughness of chemically amplified electron beam resist2005

    • 著者名/発表者名
      T.Kozawa, H., Yamamoto, A.Saeki, S.Tagawa
    • 雑誌名

      J.Vac.Sci.Technol. B23

      ページ: 2716-2720

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Resist Thickness Effect on Acid Concentration Generated in Poly(4-hydroxystyrene) Film upon Exposure to 75 keV Electron Beam2005

    • 著者名/発表者名
      T.Shigaki, K.Okamoto, T.Kozawa, H.Yamamoto, S.Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 44

    • NAID

      10016856520

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Synchronization of femtosecond UV-IR laser with electron beam for pulse radiolysis studies2005

    • 著者名/発表者名
      A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa et al.
    • 雑誌名

      Nucl.Instrum.Meth. A546

      ページ: 627-633

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Effects of Dielectric Constant on Acid Generation in Chemically Amplified Resists for Post-Optical Lithography2005

    • 著者名/発表者名
      T.Kozawa, K.Okamoto, A.Saeki, S.Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 44

      ページ: 3908-3912

    • NAID

      10016441312

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Multi spur effect on decay kinetics of geminate ion recombination using Monte Carlo technique2005

    • 著者名/発表者名
      A.Saeki, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
    • 雑誌名

      Nucl.Instrum.Meth. B234

      ページ: 285-290

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Nanopatterning of polyfluorene derivative using electron-beam lithography2005

    • 著者名/発表者名
      Y.Doi, A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa et al.
    • 雑誌名

      J.Vac.Sci.Technol. B23

      ページ: 2051-2055

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Reaction Mechanisms of Brominated Chemically Amplified Resists2005

    • 著者名/発表者名
      H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 44

    • NAID

      10016590890

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Requirements for Laser-Induced Desorption/Ionization on Submicrometer Structures2005

    • 著者名/発表者名
      S. Okuno, R. Arakawa, K. Okamoto, Y. Matsui, S. Seki, T. Kozawa, S. Tagawa, Y. Wada
    • 雑誌名

      Anal. Chem.

      巻: 77 ページ: 5364-5369

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Study on acid generation from polymer2005

    • 著者名/発表者名
      H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B

      巻: 23 ページ: 2728-2732

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Dependence of Acid Yield on Acid Generator in Chemically Amplified Resist for Post-Optical Lithography2005

    • 著者名/発表者名
      A. Nakano, K. Okamoto, Y. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, H. Nemoto
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 44 ページ: 5832-5835

    • NAID

      10016678348

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Potential Cause of Inhomogeneous Acid Distribution in Chemically Amplified Resists for Post Optical Lithography2005

    • 著者名/発表者名
      H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 44 ページ: 5836-5838

    • NAID

      10016678367

    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] Sensitization mechanisms of chemically amplified resists and resist design for 22 nm node2009

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa and S. Tagawa
    • 学会等名
      2009 International Workshop on EUV Lithography
    • 発表場所
      Oahu, Hawaii, USA
    • 関連する報告書
      2008 研究成果報告書
  • [学会発表] Effect of acid generator structure on its depth distribution in chemically amplified resist films2008

    • 著者名/発表者名
      T. Fukuyama, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, M. Irie, T. Mimura, T. Iwai, J. Onodera, I. Hirosawa, T. Koganesawa, K. Horie
    • 学会等名
      21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
    • 発表場所
      Fukuoka, Japan
    • 年月日
      2008-10-28
    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
  • [学会発表] Study on acid generation of acid generators in chemically amplified resists for electron beam2008

    • 著者名/発表者名
      K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
    • 学会等名
      International Workshop on Molecular Information and Dynamics 2008
    • 発表場所
      Taipei, Taiwan
    • 関連する報告書
      2008 研究成果報告書
  • [学会発表] Dynamics of Radical Cation of Poly(4-Hydroxystyrene)and its Copolymer2008

    • 著者名/発表者名
      K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, S. Tagawa
    • 学会等名
      21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
    • 発表場所
      Fukuoka, Japan
    • 関連する報告書
      2008 研究成果報告書
  • [学会発表] Horie, Effect of acid generator structure on its depth distribution in chemically amplified resist films2008

    • 著者名/発表者名
      T. Fukuyama, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, M. Irie, T. Mimura, T. Iwai, J. Onodera, I. Hirosawa, T. Koganesawa, and K
    • 学会等名
      21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
    • 発表場所
      Fukuoka, Japan
    • 関連する報告書
      2008 研究成果報告書
  • [学会発表] Study on Reactivity of Halogenated Resist Polymer with Low-Energy Electrons2008

    • 著者名/発表者名
      H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Mimura, H. Yukawa, and J. Onodera
    • 学会等名
      21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
    • 発表場所
      Fukuoka, Japan
    • 関連する報告書
      2008 研究成果報告書
  • [学会発表] Effect of molecular structures of acid generators on acid generation in chemically amplified resists upon exposure to 75 keV electron beam2008

    • 著者名/発表者名
      K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
    • 学会等名
      21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
    • 発表場所
      Fukuoka, Japan
    • 関連する報告書
      2008 研究成果報告書
  • [学会発表] Dynamics of Radical Cations of Resist Model Compounds2008

    • 著者名/発表者名
      K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, S. Tagawa
    • 学会等名
      2nd Asia-Pacific Symposium on Radiation Chemistry
    • 発表場所
      Waseda University
    • 関連する報告書
      2008 研究成果報告書
  • [学会発表] Dependence of Acid Generation Efficiency on Molecular Structure and Concentration of Acid Generator in Chemically Amplified EUV Resist, SPIE Advanced Lithography2008

    • 著者名/発表者名
      R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa
    • 学会等名
      San Jose
    • 発表場所
      California, USA
    • 関連する報告書
      2008 研究成果報告書
  • [学会発表] Acid-base equilibrium in chemically amplified resist, SPIE Advanced Lithography2008

    • 著者名/発表者名
      K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
    • 学会等名
      San Jose
    • 発表場所
      California, USA
    • 関連する報告書
      2008 研究成果報告書
  • [学会発表] Pico-and subpico-second pulse radiolysis based on L-band linac with femtosecond white light continuum2007

    • 著者名/発表者名
      A. Saeki, T. Kozawa, and S. Tagawa (invited)
    • 学会等名
      The 7th International Symposium on Advanced Science Research
    • 発表場所
      Tokai, Ibaraki, Japan
    • 年月日
      2007-12-01
    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
  • [学会発表] Nanoscale Distribution of Intermediates in Resist Materials for Next Generation Lithography2007

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, and S. Tagawa
    • 学会等名
      ASR Symposium
    • 発表場所
      Ibaraki, Japan
    • 年月日
      2007-11-06 – 2007-11-09
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] Dependence of Absorption Coefficient and Acid Generation Efficiency on Acid Generator Concentration in Chemically Amplified EUV Resist2007

    • 著者名/発表者名
      R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai and T. Shimokawa
    • 学会等名
      Microprocess and Nanotechnology Conference
    • 発表場所
      Kyoto, Japan
    • 年月日
      2007-11-05 – 2007-11-08
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] Effect of Fluorine Atom on Acid Generation in Chemically Amplified EUV Resist2007

    • 著者名/発表者名
      H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, H. Yukawa, M. Sato, J. Onodera
    • 学会等名
      Microprocess and Nanotechnology Conference
    • 発表場所
      Kyoto, Japan
    • 年月日
      2007-11-05 – 2007-11-08
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] Study on the Reaction of Acid Generators with Epithermal Electrons2007

    • 著者名/発表者名
      K. Natsuda, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
    • 学会等名
      Microprocess and Nanotechnology Conference
    • 発表場所
      Kyoto, Japan
    • 年月日
      2007-11-05 – 2007-11-08
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] Effects of rate constant for deprotection reaction on latent image formation in chemically amplified EUV resists2007

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, and T. Itani
    • 学会等名
      Microprocess and Nanotechnology Conference
    • 発表場所
      Kyoto, Japan
    • 年月日
      2007-11-05 – 2007-11-08
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] Depth profile of acid generator distribution in chemically amplified resists2007

    • 著者名/発表者名
      T. Fukuyama, T. Kozawa, S. Tagawa, R. Takasu, H. Yukawa, M. Sato, J. Onodera, I. Hirosawa, T. Koganesawa, K. Horie
    • 学会等名
      Microprocess and Nanotechnology Conference
    • 発表場所
      Kyoto, Japan
    • 年月日
      2007-11-05 – 2007-11-08
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] Effect of Fluorine Atom on Acid Generation in Chemically Amplified EUV Resist2007

    • 著者名/発表者名
      H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa H. Yukawa, M. Sato, H. Komano
    • 学会等名
      2007 International EUVL Symposium
    • 発表場所
      Sapporo, Japan
    • 年月日
      2007-10-28 – 2007-10-31
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] Effects of activation energy for deprotection reaction on latent image contrast2007

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, T. Itani
    • 学会等名
      2007 International EUVL Symposium
    • 発表場所
      Sapporo, Japan
    • 年月日
      2007-10-28 – 2007-10-31
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] Pulse radiolysis of polystyrene and derivatives2007

    • 著者名/発表者名
      K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, S. Seki, S. Tagawa
    • 学会等名
      13th International Congress of Radiation Research
    • 発表場所
      San Francisco, California, USA
    • 年月日
      2007-07-07 – 2007-07-13
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] High precision measurement of higher diffraction-order contamination in monochromatized soft X-ray by using a compact transmission-grating spectrometer2007

    • 著者名/発表者名
      K. Fukui, T. Sakai, T. Hatsui, N. Kosugi, Y. Hamamura, K. Okamoto, Y. Matsui, T. Kozawa, S. Seki, S. Tagawa
    • 学会等名
      International Conference on Vacuum Ultraviolet Radiation Physics 15th
    • 発表場所
      Berlin, Germany
    • 年月日
      2007-06-29 – 2007-07-03
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] Development and performance of quasi-free standing transmission-grating for soft X-ray emission spectrometer2007

    • 著者名/発表者名
      T. Hatsui, K. Okamoto, Y. Matsui, T. Kozawa, S. Seki, S. Tagawa, Y. Hamamura, N. Kosugi
    • 学会等名
      International Conference on Vacuum Ultraviolet Radiation Physics 15th
    • 発表場所
      Berlin, Germany
    • 年月日
      2007-06-29 – 2007-07-03
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] Study on dynamics of radical ions of polystyrenes by pulse radiolysis2007

    • 著者名/発表者名
      K. Okamoto, M. Tanaka, S. Seki, T. Kozawa, S. Tagawa
    • 学会等名
      13th International Congress of Radiation Research
    • 発表場所
      San Francisco, California, USA
    • 年月日
      2007-06-07 – 2007-06-13
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] Acid distribution in chemically amplified extreme ultraviolet resist2007

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao, H. Deng, M. J. Leeson
    • 学会等名
      The fifty-first international conference on electron, ion, and photon beam technology and nanofabrication (51st EIPBN)
    • 発表場所
      Denver, Colorado, USA
    • 年月日
      2007-05-29 – 2007-06-01
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] Image Contrast Slope and Line Edge Roughness of Chemically Amplified Resists for Post-Optical Lithography2007

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, T. Itani
    • 学会等名
      The fifty-first international conference on electron, ion, and photon beam technology and nanofabrication (51st EIPBN)
    • 発表場所
      Denver, Colorado, USA
    • 年月日
      2007-05-29 – 2007-06-01
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] Single-Component Chemically Amplified Resist Based on Dehalogenation of Polymer2007

    • 著者名/発表者名
      H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, H. Komano
    • 学会等名
      SPIE Advanced Microlithography
    • 発表場所
      San Jose, California, USA
    • 年月日
      2007-02-25 – 2007-03-02
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] Study on photochemical analysis system for EUV lithography2007

    • 著者名/発表者名
      A. Sekiguchi, Y. Kono, M. Kadoi, Y. Minami, T. Kozawa, S. Tagawa, D. Gustafson, P. Plackborow
    • 学会等名
      SPIE Advanced Microlithography
    • 発表場所
      San Jose, California, USA
    • 年月日
      2007-02-25 – 2007-03-02
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] Effect of Acid Diffusion and Polymer Structure on Line Edge Roughness2006

    • 著者名/発表者名
      H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, K. Okamoto, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, H. Komano
    • 学会等名
      Int. Microprocesses and Nanotechnology Conf.
    • 発表場所
      Kamakura, Japan
    • 年月日
      2006-10-25 – 2006-10-27
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] Proton Dynamics and Amines in Chemically Amplified Resist2006

    • 著者名/発表者名
      K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa
    • 学会等名
      Int. Microprocesses and Nanotechnology Conf.
    • 発表場所
      Kamakura, Japan
    • 年月日
      2006-10-25 – 2006-10-27
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] Line edge roughness in chemically amplified resist of electron beam lithography2006

    • 著者名/発表者名
      A. Saeki, T. Kozawa, S. Tagawa and H. B. Cao
    • 学会等名
      50th EIPBN
    • 発表場所
      Baltimore, Maryland, USA
    • 年月日
      2006-05-30 – 2006-06-02
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] Analysis of Acid Yield Generated in Chemically Amplified Electron Beam Resist2006

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, T. Shigaki, K. Okamoto, A. Saeki and S. Tagawa
    • 学会等名
      50th EIPBN
    • 発表場所
      Baltimore, Maryland, USA
    • 年月日
      2006-05-30 – 2006-06-02
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] Difference between initial distributions of proton and counter anion in chemically amplified electron-beam resist2006

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, H. Yamamoto, A. Saeki and S. Tagawa
    • 学会等名
      31st Int. Symp. Microlithography
    • 発表場所
      San Jose, California, USA
    • 年月日
      2006-02-19 – 2006-02-24
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書
  • [学会発表] The reaction mechanism of poly[4-hydroxystyrene-co-4-(1, 1, 1, 3, 3, 3-hexafluoro-2- hydroxypropyl)-styrene]2006

    • 著者名/発表者名
      H. Yamamoto, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
    • 学会等名
      31st Int. Symp. Microlithography
    • 発表場所
      San Jose, California, USA
    • 年月日
      2006-02-19 – 2006-02-24
    • 関連する報告書
      研究成果発表報告書

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公開日: 2005-04-01   更新日: 2016-09-09  

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