| 研究課題/領域番号 |
17340174
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
プラズマ科学
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| 研究機関 | 大阪大学 |
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研究代表者 |
浜口 智志 大阪大学, 大学院工学研究科, 教授 (60301826)
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| 研究分担者 |
吉村 智 大阪大学, 工学研究科, 助教授 (40294029)
木内 正人 産業技術総合研究所, 生活環境技術連携研究体, 研究体長 (50356862)
寒川 誠二 東北大学, 流体科学研究所, 教授 (30323108)
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| 研究期間 (年度) |
2005 – 2006
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| 研究課題ステータス |
完了 (2006年度)
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| 配分額 *注記 |
14,500千円 (直接経費: 14,500千円)
2006年度: 4,200千円 (直接経費: 4,200千円)
2005年度: 10,300千円 (直接経費: 10,300千円)
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| キーワード | プラズマ / エッチング / 反応性スパッタリング / 紫外線 / 分子動力学シミュレーション / モンテカルロシミュレーション / イオンビーム / 紫外線照射 |
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| 研究概要 |
本研究の目的は、プラズマスパッタリングにともなう表面反応に対するプラズマからの入射光(とくに紫外光)の役割を解明することを目的である。プラズマを用いた反応性スパッタリング(反応性イオンエッチング)に対してプラズマからの入射光が大きな影響を与えることは経験的に知られているが、その光誘起非平衡表面化学反応の物理機構はほとんど知られていない。本研究では、分子動力学シミュレーションと質量分離イオンビーム照射装置を用いて、各種エッチングプロセスにおける表面反応機構を解析し、光照射がエッチングプロセスにどのような影響を与えるかを明らかにした。本研究プロジェクトの最終年度である平成18年度には、以下の課題に取り組んだ。(1)分子動力学(MD)シミュレーションにおいて、励起状態の原子間ポテンシャルモデルおよび光子と材料の衝突反応のモデル化を行う。(2)高精度質量分析低エネルギーイオンビーム装置を利用して、エネルギーと質量が厳密に制御された「単色」のイオンビームと、イオンビーム装置に設置した紫外光源からの入射光を物質表面に同時照射し、それらのシナジー効果を解析する。こうした研究により、紫外線が反応性イオンエッチング(プラズマスパッタリング)に与える影響が具体的に評価され、また、反応性イオンエッチングに伴う表面反応の各種特性が、シリコン酸化膜、有機ポリマー膜等、産業界で幅広く用いられる材料を代表する物質に対して、詳細に解析された。
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