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次世代積層型システムLSI用貫通電極の絶縁膜作製技術の開発

研究課題

研究課題/領域番号 17560288
研究種目

基盤研究(C)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関宮崎大学

研究代表者

横谷 篤至  宮崎大学, 工学部, 教授 (00183989)

研究分担者 甲藤 正人  宮崎大学, 産学連携支援センター, 助教授 (80268466)
研究期間 (年度) 2005 – 2006
研究課題ステータス 完了 (2006年度)
配分額 *注記
3,700千円 (直接経費: 3,700千円)
2006年度: 1,400千円 (直接経費: 1,400千円)
2005年度: 2,300千円 (直接経費: 2,300千円)
キーワード真空紫外光 / システムLSI / 貫通電極 / 絶縁膜 / 光CVD法 / 積層型システムLSI / エキシマランプ / 光CVD
研究概要

次世代システムLSIの概念の1つであるSystem in Package(SiP)実現のためには、さまざまな技術開発が必要とされている。その中でも貫通電極の作製においては、直径数ミクロン、深さ数十ミクロンという近年のLSIプロセスにとっては巨大構造物とも言える加工穴の内壁に絶縁膜の形成技術の開発が不可欠とされている。本研究では、これらに用いられる要素技術としてレーザー加工による加工穴の形成、真空紫外光による絶縁膜形成技術の開発を行った。レーザー加工についてはフェムト秒レーザーを用いた加工法を提案し、シリコン基板に対し加工実験を行った上で、加工精度向上の障害となっている熱影響の原因を調べるために、加工穴形成過程を時間分解イメージングすることで解析を行った。成膜実験においては、貫通穴を模した構造のシリコン基板を試作し、気相成長である真空紫外光CVD法と、液相材料を用いた方法の2通りで成膜実験を行い、形成特性を比較した。CVD法では、直径5μm、深さ50μmの貫通穴を模した構造内にもすき間なく入りこみ、内壁に絶縁膜を形成することができることが分かった。液相材料を用いた場合は、スプレー式アトマイザーを用いて微粒子化することにより残留する未反応物の少ない薄膜が作製できることが分かった。埋め込み特性についてはCVD法ほど良い結果は得られていないが、今後散布する雰囲気の圧力を下げることで向上が期待できる。

報告書

(3件)
  • 2006 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 2005 実績報告書
  • 研究成果

    (45件)

すべて 2007 2006 2005 その他

すべて 雑誌論文 (30件) 図書 (2件) 産業財産権 (13件)

  • [雑誌論文] FBG走査型狭帯域フィルタを使用したFBGセンサ用測定器の開発2007

    • 著者名/発表者名
      高濱 利光
    • 雑誌名

      電気学会論文誌E(センサ・マイクロマシン準部門誌) 127・1

      ページ: 19-24

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 実績報告書 2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] 真空紫外光で拓く環境調和型プロセス-真空紫外領域における光源の開発とその応用技術の開発2007

    • 著者名/発表者名
      甲藤 正人
    • 雑誌名

      ケミカルエンジニアリング 52・1

      ページ: 66-71

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 実績報告書 2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Nitridaton in Photon-Assisted Process using an Argon Excimer Lamp2006

    • 著者名/発表者名
      K.Toshikawa
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 45・5A

      ページ: 4012-4014

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 実績報告書 2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] A Photochemical Process Investigation of Slica Thin Films by an Irradiation from an Ar_2 Excimer Lamp2006

    • 著者名/発表者名
      Y.Maezono
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 45・35

      ページ: 944-946

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Periodic microstructures produced by femtosecond laser irradiation on titanium plate2006

    • 著者名/発表者名
      M.Tsukamoto
    • 雑誌名

      Vacuum 80

      ページ: 1346-1350

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 実績報告書 2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] PLD法における薄膜成長初期過程の観察2006

    • 著者名/発表者名
      吉田 智司
    • 雑誌名

      宮崎大学工学部紀要 35

      ページ: 113-118

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] 真空紫外光CVD法によるSiNx薄膜の低温作製2006

    • 著者名/発表者名
      甘利 紘一
    • 雑誌名

      宮崎大学工学部紀要 35

      ページ: 119-124

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 実績報告書 2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] 真空紫外光を用いたアクリル樹脂の反射防止コーティング技術の開発2006

    • 著者名/発表者名
      石村 想
    • 雑誌名

      宮崎大学工学部紀要 35

      ページ: 125-130

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 実績報告書 2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] FGB(Fiber Bragg Grating)を使用した多段式傾斜計の開発2006

    • 著者名/発表者名
      高濱 利光
    • 雑誌名

      地盤工学ジャーナル 1・3

      ページ: 95-103

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 実績報告書 2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Nitridaton in Photon-Assisted Process using an Argon Excimer Lamp2006

    • 著者名/発表者名
      K.Toshikawa
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 45-5A

      ページ: 4012-4014

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] A Photochemical Process Investigation of Slica Thin Films by an Irradiation from an Ar2^* Excimer Lamp2006

    • 著者名/発表者名
      Y.Maezono
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 45-35

      ページ: 944-946

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Periodic microstructures produced by femtosecond laser irradiation on titanium plate2006

    • 著者名/発表者名
      M.Tsukamoto
    • 雑誌名

      Vacuum 8

      ページ: 1346-1350

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] A Photochemical Process Investigation of Slica Thin Films by an Irradiation from an Ar_2^* Excimer Lamp2006

    • 著者名/発表者名
      Y.Maezono
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 45・35

      ページ: 944-946

    • 関連する報告書
      2006 実績報告書
  • [雑誌論文] PLD法における薄膜成長初期過程の観察2006

    • 著者名/発表者名
      吉田智司
    • 雑誌名

      宮崎大学工学部紀要 35

      ページ: 113-118

    • 関連する報告書
      2006 実績報告書
  • [雑誌論文] Nitridation in photon-assisted process using an argon excimer lamp2006

    • 著者名/発表者名
      K.Toshikawa
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Pysics 45(掲載決定)

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Amorphous silicon film deposition from SiH_4 by chemical vapor deposition with argon excimer lamp2005

    • 著者名/発表者名
      K.Toshikawa
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 44・11

      ページ: 7785-7788

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Time-resolving image analysis of drilling of thin silicon substrates with femto- second laser ablation2005

    • 著者名/発表者名
      A.Yokotani
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 44・11

      ページ: 7998-8003

    • NAID

      10016871257

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Poly-crystallized hydroxyapatite coating deposited by pulsed laser deposition method at room temperature2005

    • 著者名/発表者名
      M.Katto
    • 雑誌名

      Applied Surface Science 248・1

      ページ: 365-368

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] 物質表面における光化学反応の原子レベルでの観測と制御2005

    • 著者名/発表者名
      上村 一秀
    • 雑誌名

      宮崎大学工学部紀要 34

      ページ: 103-107

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Applications of OLEDs that use VUV-CVD films2005

    • 著者名/発表者名
      K.Toshikawa
    • 雑誌名

      Journal of the Society for Information Display 13・5

      ページ: 453-457

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Amorphous silicon film deposition from SiH4 by chemical vapor deposition with argon excimer lamp2005

    • 著者名/発表者名
      K.Toshikawa
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 44-11

      ページ: 7785-7788

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Time-resolving image analysis of drilling of thin silicon substrates with femto-second laser ablation2005

    • 著者名/発表者名
      A.Yokotani
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 44-11

      ページ: 7998-8003

    • NAID

      10016871257

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Poly-crystallized hydroxyapatite coating deposited by pulsed laser deposition method at room temperature2005

    • 著者名/発表者名
      M.Katto
    • 雑誌名

      Applied Surface Science 248-1

      ページ: 365-368

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Applications of OLEDs that use VUV-CVD films2005

    • 著者名/発表者名
      K.Toshikawa
    • 雑誌名

      Journal of the Society for Information Display 13-5

      ページ: 453-457

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Time-resolving image analysis of drilling of thin silicon substrates with femtosecond laser ablation2005

    • 著者名/発表者名
      A.Yokotani
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Pysics 44・11

      ページ: 7998-8003

    • NAID

      10016871257

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Amorphous silicon film deposition from SiH_4 by chemical vapor deposition with an Argon excimer lamp2005

    • 著者名/発表者名
      K.Toshikawa
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Pysics 44・11

      ページ: 7785-7788

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Poly-crystalized hydroxyapatite coating deposited by pulsed laser deposition method at room temperature2005

    • 著者名/発表者名
      M.Katto
    • 雑誌名

      Applied Surface Science 248

      ページ: 365-368

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Silicon Nitride Film Deposition by Photochemical Vapor Deposition using an Argon Excimer Lamp

    • 著者名/発表者名
      Y.Maezono
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics (in press)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Silicon Nitride Film Deposition by Photochemical Vapor Deposition using an Argon Excimer Lamp

    • 著者名/発表者名
      Y.Maezono
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics (in press)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Silicon Nitride Film Deposition by Photochemical Vapor Deposition using an Argon Excimer Lamp

    • 著者名/発表者名
      Y.Maezono
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics (in press)

    • 関連する報告書
      2006 実績報告書
  • [図書] バルク単結晶の最新技術と応用開発2006

    • 著者名/発表者名
      福田 承生
    • 総ページ数
      386
    • 出版者
      シーエムシー出版
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 実績報告書 2006 研究成果報告書概要
  • [図書] レーザーハンドブック2005

    • 著者名/発表者名
      レーザー学会
    • 総ページ数
      1226
    • 出版者
      オーム社
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [産業財産権] レーザーを用いたカラーソーター(異物混入判別装置および異物混入判別方法)2006

    • 発明者名
      甲藤 正人, 黒澤 崇
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2006-105595
    • 出願年月日
      2006-04-06
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 実績報告書 2006 研究成果報告書概要
  • [産業財産権] 薄膜作製方法2006

    • 発明者名
      横谷 篤至
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2006-133269
    • 出願年月日
      2006-05-12
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 実績報告書 2006 研究成果報告書概要
  • [産業財産権] プラスチック表面の改質方法、プラスチック表面のメッキ方法、プラスチック、プラスチック表面改質装置2006

    • 発明者名
      横谷 篤至, 黒澤 宏
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2006-136944
    • 出願年月日
      2006-05-16
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 実績報告書 2006 研究成果報告書概要
  • [産業財産権] 異物検出方法2006

    • 発明者名
      甲藤 正人, 黒澤 宏, 亀山 勝人
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2006-144427
    • 出願年月日
      2006-05-24
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [産業財産権] 水溶液あるいは微粒子懸濁液を用いた被膜生成手法(被膜生成方法および被膜生成装置)2006

    • 発明者名
      甲藤 正人, 東口 武史, 窪寺 昌一, 横谷 篤至
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2006-143925
    • 出願年月日
      2006-05-24
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [産業財産権] 光ファイバーブラッググレーティングおよびその作製方法(ファイバブラッググレーティングの消去方法、ファイバブラッググレーテイングの調整方法、ファイバブラッググレーティングを備え光部品の製造方法及び同光部品の製造装置)2006

    • 発明者名
      横谷 篤至, 前薗 好成
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2006-230997
    • 出願年月日
      2006-08-28
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [産業財産権] 異物検出方法2006

    • 発明者名
      甲藤 正人, 黒澤 宏, 穐山 勝人
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2006-144427
    • 出願年月日
      2006-05-24
    • 関連する報告書
      2006 実績報告書
  • [産業財産権] 光ファイバーブラッググレーティングおよびその作製方法(ファイバブラッググレーティングの消去方法、ファイバブラッググレーティングの調整方法、ファイバブラッググレーティングを備えた光部品の製造方法及び同光製品の製造装置)2006

    • 発明者名
      横谷 篤至, 前薗 好成
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2006-230997
    • 出願年月日
      2006-08-28
    • 関連する報告書
      2006 実績報告書
  • [産業財産権] プラスチックの表面の改質方法、プラスチック表面のメッキ方法、プラスチック・プラスチック表面改質装置2005

    • 発明者名
      横谷 篤至, 黒澤 宏
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2005-098776
    • 出願年月日
      2005-03-30
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [産業財産権] 被覆の窒化方法2005

    • 発明者名
      横谷 篤至
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2005-254698
    • 出願年月日
      2005-09-02
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [産業財産権] FBGを用いた歪み計測システム2005

    • 発明者名
      黒澤 宏, 横谷 篤至, 亀山 晃弘
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2005-306487
    • 出願年月日
      2005-10-21
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [産業財産権] FBG製造装置2005

    • 発明者名
      黒澤 宏, 横谷 篤至, 亀山 晃弘
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2005-306488
    • 出願年月日
      2005-10-21
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2006 研究成果報告書概要
  • [産業財産権] 被膜の窒化方法2005

    • 発明者名
      横谷 篤至
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2005-254698
    • 出願年月日
      2005-09-02
    • 関連する報告書
      2005 実績報告書

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公開日: 2005-04-01   更新日: 2016-04-21  

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