研究課題/領域番号 |
17656239
|
研究種目 |
萌芽研究
|
配分区分 | 補助金 |
研究分野 |
材料加工・処理
|
研究機関 | 独立行政法人日本原子力研究開発機構 |
研究代表者 |
吉越 章隆 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究副主幹 (00283490)
|
研究分担者 |
寺岡 有殿 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主幹 (10343922)
盛谷 浩右 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 博士研究員 (20391279)
|
研究期間 (年度) |
2005 – 2007
|
研究課題ステータス |
完了 (2007年度)
|
配分額 *注記 |
3,300千円 (直接経費: 3,300千円)
2007年度: 900千円 (直接経費: 900千円)
2006年度: 900千円 (直接経費: 900千円)
2005年度: 1,500千円 (直接経費: 1,500千円)
|
キーワード | 超音速分子線 / 表面ナノ薄膜形成プロセス / 放射光リアルタイム光電子分光 / 吸着過程 / 並進運動エネルギー / 表面反応ダイナミクス / Si / その場観察 / 固体表面 / 放射光 / リアルタイム光電子分光 / "その場"観察 / 表面反応ダイナミクス&キネティクス / 極薄膜形成 / 表面反応ダイナミクス&キネティクス / 極薄膜創製 |
研究概要 |
本研究の目的は、超音速分子ビームを固体表面に照射して熱反応等では不可能な化学反応を誘起し、機能性極薄膜を形成する方法を探索するとともにその反応機構を解明することにある。多くの研究成果が得られたがその中で平成19年度においては、(i)Si(111)-7x7表面、(ii)Ge(001)-2x1表面の酸素吸着過程における酸素分子の並進運動エネルギーの効果を中心に調べた。Si(111)-7x7表面の室温、ガス吸着条件における酸化反応の01sおよびSi 2pリアルタイム光電子分光スペクトルの詳細な解析から、酸素結合
|