新規193nm用フォトレジスト材料の開発

• 研究課題/領域番号: 17750103
• 研究種目: 若手研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 高分子化学
• 研究機関: 東京工業大学
• 研究代表者: 芝崎 祐二 東工大, 理工学研究科, 助手 (90323790)
• 研究期間 (年度): 2005
• 研究課題ステータス: 完了 (2005年度)
• 配分額: 1,900千円 (直接経費: 1,900千円); 2005年度: 1,900千円 (直接経費: 1,900千円)