| 研究課題/領域番号 |
17H03217
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
電力工学・電力変換・電気機器
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| 研究機関 | 豊橋技術科学大学 |
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研究代表者 |
滝川 浩史 豊橋技術科学大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (90226952)
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| 研究分担者 |
清原 修二 舞鶴工業高等専門学校, その他部局等, 准教授 (40299326)
金子 智 地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所, 電子技術部, グループリーダー (40426359)
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| 研究期間 (年度) |
2017-04-01 – 2020-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2019年度)
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| 配分額 *注記 |
18,200千円 (直接経費: 14,000千円、間接経費: 4,200千円)
2019年度: 3,640千円 (直接経費: 2,800千円、間接経費: 840千円)
2018年度: 4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2017年度: 10,140千円 (直接経費: 7,800千円、間接経費: 2,340千円)
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| キーワード | 真空アーク / パルスアーク / 電子ビーム蒸着 / 薄膜コーティング / ダイヤモンドライクカーボン / 機能性薄膜 / 耐熱性 / EB蒸着 / フィルタードアーク蒸着 / ダイヤモンドライクカーボン膜 / 耐熱性向上 / 電子ビーム蒸発 / 高温金型保護膜 |
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| 研究成果の概要 |
本研究では，フィルタードアーク蒸着（FAD）装置に，電子ビーム（EB）蒸着源を併用した新規のフィルタードアーク蒸着システムを新たに設計・開発した。開発したEB蒸着併用FAD装置を用いて，水素フリーかつ任意のSi含有量を持つSi-DLC膜を作製した。作製したSi-DLC膜は，高耐熱性膜として期待されたが，膜中に酸素が混入し，高い耐熱性は得られなかった。酸素混入は装置本体の性能が原因と考えられる。したがって，開発装置は，より高真空な環境を用意することで，Si-DLC膜の新たな可能性の検討に貢献できると期待される。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
本研究で開発した装置により，新規DLC膜の開発促進が期待できる。特に，Si-DLCのような高い耐熱性を持つDLC膜の実現は，ガラスレンズのモールド用材料（硝材）の利用範囲を拡大する。高屈折率の硝材が利用できるようになると，レンズの小型化・軽量化が可能となり，映像情報機器端末の高性能化に寄与できる。また，切削回転が高いほど，工具に要求される耐熱温度は高いことから，高回転切削工具用保護膜としても期待される。
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