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シリコンカーバイドによる極限環境エレクトロニクスの研究

研究課題

研究課題/領域番号 17H03253
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 電子デバイス・電子機器
研究機関広島大学

研究代表者

黒木 伸一郎  広島大学, ナノデバイス・バイオ融合科学研究所, 教授 (70400281)

研究分担者 大島 武  国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子応用研究所 先端機能材料研究部, 上席研究員(定常) (50354949)
牧野 高紘  国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子応用研究所 先端機能材料研究部, 主任研究員(定常) (80549668)
研究期間 (年度) 2017-04-01 – 2020-03-31
研究課題ステータス 完了 (2019年度)
配分額 *注記
17,420千円 (直接経費: 13,400千円、間接経費: 4,020千円)
2019年度: 3,640千円 (直接経費: 2,800千円、間接経費: 840千円)
2018年度: 3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2017年度: 9,880千円 (直接経費: 7,600千円、間接経費: 2,280千円)
キーワードシリコンカーバイド半導体 / 極限環境エレクトロニクス / CMOS集積回路 / 電子デバイス / 耐放射線 / シリコンカーバイド / MOSFET / 耐高温動作 / 廃炉技術 / 電子デバイス・電子機器 / 電子デバイス・集積回路 / 極限環境
研究成果の概要

本研究は極限環境下でも駆動可能な4H-SiC CMOS集積回路の構築を目的とし、高い放射線環境下でも動作可能なセルフアライン・短チャネル ・高移動度4H-SiC MOSFET sの実現を行った。セルフアライメントゲート・トレンチ4H-SiC MOSFETsを提案・試作し、動作実証を行った。この新しく提案したデバイスにより、高速動作で問題となるトランジスタの寄生容量低減を行うことができた。また短チャネル4H-SiC MOSFETsにおいて短チャネル効果が抑制されることを示した。異種元素導入によるゲート絶縁膜/SiC界面制御を行い、4H-SiC nMOSFETsのチャネル移動度向上に成功した。

研究成果の学術的意義や社会的意義

現在福島第一原発の廃炉活動には高放射線環境下でのロボットによる作業が必要であるが、ロボットのSi半導体集積回路は、高い放射線環境下で容易に破損する。また最先端科学である(1)金星探査なども含む宇宙探査、(2)高エネルギー物理を支える加速器、(3)国際熱核融合実験炉では、耐放射線性および超高温動作可能なエレクトロニクスが強く望まれている。本研究はこのような極限環境でも動作可能なエレクトロニクスを実現しようというものであり、特に本研究プロジェクトでは耐放射線性をもつ高速動作可能なシリコンカーバイド半導体デバイスの研究を進め実現を行った。

報告書

(4件)
  • 2019 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2018 実績報告書
  • 2017 実績報告書
  • 研究成果

    (75件)

すべて 2020 2019 2018 2017 その他

すべて 国際共同研究 (3件) 雑誌論文 (18件) (うち国際共著 5件、 査読あり 18件) 学会発表 (52件) (うち国際学会 25件、 招待講演 7件) 備考 (1件) 産業財産権 (1件)

  • [国際共同研究] KTH Royal Institute of Technology(スウェーデン)

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
  • [国際共同研究] スウェーデン王立工科大学(スウェーデン)

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
  • [国際共同研究] KTH Royal Institute of Technology(スウェーデン)

    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
  • [雑誌論文] CF4:O2 surface etching for the improvement of contact resistance and high-temperature reliability in Ni/Nb ohmic contacts on n-type 4H-SiC2020

    • 著者名/発表者名
      Vuong Van Cuong, Takamichi Miyazaki, Seiji Ishikawa, Tomonori Maeda, Hiroshi Sezaki, Yasuno Satoshi, Tomoyuki Koganezawa, Shin-Ichiro Kuroki
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 59 号: 5 ページ: 056501-056501

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ab86fe

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Influence of Ni and Nb thickness on low specific contact resistance and high-temperature reliability of ohmic contacts to 4H-SiC2019

    • 著者名/発表者名
      Vuong Van Cuong, Seiji Ishikawa, Tomonori Maeda, Hiroshi Sezaki, Yasuno Satoshi, Tomoyuki Koganezawa, Takamichi Miyazaki, Shin-Ichiro Kuroki
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 58 号: 11 ページ: 116501-116501

    • DOI

      10.7567/1347-4065/ab47ac

    • NAID

      210000157183

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Gamma-ray irradiation-induced mobility enhancement of 4H-SiC NMOSFETs with a Ba-silicate interface layer2019

    • 著者名/発表者名
      Kosuke Muraoka, Hiroshi Sezaki, Seiji Ishikawa, Tomonori Maeda, Takahiro Makino, Akinori Takeyama, Takeshi Ohshima and Shin-Ichiro Kuroki
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 58 号: 8 ページ: 081007-081007

    • DOI

      10.7567/1347-4065/ab2dab

    • NAID

      210000156569

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] 4H-SiC Trench pMOSFETs for High-Frequency CMOS Inverters2019

    • 著者名/発表者名
      Jun Inoue, Shin-Ichiro Kuroki, Seiji Ishikawa, Tomonori Maeda, Hiroshi Sezaki, Takahiro Makino, Takeshi Ohshima, Mikael Ostling, Carl-Mikael Zetterling
    • 雑誌名

      Materials Science Forum

      巻: 963 ページ: 837-840

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/msf.963.837

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] Direct Bonding of 4H-SiC and SOI Wafers for Radiation-Hardened Image Sensors2019

    • 著者名/発表者名
      Fumiaki Hasebe, Tatsuya Meguro, Takahiro Makino, Takeshi Ohshima, Yasunori Tanaka, Shin-Ichiro Kuroki
    • 雑誌名

      Materials Science Forum

      巻: 963 ページ: 726-729

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/msf.963.726

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Suppression of Short-Channel Effects in 4H-SiC Trench MOSFETs2019

    • 著者名/発表者名
      Tomoyasu Ishii, Shin-Ichiro Kuroki, Hiroshi Sezaki, Seiji Ishikawa, Tomonori Maeda, Takahiro Makino, Takeshi Ohshima, Mikael Ostling, Carl-Mikael Zetterling
    • 雑誌名

      Materials Science Forum

      巻: 963 ページ: 613-616

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/msf.963.613

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] Optimization of Ni/Nb Ratio for High-Temperature-Reliable Ni/Nb Silicide Ohmic Contact on 4H-SiC2019

    • 著者名/発表者名
      Vuong Van Cuong, Seiji Ishikawa, Hiroshi Sezaki, Tomonori Maeda, Satoshi Yasuno, Tomoyuki Koganezawa, Shin-Ichiro Kuroki
    • 雑誌名

      Materials Science Forum

      巻: 963 ページ: 498-501

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/msf.963.498

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Characterization of Ba-Introduced Thin Gate Oxide on 4H-SiC2019

    • 著者名/発表者名
      Kosuke Muraoka, Seiji Ishikawa, Hiroshi Sezaki, Tomonori Maeda, Shin-Ichiro Kuroki
    • 雑誌名

      Materials Science Forum

      巻: 963 ページ: 451-455

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/msf.963.451

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] High-Temperature Reliability of Ni/Nb Ohmic Contacts on 4H-SiC For Harsh Environment Applications2019

    • 著者名/発表者名
      Vuong Van Cuong, Seiji Ishikawa, Tomonori Maeda, Hiroshi Sezaki, Satoshi Yasuno, Tomoyuki Koganezawa, Takamichi Miyazaki, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 雑誌名

      Thin Solid Films

      巻: 669 ページ: 306-314

    • DOI

      10.1016/j.tsf.2018.11.014

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Low-parasitic-capacitance self-aligned 4H-SiC nMOSFETs for harsh environment electronics2018

    • 著者名/発表者名
      T. Kurose, S.-I. Kuroki, S. Ishikawa, T. Maeda, H. Sezaki, T. Makino, T. Ohshima, M.Ostling, and C.-M. Zetterling
    • 雑誌名

      Mat. Sci. Forum

      巻: 924 ページ: 971-974

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/msf.924.971

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] 4H-SiC pMOSFETs with Al-doped S/D and NbNi silicide ohmic contacts2018

    • 著者名/発表者名
      J. Kajihara, S.-I. Kuroki, S. Ishikawa, T. Maeda, H. Sezaki, T. Makino, T. Ohshima, M. Ostling, and C.-M. Zetterling
    • 雑誌名

      Mat. Sci. Forum

      巻: 924 ページ: 423-427

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/msf.924.423

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] Effects of CF4 surface etching on 4H-SiC MOS Capacitors2018

    • 著者名/発表者名
      K. Kobayakawa, K. Muraoka, H. Sezaki, S. Ishikawa, T. Maeda, and S.-I. Kuroki
    • 雑誌名

      Mat. Sci. Forum

      巻: 924 ページ: 465-468

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/msf.924.465

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Correlation between Field Effect Mobility and Accumulation Conductance at 4H-SiC MOS Interface with Barium2018

    • 著者名/発表者名
      Kosuke Muraoka, Seiji Ishikawa, Hiroshi Sezaki, Tomonori Maeda, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 雑誌名

      Mat. Sci. Forum

      巻: 924 ページ: 477-481

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/msf.924.477

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Electrical properties of Ti-Si-C Ohmic contact on ion-implanted n-type 4H-SiC C face2018

    • 著者名/発表者名
      Milantha De Silva, Teruhisa Kawasaki, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 雑誌名

      Mat. Sci. Forum

      巻: 924 ページ: 409-412

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/msf.924.409

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Formation of epitaxial Ti-Si-C Ohmic contact on 4H-SiC C face using pulsed-laser annealing2017

    • 著者名/発表者名
      Milantha De Silva, Teruhisa Kawasaki, Takamichi Miyazaki, Tomoyuki Koganezawa, Satoshi Yasuno, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett.

      巻: 110 号: 25 ページ: 2521081-2521085

    • DOI

      10.1063/1.4987136

    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] 4H-SiC Pseudo-CMOS Logic Inverters for Harsh Environment Electronics2017

    • 著者名/発表者名
      S-I. Kuroki, T. Kurose, H. Nagatsuma, S. Ishikawa, T. Maeda, H. Sezaki, T. Kikkawa, T. Makino, T. Ohshima, M. Ostling, and C.-M. Zetterling
    • 雑誌名

      Mat. Sci. Forum

      巻: 897 ページ: 669-672

    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] Low Resistance Ti-Si-C Ohmic Contacts for 4H-SiC Power Devices Using Laser Annealing2017

    • 著者名/発表者名
      Milantha De Silva, Teruhisa Kawasaki, Takamaro Kikkawa, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 雑誌名

      Mat. Sci. Forum

      巻: 897 ページ: 399-402

    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Enhanced-Oxidation and Interface Modification on 4H-SiC(0001) Substrate Using Alkaline Earth Metal2017

    • 著者名/発表者名
      Kosuke Muraoka, Hiroshi Sezaki, Seiji Ishikawa, Tomonori Maeda, Tadashi Sato, Takamaro Kikkawa, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 雑誌名

      Mat. Sci. Forum

      巻: 897 ページ: 348-351

    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] SiC 半導体による極限環境エレクトロニクス構築2020

    • 著者名/発表者名
      黒木伸一郎
    • 学会等名
      (公財)科学技術交流財団 第 3 回「厳環境下 IoT 向け 3C-SiC 技術研究会」
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Thickness Dependences on Interfacial Properties of SiO2/BaO2 layers on 4H-SiC (0001)2019

    • 著者名/発表者名
      Kousuke Muraoka, Seiji Ishikawa, Hiroshi Sezaki, Tomonori Maeda, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      8th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-VIII)
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 4H-SiC Pixel Device with UV Photodiode and MOSFETs for Radiation-Hardened UV Image Sensors2019

    • 著者名/発表者名
      Kenta Nishigaito, Tatsuya Meguro, Akinori Takeyama, Takeshi Ohshima, Yasunori Tanaka and Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019 (ICSCRM2019)
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Suppression of Ion Channeling Effects in 4H-SiC Substrate by Tilt Angle Control of Ion Implantation2019

    • 著者名/発表者名
      Tomonori Okada, Jun Inoue, Fumitaka Nishiyama, Hiroshi Sezaki, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      The International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019 (ICSCRM2019)
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Characterization of 4H-SiC MOS Capacitors with Different Metal Gates after 400°C High-Temperature Aging Tests2019

    • 著者名/発表者名
      Vuong Van Cuong, Seiji Ishikawa, Tomonori Maeda, Hiroshi Sezaki, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      The International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019 (ICSCRM2019)
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] High Temperature Reliability of 4H-SiC Devices and Single Stage 4H-SiC MOSFET Amplifier at 400℃2019

    • 著者名/発表者名
      Vuong Van Cuong, Seiji Ishikawa, Tomonori Maeda, Hiroshi Sezaki, Kousuke Muraoka, Tetsuya Meguro, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      The International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019 (ICSCRM2019)
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Pixel Array Integration with SOI-Si photodiode and 4H-SiC MOSFETs for Radiation-Hardened image sensors2019

    • 著者名/発表者名
      Tatsuya Meguro, Fumiaki Hasebe, Akinori Takeyama, Takeshi Ohshima, Yasunori Tanaka, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      The International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019 (ICSCRM2019)
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Radiation hardness of 4H-SiC JFETs in MGy dose ranges,” The International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019 (ICSCRM2019)2019

    • 著者名/発表者名
      A. Takeyama, K. Shimizu, T. Makino, Y. Yamazaki, S. Kuroki, Y. Tanaka, T. Ohshima
    • 学会等名
      The International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019 (ICSCRM2019)
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Thermal Reliability of 4H-SiC Devices and Integrated Circuits Based on 4H-SiC MOSFET at 400℃2019

    • 著者名/発表者名
      Vuong Van Cuong, Seiji Ishikawa, Tomonori Maeda, Hiroshi Sezaki, Kousuke Muraoka, Tetsuya Meguro, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      The 4th International Symposium on Biomedical Engineering (ISBE2019)
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Pixel Array Integration with SOI-Si photodiode and 4H-SiC MOSFETs for Radiation-Hardened image sensors2019

    • 著者名/発表者名
      Tatsuya Meguro, Fumiaki Hasebe, Akinori Takeyama, Takeshi Ohshima, Yasunori Tanaka, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      The 4th International Symposium on Biomedical Engineering (ISBE2019)
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Suppression of Ion Channeling Effects in 4H-SiC Substrate by Tilt Angle Control of Ion Implantation2019

    • 著者名/発表者名
      Tomonori Okada, Jun Inoue, Fumitaka Nishiyama, Hiroshi Sezaki, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      The 4th International Symposium on Biomedical Engineering (ISBE2019)
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 4H-SiC Pixel Device for UV Image Sensors2019

    • 著者名/発表者名
      Kenta Nishigaito, Tatsuya Meguro, Akinori Takeyama, Takeshi Ohshima, Yasunori Tanaka, Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      The 4th International Symposium on Biomedical Engineering (ISBE2019)
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] SiC による耐放射線エレクトロニクス技術開発2019

    • 著者名/発表者名
      田中 保宣,清水 奎吾,小野田 忍,武山 昭憲,牧野 高紘,大島 武, 目黒 達也,黒木 伸一郎
    • 学会等名
      応用物理学会 先進パワー半導体分科会 第6回講演会
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] SiC-NMOSFETs におけるガンマ線誘起移動度増加現象とその増加機構2019

    • 著者名/発表者名
      村岡幸輔,瀬崎洋,石川誠治,前田知徳,牧野高紘,大島武,黒木伸一郎
    • 学会等名
      応用物理学会 先進パワー半導体分科会 第6回講演会
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
  • [学会発表] 短チャネル SiC nMOSFET の温度特性評価2019

    • 著者名/発表者名
      石井友康,瀬崎洋,石川誠治,前田智徳,牧野高紘,大島武, 黒木伸一郎
    • 学会等名
      応用物理学会 先進パワー半導体分科会 第6回講演会
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
  • [学会発表] 耐放射線 UV イメージセンサのためのフル 4H-SiC 画素デバイス2019

    • 著者名/発表者名
      西垣内 健汰,目黒 達也,武山 昭憲,大島 武,田中 保宣,黒木 伸一郎
    • 学会等名
      応用物理学会 先進パワー半導体分科会 第6回講演会
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
  • [学会発表] イオン注入角制御による 4H-SiC Trench MOSFETs のしきい値制御2019

    • 著者名/発表者名
      岡田 智徳, 井上 純, 西山 文隆, 瀬崎 洋, 黒木 伸一郎
    • 学会等名
      応用物理学会 先進パワー半導体分科会 第6回講演会
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
  • [学会発表] 耐放射線イメージセンサに向けた SOI-Si/4H-SiC 画素集積化プロセス2019

    • 著者名/発表者名
      目黒 達也,長谷部 史明,武山 昭憲,大島 武,田中 保宣,黒木 伸一郎
    • 学会等名
      応用物理学会 先進パワー半導体分科会 第6回講演会
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
  • [学会発表] 耐放射線イメージセンサのための 4H-SiC/SOI 基板貼り合わせ技術2019

    • 著者名/発表者名
      長谷部史明,目黒達也,武山昭憲,大島武,田中保宣,黒木伸一郎
    • 学会等名
      応用物理学会 先進パワー半導体分科会 第6回講演会
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
  • [学会発表] ノーマリーオフ型 4H-SiC JFET のガンマ線耐性2019

    • 著者名/発表者名
      武山 昭憲,清水 奎吾,牧野 高紘,山﨑 雄一,大島 武,黒木 伸一郎,田中 保宣
    • 学会等名
      応用物理学会 先進パワー半導体分科会 第6回講演会
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
  • [学会発表] 耐放射線イメージセンサに向けたSOI-Si/4H-SiC画素集積化プロセス2019

    • 著者名/発表者名
      目黒 達也、長谷部 史明、武山 昭憲、大島 武、田中 保宣、黒木 伸一郎
    • 学会等名
      2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
  • [学会発表] 耐放射線UVイメージセンサのためのフル4H-SiC画素デバイス2019

    • 著者名/発表者名
      西垣内 健汰、目黒 達也、武山 昭憲、大島 武、田中 保宣、黒木 伸一郎
    • 学会等名
      2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
  • [学会発表] ノーマリーオフ型4H-SiC JFETのガンマ線照射効果2019

    • 著者名/発表者名
      武山 昭憲、清水 奎吾、牧野 高紘、山﨑 雄一、大島 武、黒木 伸一郎、田中 保宣
    • 学会等名
      2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
  • [学会発表] NVESTIGATION OF CF4:O2 SURFACE ETCHING IN Ni/Nb OHMIC CONTACT ON 4H-SiC FOR HARSH ENVIRONMENT ELECTRONICS2019

    • 著者名/発表者名
      Abhinav Bhansali, Vuong Van Cuong, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      応用物理学会 先進パワー半導体分科会 第14回研究会
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
  • [学会発表] 4H-SiC CMOS論理回路作製に向けたBOSCHプロセスによるSiCディープエッチング2019

    • 著者名/発表者名
      森本 剣偲郎、村岡 幸輔、児島 一聡、黒木 伸一郎
    • 学会等名
      2019年第66回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
  • [学会発表] イオン注入角制御による4H-SiC基板へのイオン注入高精度化2019

    • 著者名/発表者名
      岡田 智徳、井上 純、西山 文隆、瀬崎 洋、黒木 伸一郎
    • 学会等名
      2019年第66回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
  • [学会発表] Approach to realizing radiation-hardened devices2018

    • 著者名/発表者名
      Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      Fukushima Research Conference“Radiation Hardness and Smartness in Remote Technology for Nuclear Decommissioning” Organized by CLADS/JAEA
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] SiC極限環境エレクトロニクスと放射光による薄膜・界面状態分析2018

    • 著者名/発表者名
      黒木伸一郎
    • 学会等名
      SPring-8次世代先端デバイス研究会(第6回)/第32回SPring-8先端利用技術ワークショップ
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] (チュートリアル講演)パワーエレクトロニクスと ワイドバンドギャップ半導体2018

    • 著者名/発表者名
      黒木伸一郎
    • 学会等名
      薄膜材料デバイス研究会 第15回研究集会
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] 4H-SiC Trench pMOSFETs for High-Frequency CMOS Inverters2018

    • 著者名/発表者名
      J. Inoue, S-I. Kuroki, S. Ishikawa, T. Maeda, H. Sezaki, T. Makino, T Ohshima, M. Ostling, and C-M. Zetterling
    • 学会等名
      12th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ECSCRM2018)
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Optimization of Ni/Nb Ratio for High-Temperature-Reliable Ni/Nb Silicide Ohmic Contact on 4H-SiC2018

    • 著者名/発表者名
      Vuong Van Cuong, Seiji Ishikawa, Hiroshi Sezaki, Tomonori Maeda, Satoshi Yasuno, Tomoyuki Koganezawa, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      12th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ECSCRM2018)
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Direct Bonding of 4H-SiC and SOI Wafers for Radiation-Hardened Image Sensors2018

    • 著者名/発表者名
      Fumiaki Hasebe, Tatsuya Meguro, Takahiro Makino, Takeshi Ohshima, Yasunori Tanaka, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      12th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ECSCRM2018)
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Effects of High Gamma-Ray Radiation on 3C-SiC nMOSFETs2018

    • 著者名/発表者名
      Shin-Ichiro Kuroki, Kohei Nagano, Tatsuya Meguro, Akinori Takeyama, Takahiro Makino, Takeshi Ohshima, and Yasunori Tanaka
    • 学会等名
      12th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ECSCRM2018)
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Characterization of Ba-introduced thin gate oxide on 4H-SiC2018

    • 著者名/発表者名
      K. Muraoka, S. Ishikawa, H. Sezaki, T. Maeda, S.-I. Kuroki
    • 学会等名
      12th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ECSCRM2018)
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Suppression of Short-Channel Effects in 4H-SiC Trench MOSFETs2018

    • 著者名/発表者名
      T. Ishii, S.-I. Kuroki, H. Sezaki, S. Ishikawa, T. Maeda, T. Makino, T. Ohshima, M. Ostling, and C.-M. Zetterling
    • 学会等名
      12th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ECSCRM2018)
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Radiation Hardened Silicon Carbide Electronics2018

    • 著者名/発表者名
      K. Muraoka, S. Ishikawa, H. Sezaki, T. Maeda, T. Makino, T. Ohshima, S.-I. Kuroki
    • 学会等名
      Fukushima Research Conference“Radiation Hardness and Smartness in Remote Technology for Nuclear Decommissioning” Organized by CLADS/JAEA
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Short-channel 4H-SiC trench MOSFETs for harsh environment electronics2018

    • 著者名/発表者名
      T. Ishii, S.-I. Kuroki, H. Sezaki, S. Ishikawa, T. Maeda, T. Makino, T. Ohshima, M. Ostling, and C.-M. Zetterling
    • 学会等名
      Fukushima Research Conference“Radiation Hardness and Smartness in Remote Technology for Nuclear Decommissioning” Organized by CLADS/JAEA
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 4H-SiC nMOSFETs における表面CF4エッチングの効果2018

    • 著者名/発表者名
      小早川 貴一、村岡 幸輔、瀬崎 洋、石川 誠治、前田 知徳、黒木 伸一郎
    • 学会等名
      2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
  • [学会発表] 4H-SiC Trench MOSFETs による短チャネル効果の抑制効果2018

    • 著者名/発表者名
      石井 友康、黒木 伸一郎、瀬崎 洋、石川 誠治、前田 智徳、牧野 高紘、大島 武、Mikael Ostling 、Carl-Mikael Zetterling
    • 学会等名
      2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
  • [学会発表] 4H-SiC MOSFETs and Logic Inverters for Harsh Environment Electronics (Invited)2017

    • 著者名/発表者名
      Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      19th Takayanagi Kenjiro Memorial Symposium
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] 4H-SiC pMOSFETs with Al-doped S/D and NbNi silicide ohmic contacts2017

    • 著者名/発表者名
      J. Kajihara, S-I. Kuroki, S. Ishikawa, T. Maeda, H. Sezaki, T. Makino, T. Ohshima, M. Ostling, and C.-M. Zetterling
    • 学会等名
      The International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2017 (ICSCRM2017)
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Low-parasitic-capacitance self-aligned 4H-SiC nMOSFETs for harsh environment electronics2017

    • 著者名/発表者名
      T. Kurose, S.-I. Kuroki, S. Ishikawa, T. Maeda, H. Sezaki, T. Makino, T. Ohshima, M. Ostling, and C.-M. Zetterling
    • 学会等名
      The International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2017 (ICSCRM2017)
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Correlation between field effect mobility and accumulation conductance at 4H-SiC MOS interface with barium2017

    • 著者名/発表者名
      K. Muraoka, S. Ishikawa, H. Sezaki, T. Maeda, and S.-I. Kuroki
    • 学会等名
      The International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2017 (ICSCRM2017)
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Electrical properties of Ti-Si-C Ohmic contact on ion-implanted n-type 4H-SiC C face2017

    • 著者名/発表者名
      Milantha De Silva, Teruhisa Kawasaki, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      The International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2017 (ICSCRM2017)
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Metal/SiO2/SiCバンドアライメントのゲート電極金属依存性2017

    • 著者名/発表者名
      安野 聡、小金澤 智之、村岡 幸輔、小早川 貴一、石川 誠治、黒木 伸一郎
    • 学会等名
      2018年第65回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
  • [学会発表] 極限環境応用に向けた4H-SiC上Ni/Nbオーミックコンタクトの高温信頼性2017

    • 著者名/発表者名
      ヴォーン ヴァン クォン、石川 誠治、瀬崎 洋、前田 知徳、小金澤 智之、安野 聡、宮崎 孝道、黒木 伸一郎
    • 学会等名
      2018年第65回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
  • [学会発表] NbNiシリサイドS/D 3C-SiC nMOSFETsと高ガンマ線照射特性2017

    • 著者名/発表者名
      永野 耕平、目黒 達也、武山 昭憲、牧野 高紘、大島 武、田中 保宣、黒木 伸一郎
    • 学会等名
      2018年第65回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
  • [学会発表] 高周波CMOSインバータに向けた4H-SiCトレンチpMOSFETsの研究2017

    • 著者名/発表者名
      井上 純、黒木 伸一郎、石川 誠治、前田 知徳、瀬崎 洋、牧野 高紘、大島 武、Mikael Ostling、Carl-Mikael Zetterling
    • 学会等名
      2018年第65回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
  • [学会発表] Research on 400°C Thermal Stability of Ni/Nb Ohmic Contacts on 4H-SiC For Harsh Environment Applications2017

    • 著者名/発表者名
      Vuong Van Cuong, Milantha De Silva, Seiji Ishikawa, Hiroshi Sezaki, Tomonori Maeda, Takahiro Makino, Takeshi Ohshima, Yasunori Tanaka, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      応用物理学会 先進パワー半導体分科会 第4回講演会
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
  • [学会発表] 4H-SiC pMOSFETsの高温特性及びガンマ線曝露効果2017

    • 著者名/発表者名
      梶原純, 黒木伸一郎, 瀬崎洋, 石川誠治,前田知徳, 牧野高紘, 大島武, Mikael Ostling, and Carl-Mikael Zetterling
    • 学会等名
      応用物理学会 先進パワー半導体分科会 第4回講演会
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
  • [学会発表] Ba導入nMOSFETsに対するBTS試験およびガンマ線照射2017

    • 著者名/発表者名
      村岡幸輔,瀬崎洋,石川誠治,前田知徳,牧野高紘,大島武,黒木伸一郎
    • 学会等名
      応用物理学会 先進パワー半導体分科会 第4回講演会
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
  • [学会発表] 極限環境エレクトロニクスのための4H-SiC nMOSFETs セルフアラインプロセス2017

    • 著者名/発表者名
      黒瀬 達也、黒木 伸一郎、石川 誠治、前田 知徳、瀬崎 洋、牧野 高紘、大島 武、Mikael Ostling、Carl-Mikael Zetterling
    • 学会等名
      2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
  • [備考] 広島大学研究者総覧

    • URL

      http://seeds.office.hiroshima-u.ac.jp/profile/ja.76ec61dcb6e3d155520e17560c007669.html

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
  • [産業財産権] 炭化珪素半導体装置の製造方法及び炭化珪素半導体装置2020

    • 発明者名
      黒木伸一郎, 岡田智徳, 瀬崎洋
    • 権利者名
      黒木伸一郎, 岡田智徳, 瀬崎洋
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      2020-026991
    • 出願年月日
      2020
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書

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公開日: 2017-04-28   更新日: 2021-02-19  

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